【課題】０℃から５０℃において平均線膨張係数が極めて小さく、かつΔＬ／Ｌ曲線の傾きの変化が極めて小さい結晶化ガラスの製造方法を提供すること。
【解決手段】Ｌｉ_２Ｏ、Ａｌ_２Ｏ_３及びＳｉＯ_２の各成分を含有するガラスを熱処理し、結晶相にβ−石英及び／又はβ−石英固溶体を含む結晶化ガラスとする結晶化ガラスの製造方法であって、前記熱処理における少なくとも一つの保温工程Ｎ_Ｇは、
温度（℃）をｘ軸、時間（ｈ）をｙ軸として表したグラフにおいて、下記ＡからＤの４点の座標を結んだ領域内であることを特徴とする請求項１に記載の結晶化ガラスの製造方法。
Ａ：（Ｔｇ＋５０,０．１）
Ｂ：（Ｔｇ＋５０,４００）
Ｃ：（Ｔｇ＋８０,４００）
Ｄ：（Ｔｇ＋９５,０．１）
但しＴｇは前記結晶化ガラスの原ガラスのガラス転移点（℃）である。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、０℃から５０℃において平均線膨張係数が極めて小さく、かつΔＬ／Ｌ曲線の傾きの変化が極めて小さい結晶化ガラスを提供することであり、より具体的には０℃から５０℃において平均線膨張係数が０．０±０．２×１０^−７・℃^−１、ΔＬ／Ｌの最大値−最小値の絶対値が０℃から５０℃において１０×１０^−７以下、かつ２０℃〜３０℃におけるｄＣＴＥ／ｄＴ−温度曲線の値が−１．５ｐｐｂ・℃^−２から＋１．５ｐｐｂ・℃^−２の範囲内である結晶化ガラスを提供することである。
【解決手段】β−石英及び／又はβ−石英固溶体を含み、結晶化前後における屈折率ｎｄの変化量が０．０４以下である結晶化ガラス。 （もっと読む）

【課題】電子部品の高密度実装に用い、プリント配線板に構造材として多用される細番手のガラス繊維に関し、ホローファイバーの混入のない、均質な品位のガラス繊維、及びその製造方法と、ガラス繊維シート状物を提供する。
【解決手段】ガラス繊維は、酸化物換算の質量百分率表示で、ＳｉＯ_２ ７０〜８０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜２％、Ｂ_２Ｏ_３ １５〜２１．５％、ＭｇＯ ０〜１％、ＣａＯ ０〜２％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜２％、Ｎａ_２Ｏ ０〜３％、Ｋ_２Ｏ ０〜３％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ２〜５％の組成を含有し、ＳＯ_３の含有量が５０ｐｐｍ以下である。ガラス繊維の製造方法は、光学的な計測により得られるβ−ＯＨ値が０．５５／ｍｍ以上、０．６５／ｍｍ以下となるように熔融し、紡糸することで本発明のガラス繊維を製造する。ガラス繊維シート状物は、本発明のガラス繊維を有機樹脂材と複合化されて有機樹脂複合材を形成する用途で用いられる。 （もっと読む）

一定の外面形状を有し、反射コーティングが設けられるように意図され、かつミラー基板を意図されるように使用する際に高い負荷を受ける帯域として規定される、表面区域（surface region）を有する、ＥＵＶリソグラフィに使用されるミラー基板用の、高シリカ含有量を有するチタンドープガラス（ガラス）のブランクを製造する既知の方法に基づき、低コストで製造することができるにもかかわらず、均一性並びにブリスタ及び脈理がないことについて高い要件を満たすブランクを提供するために、（ａ）外面形状を包含するのに十分な大きさよりも大きい寸法を有するチタンをドープした高品質のガラスの前部体を作製する方法工程と、（ｂ）チタンドープガラスから円筒形の支持用基体（supporting body）を作製する方法工程と、（ｃ）前部体と支持用基体とを結合させる方法工程であって、複合体を形成する、前部体と支持用基体とを結合させる方法工程と、（ｄ）複合体を加工する方法工程であって、ミラー基板用ブランクを形成する、複合体を加工する方法工程とを含む手法が提案され、ここで、前部体を作製する工程は、ケイ素含有化合物の火炎加水分解によってストランドの形態で得られる出発用基体（starting body）をねじり加工して、前部体ブランクを形成することを伴う均一化プロセスを含み、支持用基体は、前部体よりも均一性の低い一体構造のガラスブロックとして形成される。 （もっと読む）

【課題】 現行の「ＵＬＥ」ガラスに可能なよりも広い温度範囲に亘り安定な熱膨張を有し、表面粗さ要件を満たすように研磨できる低熱膨張ガラスを提供する。
【解決手段】 この低膨張ガラスは、前面５、背面７および厚さＴを有する基礎ガラス材料３であって、１０質量％から２０質量％のチタニアおよび８０質量％から９０質量％のシリカから実質的になる基礎ガラス材料３、および基礎ガラス材料３の少なくとも前面５に施された、チタニアおよびシリカから実質的になるガラス被覆材料９であって、ガラス被覆材料９中のチタニアの総量が基礎ガラス材料３中のチタニアの総量より少ないガラス被覆材料９を有してなる。基礎ガラス材料３が、ほぼ１０℃から１００℃の温度範囲において実質的にゼロである熱膨張係数を有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】結晶化ガラスの熱膨張特性を精密に制御する製造方法を提供することであり、詳しくは所望の温度範囲におけるＣＴＥ-温度曲線の傾き、および平均線膨張係数を精密に制御する結晶化ガラスの製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラスを熱処理する工程を含む結晶化ガラスの製造方法であって、前記ガラスを熱処理する工程は、少なくとも昇温工程及び降温工程を有し、前記降温工程における降温速度Ｖｒを調整することにより所望の温度範囲における平均線膨張係数を調整する、結晶化ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】酸素イオン伝導モジュールの使用温度域以上（例えば８００〜１０００℃）の高温下においても、セラミック部材と金属部材とが高い耐熱性を有して気密に接合されている酸素イオン伝導モジュールを提供すること。また、そのようなシール部を形成するために用いるシール材を提供すること。
【解決手段】本発明によって提供される酸素イオン伝導モジュール１００は、酸素イオン伝導性を有するセラミックスからなるイオン伝導部材１４を少なくとも備えたセラミック部材１０と、セラミック部材に接合された金属部材２０，３０とから構成される。セラミック部材１０と金属部材２０，３０との接合部分には、該接合部分におけるガス流通を遮断するシール部４０が形成されており、シール部４０は、ガラスマトリックス中にリューサイト結晶および／またはクリストバライト結晶が析出しているガラスによって形成されている。 （もっと読む）

【課題】半導体薄膜等に近い熱膨張係数と高い歪点とを有し、フロート法による連続生産に適したガラス基板を提供する。
【解決手段】質量％表示で、５８．５〜６９．５％ＳｉＯ₂、２．５〜９．９％Ａｌ₂Ｏ₃、０〜２．５％Ｌｉ₂Ｏ、０％以上６％未満Ｎａ₂Ｏ、０％以上６％未満Ｋ₂Ｏ、０％より多く５．２％以下ＭｇＯ、３％より多く１３％以下ＣａＯ、１０〜２７％ＳｒＯ、０％以上５％未満ＢａＯ、０〜３％ＴｉＯ₂、０〜９．８％ＺｒＯ₂を含有し、ＳｉＯ₂＋Ａｌ₂Ｏ₃７３％以下、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ６％未満、３％＜ＭｇＯ＋ＣａＯ≦１６％、ＳｒＯ＋ＢａＯ１０〜２７％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ２１〜３３％、モル分率に基づくＭｇＯ／ＣａＯ０．２〜１．０、Ｂ₂Ｏ₃を実質的に含まず、ガラス転移点＞５５５℃、液相温度≦１２００℃、平均熱膨張係数≦７５×１０^-7／℃であるガラス基板とする。 （もっと読む）

【課題】非常に低いＣａＯ含有量にもかかわらず、アパタイト結晶を有し、これらのアパタイト結晶がさらに、非常に小さく、特に、ナノスケールの範囲内であり、従って、光学特性の観点で自然の歯の材料と非常に類似している、リンケイ酸ガラスセラミックを提供すること。
【解決手段】フルオロアパタイトおよび白榴石結晶を有し、そしてその特性に起因して、歯科用合金上にプレスして歯科用修復物を製造するために特に適切である、本発明のリンケイ酸ガラスセラミックにより上記課題は達成される。 （もっと読む）

【課題】グラファイト製成型容器の使用に起因する内部異物の発生や泡の巻き込みが解消されたＴｉＯ₂を含有するシリカガラスの成型方法の提供。
【解決手段】グラファイト製成型容器の成型面側の表面、および、該成型容器内に設置されるＴｉＯ₂を含有するシリカガラスの表面の少なくとも一方に、ＳｉＯ₂粒子を含む懸濁液を塗布した後、前記グラファイト製成型容器内にＴｉＯ₂を含有するシリカガラスを設置し、前記成型容器内で前記ＴｉＯ₂を含有するシリカガラスを、不活性ガス雰囲気下、１５００℃以上の温度で成型して、所望の形状の成型体を得ることを特徴とするチタニアドープト石英ガラスの成型方法。 （もっと読む）

本発明は、線熱膨張係数が３５から６０．１０^−７／℃である第１非強化ガラス基板（Ｓ１）を含むエレクトロクロミック装置であって、該基板（Ｓ１）が、少なくとも１つの透明導電層（２、４）、エレクトロクロミック物質層（ＥＣ２）、イオン導電性電解質（ＥＬ）および対電極（ＥＣ１）を含む積層でコーティングされる装置に関する。
（もっと読む）

本発明は、高性能ガラスセラミック、また該ガラスセラミックの製造方法に関する。６０〜７３のＳｉＯ_２、１５〜２５のＡｌ_２Ｏ_３、２．２〜５のＬｉ_２Ｏ、０〜５のＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ、０〜５のＴｉＯ_２、０〜５のＺｒＯ_２、０〜４のＺｎＯ、０〜３のＳｂ_２Ｏ_３、０〜３のＭｇＯ、０〜３のＳｎＯ_２、０〜９のＰ_２Ｏ_５、０〜１．５のＡｓ_２Ｏ_３、０〜１のＮａ_２Ｏ、０〜０．５のＫ_２Ｏ、０〜１．２のＮａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ、及び０〜１の着色酸化物の組成を重量％で有するリチウムアルミニウムシリケート（ＬＡＳ）であり得る、ガラス又はガラスセラミック材料が使用される。素地に、所定の加熱速度で室温〜６６０℃、所定のプロセス時間で加熱速度をゼロまで徐々に減少させ、一定とするセラミック化熱処理を施し、所定の最大温度に加熱し、最大温度での保持時間を有さず、所定の冷却速度で室温まで冷却する。 （もっと読む）

ナトリウム含有アルミノケイ酸塩およびアルミノホウケイ酸塩ガラスがここに記載されている。これらのガラスは、光起電装置、例えば、ＣＩＧＳ光起電装置などの薄膜光起電装置のための基板として使用できる。これらのガラスは、５４０℃以上の歪み点、６．５から９．５ｐｐｍ／℃の熱膨張係数、並びに５０，０００ポアズ長の液相線粘度を有すると特徴付けられる。それゆえ、それらのガラスは、フュージョン法により板に成形するのに理想的に適している。 （もっと読む）

フュージョン成形可能な、高歪み点のナトリウム不含有のケイ酸塩、アルミノケイ酸塩およびアルミノホウケイ酸塩ガラスの組成範囲がここに記載されている。このガラスは、光起電装置、例えば、ＣＩＧＳ光起電装置などの薄膜光起電装置のための基体として使用できる。これらのガラスは、５４０℃以上の歪み点、６．５から１０．５ｐｐｍ／℃の熱膨張係数、並びに５０，０００ポアズ超の液相線粘度を有するものとして特徴付けられる。それゆえ、そのガラスは、フュージョン法により板に成形するのに理想的に適している。 （もっと読む）

本発明の対象は、ヒ素およびアンチモンを含まないリチウム−アルミノケイ酸塩タイプのガラスセラミックプレートであり、４００ｎｍと５００ｎｍとの間の少なくとも１つの波長について４ｍｍの厚さの場合のその光透過率は０．２％と４％との間である。 （もっと読む）

【課題】 原料ガスとして高純度酸素を使用したときに問題となるオゾン濃度の低下を回避する。
【解決手段】 一対の電極間にオゾン発生用の放電空隙を形成するために、一対の電極に接して誘電体が配置されたオゾン発生装置用放電セルにおいて、前記誘電体の体積抵抗率を１０¹⁴Ω・ｃｍ以上とする。前記誘電体の表面に、オゾン濃度の低下を防止するための機能膜として、体積抵抗率が１０⁶ Ω・ｃｍ以上、１０¹³Ω・ｃｍ以下である低抵抗層を形成する。 （もっと読む）

【課題】高い化学的耐久性を有し、高密度実装のプリント配線板で要求される低誘電率と低誘電正接を実現し、さらに低熱膨張係数を有する無機充填材を提供する。
【解決手段】本発明の無機充填材は、酸化物換算の質量百分率表示でＳｉＯ_２ ４５〜６５％、Ａｌ_２Ｏ_３ １０〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ １３〜２５％、ＭｇＯ ５．５〜９％、ＣａＯ ０〜１０％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０〜１％、ＳｒＯ及びＢａＯを含むガラスを含有する。無機充填材の製造方法は、有機樹脂材と複合化されて有機樹脂複合材を形成する用途で用いられるものである。また本発明の無機充填材の製造方法は、本発明の無機充填材を製造する製造方法であって、無機充填材前駆体であるガラス繊維、ガラスビーズ、ガラスカレット及びガラスロッドの何れかを粉砕する粉砕工程を含むものである。 （もっと読む）

【課題】レーザー光等の照射光による局所加熱に好適であるとともに、低軟化特性と高耐水性を両立させた有機ＥＬ照明用封着材料を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ照明用封着材料として、ビスマス系ガラス粉末２５〜１００体積％、耐火性フィラー粉末０〜７５体積％含有し、且つビスマス系ガラス粉末が、ガラス組成として、ＣｕＯ＋Ｆｅ_２Ｏ_３を０．２〜１５質量％含有する。 （もっと読む）

【課題】Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕ等の低抵抗金属と同時焼成が可能であり、しかも高い機械的強度と低熱膨張性を実現する、高強度低熱膨張性磁器及びその製造方法の提供。
【解決手段】式（１）


（式中、ｘは質量比で０．０３〜０．２であり、α、β、γ及びδは質量％比でα：β：γ：δ＝７．６〜１３．２：４〜１０．３：１３〜３０．４：５３．７〜７２．８である。）で示される組成を有する複合酸化物を含む高強度低熱膨張性磁器及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＣＳＰ等の用途に要求される種々の特性を満足する無アルカリガラス、特にＳｉと整合する熱膨張係数を有し、またＡｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３を用いなくても泡品位に優れており、しかも低コストで薄板の成形が可能である無アルカリガラスを提供すること。
【解決手段】本発明の無アルカリガラスは、ガラス組成として、下記酸化物換算の質量％で、ＳｉＯ_２ ４５〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ １０〜３０％、Ｂ_２Ｏ_３ １１〜２０％含有し、Ａｓ_２Ｏ_３の含有量が０．１％未満、Ｓｂ_２Ｏ_３の含有量が０．１％未満、アルカリ金属酸化物の含有量が０．１％未満であり、且つ熱膨張係数（３０〜３８０℃）が３０〜３５×１０^−７／℃であることを特徴とする。 （もっと読む）