【課題】エッチングレートを向上させることによりカバーガラスの生産効率を向上し、さらには、複雑な形状であっても、形状精度の高いカバーガラスを形成することができるカバーガラスの製造方法およびカバーガラスを提供する。
【解決手段】カバーガラスは、ダウンドロー法により成形されたガラス基板をエッチング加工し、かつ、ガラス主表面に圧縮応力層を有するように化学強化したカバーガラスである。前記ガラス基板は、成分としてＳｉＯ_２を５０〜７０質量％、Ａｌ_２Ｏ_３を５〜２０質量％、Ｎａ_２Ｏを６〜３０質量％、および、Ｌｉ_２Ｏを０〜８質量％未満含む。必要に応じて、ＣａＯを０〜２．６質量％含む。前記ガラス基板は、濃度１０質量％のフッ化水素を含む２２℃のエッチング環境で、３．７μｍ／分以上のエッチングレートのエッチング特性を有する。 （もっと読む）

【課題】製造時におけるガラス溶融の熱履歴が変動した場合であっても可視光透過特性のばらつきが小さく、かつ、長期にわたる使用によっても色合いが変化しにくい結晶化ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ５５〜７３％、Ａｌ_２Ｏ_３ １７〜２５％、Ｌｉ_２Ｏ ２〜５％、ＴｉＯ_２ ２．５〜５．５％、ＺｒＯ_２ ０〜２．３％、ＳｎＯ_２ ０．２〜０．９％、Ｖ_２Ｏ_５ ０．００５〜０．０９％を含有し、Ａｓ_２Ｏ_３およびＳｂ_２Ｏ_３を実質的に含有しないことを特徴とする結晶化ガラス。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板の主表面の研磨のために従来から研磨剤として使用されてきた酸化セリウムよりも、主表面を平らにする点、主表面のスクラッチの生じにくさの点でより優れた研磨剤を使用した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
研磨液を用いて磁気ディスク用ガラス基板の主表面を研磨するときに、研磨液として、主表面の算術平均粗さを０．５ｎｍ以下とし、かつ主表面のマイクロウェービネス（MW-Rq）を０．５ｎｍ以下とすべく、アルミニウム系の研磨剤として粒状のベーマイトおよび／またはギブサイトを含むものを使用する。 （もっと読む）

【課題】配線のダメージあるいは真空度劣化を回避し、高信頼性、かつ長寿命の平面型ディスプレイ装置を構成するのに好適な接合用ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物換算で、Ｖ₂Ｏ₅：２５〜５０ｗｔ％、ＢａＯ：５〜３０ｗｔ％、ＴｅＯ₂：２０〜４０ｗｔ％、ＷＯ₃：１〜２５ｗｔ％、Ｐ₂Ｏ₅：０〜２０ｗｔ％を含有する。 （もっと読む）

【課題】成形時のガラスの耐失透性を維持した上で、イオン交換性能が高く機械的強度が向上した強化ガラスを提供する。
【解決手段】圧縮応力層を有する強化ガラスにおいて、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２４５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３５〜２５％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ８〜３０％、Ｎａ_２Ｏ８〜２０％、Ｋ_２Ｏ０〜１０％含有し、β−ＯＨ値が０．０１〜０．５／ｍｍであることを特徴とする。ガラス中のβ−ＯＨ値を制御するために、使用する原料の含水量を選択する等の処理を行う。 （もっと読む）

【課題】 Ａｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３を含まないにも関わらず、電気リボイルによる泡不良を抑制することが可能なＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 白金又は白金合金装置を含む溶融設備を使用するとともに、電気による加熱を用いてＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスを製造するＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスの製造方法において、得られる結晶化ガラス中のＣｌ含有量が５０ｐｐｍ以上となるようにガラス原料にＣｌ化合物を添加することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、特に加熱体をカバーすることを目的とする、ケイ素、アルミニウム、リチウムの酸化物ベースのガラスセラミックプレートに関する。
【解決手段】本発明に従うと、前記プレートは少なくとも５０％のくもりを呈する。本発明は同様に、このようなプレートの製造方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】 プラスチックパッケージに適合する熱膨張係数を有し、また画像検査で異物や塵等の有無を正確に検知することができ、またα線放出量が常に少ない半導体パッケージ用カバーガラスとその製造方法を提供する。
【解決手段】 質量％で、ＳｉＯ_２ 〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ １．１〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１０％、Ｎａ_２Ｏ ０．１〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１１％、アルカリ土類金属酸化物 ０〜２０％含有し、３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数が９０〜１８０×１０^−７／℃、ヤング率が６８ＧＰa以上、ガラスからのα線放出量が、０．０５ｃ／ｃｍ^２・ｈｒ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ガラスのエッチング速度と耐失透性を両立させ、生産性を向上させることが可能なカバーガラスを提供する。
【解決手段】
ダウンドロー法により製造される化学強化用ガラス基板を化学強化し、表面に圧縮応力層が形成された化学強化ガラス基板からなり、該化学強化用ガラス基板は、質量％表示で、ＳｉＯ_２ ５０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ５〜２０％、Ｎａ_２Ｏ ６〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ２％超〜２０％およびＺｒＯ_２ ０〜４．８％を含み、かつ（１）ＳｉＯ_２含有率−1/2Ａｌ_２Ｏ_３含有率が４６．５〜５９％、（２）ＣａＯ／ＲＯ（ただし、ＲはＭｇ、Ｃａ、ＳｒおよびＢａの中から選ばれる少なくとも１種である。）含有量比が０．３超である、（３）ＳｒＯ含有率＋ＢａＯ含有率が１０％未満である、（４）（ＺｒＯ_２＋ＴｉＯ_２）／ＳｉＯ_２含有量比が０〜０．０７未満である、および（５）Ｂ_２Ｏ_３／Ｒ^１_２Ｏ（ただし、Ｒ^１はＬｉ、ＮａおよびＫの中から選ばれる少なくとも１種である。）含有量比が０〜０．１未満である、ことを特徴とするカバーガラスである。 （もっと読む）

【課題】ガラス原料を高温で溶融してガラス化する段階を省略することにより、大量生産と製造コスト低減を可能にする、負の熱膨張係数を有する結晶化ガラスの製造方法の提供。
【解決手段】製造方法は、（ａ）組成物を秤量及び混合する段階と、（ｂ）混合した組成物をか焼する段階と、（ｃ）か焼した組成物を焼結する段階と、（ｄ）焼結した組成物を常温で炉冷すると段階を含み、結晶化ガラスは、シリカ（ＳｉＯ_２）３８％〜６４％と、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）３０％〜４０％と、酸化リチウム（Ｌｉ_２Ｏ）５％〜１２％とを基本組成として含み、前記基本組成にジルコニア（ＺｒＯ_２）０．５％〜１５％、二酸化チタン（ＴｉＯ_２）０．５％〜６．５％、五酸化リン（Ｐ_２Ｏ_５）０．５％〜４％、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）２％〜５％、及びフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）０％〜５％から選択された１つ又はそれ以上の成分をさらに含む。 （もっと読む）

【課題】材料内部における物性の均一性や、異なる製造ロット間での物性の再現性に優れた結晶化ガラス、および、そのような結晶化ガラスを高い歩留まりで容易に低コストで製造する方法を提供すること。
【解決手段】結晶化ガラスの製造方法であって、原ガラスの屈伏点をＡｔ（℃）とする時、原ガラスをＡｔ（℃）から（Ａｔ＋１２０）℃の温度範囲で熱処理する結晶化前工程と、結晶化前工程の後、前記結晶化前工程より高い温度で熱処理する結晶化工程と、を少なくとも含む結晶化ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】Ａｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３の代替清澄剤としてＳｎＯ_２を用いたＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスにおいて、Ｆｅ_２Ｏ_３やＴｉＯ_２等に起因する黄色の着色が少なく、かつ、優れた透明感を有する結晶化ガラスを得る。また、低熱膨張特性および低誘電損失特性を達成しやすい白色のＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスを得る。
【解決手段】組成として質量％で、ＳｉＯ_２ ５５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ２０．５〜２７％、Ｌｉ_２Ｏ ２％以上、ＴｉＯ_２ １．５〜３％、ＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２ ３．８〜５％、ＳｎＯ_２ ０．１〜０．５％を含有し、３．７≦Ｌｉ_２Ｏ＋０．７４１ＭｇＯ＋０．３６７ＺｎＯ≦４．５かつＳｒＯ＋１．８４７ＣａＯ≦０．５の関係を満たすことを特徴とするＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラス。 （もっと読む）

【課題】
焼きなまし速度の変化を通じて、透過特性の改善とＣＴＥの絶対値の調整の両方を同時に生じる、ＣＴＥの絶対値を調整する手段。
【解決手段】
１つの実施の形態では、本開示は、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞９０％／ｃｍ、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞９３％／ｃｍ、または、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞９５％／ｃｍの内部透過性を有するシリカ・チタニアガラスを対象とする。別の実施の形態では、本開示は、ガラスでできた光学系部材の全般的な透過性が、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞８４％、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞８６％、または３３０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞８８％である、シリカ・チタニアガラスを対象とする。さらなる実施の形態では、シリカ・チタニアガラスは、３重量ｐｐｍ未満のＴｉ⁺³濃度レベルを有する。 （もっと読む）

【課題】
ガラスの［ＯＨ］含有量および仮想温度の変化を通じて、低熱膨張性のシリカ・チタニアガラスの膨張性を調整および改善する。
【解決手段】
ガラスにおける［ＯＨ］濃度は６００〜２５００ｐｐｍの範囲でありうる。仮想温度Ｔ_Fは９００℃未満である。 （もっと読む）

【課題】低レベルのストリエーションを有する極紫外光光学素子及び極紫外光光学素子を製造するためのガラスブールを提供する。
【解決手段】研磨され、整形された表面を有し、０.２メガパスカル（ＭＰａ）より小さい山対谷ストリエーションレベルを有する、チタニア含有シリカガラスを含み、当該ガラスが、５重量％と１０重量％の間のチタニアを含有する。前記ガラスは、２０℃と３５℃の間で＋３０ｐｐｂ／℃から−３０ｐｐｂ／℃の範囲の熱膨張係数（ＣＴＥ）を有する。 （もっと読む）

【課題】高屈折率で低温軟化性を有し、かつ平均熱膨張係数の小さなガラス組成物、および基板上にそれを具備する部材を提供する。
【解決手段】本発明のガラス組成物は、屈折率（ｎ_ｄ）が１．８８以上２．２０以下、ガラス転移温度（Ｔ_ｇ）が４５０℃以上５１５℃以下、および５０℃から３００℃までの平均熱膨張係数（α_{５０−３００}）が６０×１０^−７／Ｋ以上９０×１０^−７／Ｋ以下であって、Ｂｉ_２Ｏ_３の含有量は酸化物基準のモル％表示で５〜３０％であり、ＺｎＯの含有量は酸化物基準のモル％表記で４〜４０％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低温かつ短時間で化学強化できるディスプレイ装置用ガラスを提供する。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を６１〜７２％、Ａｌ_２Ｏ_３を８〜１７％、Ｌｉ_２Ｏを６〜１８％、Ｎａ_２Ｏを２〜１５％、Ｋ_２Ｏを０〜８％、ＭｇＯを０〜６％、ＣａＯを０〜６％、ＴｉＯ_２を０〜４％、ＺｒＯ_２を０〜２．５％含有し、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量の合計Ｒ_２Ｏが１５〜２５％、Ｌｉ_２Ｏの含有量とＲ_２Ｏの比Ｌｉ_２Ｏ／Ｒ_２Ｏが０．３５〜０．８、ＭｇＯおよびＣａＯの含有量の合計が０〜９％であるディスプレイ装置用ガラス。 （もっと読む）

【課題】ガラスのヤング率が高く、またシリコンと広い温度範囲で熱膨張係数が近似したＣＳＰにて製造される固体撮像装置に特に好適に使用できる固体撮像装置用カバーガラスを提供すること。
【解決手段】質量％で、ＳｉＯ_２ ５６〜６６％、Ａｌ_２Ｏ_３ ９〜２６％、Ｂ_２Ｏ_３ １〜１１％、ＭｇＯ ０〜６％、ＣａＯ ０〜６％、ＺｎＯ ４〜１３％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜４．０％、Ｎａ_２Ｏ ０〜５．０％、Ｋ_２Ｏ ０〜６．０％、ただし、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ １％以上を含有し、３０〜３００℃の範囲における平均熱膨張係数が３０〜３８×１０^−７Ｋ^−１、ヤング率が７８ＧＰａ以上の固体撮像装置用カバーガラスである。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながらも低いアッベ数（ν_ｄ）を有し、可視光に対する透明性が高く、且つ研磨加工やプレス成形を行い易い光学ガラス及び光学素子を提供する。
【解決手段】この光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＰ_２Ｏ_５成分を５．０％以上４０．０％以下、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を１０．０％以上６０．０％以下含有し、１００以上４００以下の磨耗度を有する。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とするものである。 （もっと読む）

【課題】耐酸性に優れた結晶化ガラスを創案することにより、結晶化ガラスの表面において、化学的腐食に起因した微細なクラックが発生する事態を防止すること。
【解決手段】本発明の結晶化ガラスは、燃焼装置の構成部材に用いる結晶化ガラスであって、表面にＫリッチ層が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）