【課題】ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３系、又はＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系の結晶化ガラスに特徴のある諸物性を維持しつつ、砒素成分やアンチモン成分の含有量が極力少ない、又は砒素成分やアンチモン成分を含まない結晶化ガラス及び結晶化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ＳｉＯ_２及びＡｌ_２Ｏ_３の各成分を含有する結晶化ガラスに清澄剤としてＳｎＯ_２成分及び／又はＣｅＯ_２成分を含有させることにより、好ましくはこれらの成分の含有量を特定の範囲とすることにより所望の結晶化ガラスを得る事ができる。 （もっと読む）

本発明は、脈理の減少した低膨張ガラスであって、その厚さに亘り０．１質量％以下のチタニア含有量の２地点間の変動および５〜３５℃の温度範囲に亘り０±３ｐｐｂ／℃のＣＴＥを有するガラスに関する。本発明はさらに、プロセスに用いられる振動パターンの繰返し時間が１０分以下である方法を使用することによって、前記低膨張ガラスを製造する方法に関する。その上、本発明の低膨張ガラスは、ガラスを１６００℃より高い温度で４８〜１６０時間の範囲の期間に亘り熱処理することによってさらに減少した脈理を有することができる。本発明は、極紫外線リソグラフィーに適した光学素子であって、５〜１０質量％の範囲のチタニア含有量、研磨された造形表面、１０ｎｍ未満の山から谷の粗さ、ガラスの垂直厚さを通して測定された±０．１質量％未満のチタニア含有量の平均変動および５〜３５℃の温度範囲に亘る０±３ｐｐｂ／℃の熱膨張係数を有するチタニア含有シリカガラスから製造された素子にも関する。
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【課題】鉛を含有せずに、低い熱膨張係数と高い流動性を有するガラスフリットを提供する。
【解決手段】リン酸塩系ガラス、ビスマス系ガラスなどの無鉛低融点ガラス粉末２０〜９５体積％とアルミナ、ケイ酸ジルコニウムなどの球状酸化物粉末５〜８０体積％とを含むガラスフリットである。球状酸化物粉末には、燃焼法によって作られたものが好ましい。球状酸化物粉末の平均粒子径が０．５〜４０μｍであることが好ましい。 （もっと読む）

本発明は、８５〜１１５×１０^-7／℃の範囲の熱膨張係数を有する高結晶性フリット焼結ガラスセラミック組成物に関する。本発明のガラスセラミックの主結晶相はサイクロケイ酸塩構造を持つ。本発明のガラスセラミックは、金属対金属、金属対セラミックおよびセラミック対セラミックのシール剤、並びに金属とセラミックのための高性能コーティングとして有用である。このガラスセラミックは、その最も広い組成において、３０〜５５％のＳｉＯ₂、５〜４０％のＣａＯ、０〜５０％のＢａＯ、０．１〜１０％のＡｌ₂Ｏ₃、および０〜４０％のＳｒＯを含み、ＣａＯ＋ＢａＯ＋ＳｒＯの合計が３５〜６５質量％の範囲にある。必要に応じて、そのガラスセラミック組成物は、＞０〜１５質量％のＭｇＯおよび＞０〜１０質量％のＺｎＯの群からの少なくとも１種類を含有してもよい。また、必要に応じて、そのガラスセラミック組成物は、少なくとも１種類の遷移金属または希土類金属の酸化物を＞０〜１０質量％含有してもよい。
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【課題】１０^４ｄＰａｓと１０^２ｄＰａｓとの間の最適化された粘度曲線を有するアルカリを含まないアルミノホウ珪酸ガラスを提供する。
【解決手段】熱膨張係数ＣＴＥが３．３・１０^−６／Ｋ以下であり、重量％で、ＳｉＯ_２が５８〜７０、Ａ１_２Ｏ_３が１７〜１８、Ｂ_２Ｏ_３が５〜１５、ＭｇＯが０〜９、ＣａＯが２〜１２、ＢａＯが０．１〜５、ＳｎＯ_２が０〜１、Ａｓ_２Ｏ_３が０〜２の組成を有するアルミノホウ珪酸ガラスであって、任意の不純物を除き、前記ガラスは、アルカリ酸化物および酸化ストロンチウムを含まない。重量％で、ＳｉＯ_２・Ｂ_２Ｏ_３／Ａ１_２Ｏ_３比率が３２ないし３８であり、粘度の常用対数が４ないし２の範囲において、粘度曲線の平均勾配は、−５．５０・１０^−３ｄＰａｓ／Ｋ以下である。 （もっと読む）

【課題】 オーバーフローダウンドロー工程以外の方法により製造できる、フラットパネルディスプレーデバイス用のパネルに使用するガラスを提供する。
【解決手段】 アルカリ金属酸化物を実質的に含まず、酸化物基準の重量パーセントで計算して、49％−58％のＳｉＯ₂、17.5％−23％のＡｌ₂Ｏ₃、０％−14.5％のＢ₂Ｏ₃、０％−８％のＭｇＯ、０％−９％のＣａＯ、0.4％−13.5％のＳｒＯ、および０％−21％のＢａＯから実質的になり、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの合計が13％−28％である組成範囲内の組成を有し、かつ、640℃より高い歪点、32−40×10^-7／℃の範囲にある線熱膨張係数、および95℃で５重量％の塩酸水溶液中に24時間に亘り浸漬した後の20ｍｇ／ｃｍ²未満の重量損失を有するアルミノケイ酸塩ガラスからなり、フロート工程を用いて延伸されている。 （もっと読む）

【課題】透明なガラスセラミックプレートと、不透明着色されたガラスセラミック調理プレートを提供する。
【解決手段】主結晶相が高石英混合結晶であり、酸化物換算の組成が質量で示して、４０〜４０００ｐｐｍのＮｄ_２Ｏ_３、Ｌｉ_２Ｏ ３．０−４．５（％、以下同じ）、Ｎａ_２Ｏ ０−１．５、Ｋ_２Ｏ ０−１．５、ΣＮａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０．２−２．０、ＭｇＯ ０−２．０、ＣａＯ ０−１．５、ＳｒＯ ０−１．５、ＢａＯ ０−２．５、ＺｎＯ ０−２．５、Ｂ_２Ｏ_３ ０−１．０、Ａｌ_２Ｏ_３ １９−２５、ＳｉＯ_２ ５５−６９、ＴｉＯ_２ １−３、ＺｒＯ_２ １−２．５、ＳｎＯ_２ ０−０．４、ΣＳｎＯ_２＋ＴｉＯ_２ ＜３、Ｐ_２Ｏ_５ ０−３．０、Ｎｄ_２Ｏ_３ ０．０１−０．４、及びＣｏＯ ０−０．００４とする。さらに必要に応じて、プレートの一面の全表面または表面の一部に、不透明で温度安定な着色コーティングを施して調理プレートとする。 （もっと読む）

ここに開示された主題は、広く、ガラスを保護するためのガラス組成物およびその組成物の製造方法と使用方法に関する。
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【課題】 波長３１３ｎｍを含む有害紫外線の遮蔽性に優れており、蛍光ランプ用途として十分な耐紫外線ソラリゼーション性を持ち、蛍光体の劣化や封入水銀量の消費が少ない蛍光ランプ用ガラスを提供することを目的とする。
【解決手段】 質量%で、ＳｉＯ_２５５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ １〜７％、Ｂ_２Ｏ_３１０〜２５％、Ｌｉ_２Ｏ０．１〜３%、Ｋ_２Ｏ３〜９．５%, ＣａＯ＋ＭｇＯ＋ＢａＯ＋ＳｒＯ０．１〜５％、Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＳｎＯ_２＋ＺｒＯ_２＋ＺｎＯ０．０１〜５％、ＣｅＯ_２＋ＷＯ_３＋Ｖ_２Ｏ_５０．１〜５％、Ｆｅ_２Ｏ_３０．００１〜０．０５％を含有し、ＪＩＳ‐Ｒ‐３１０２に定める０〜３００℃の範囲の平均線膨張係数が３６〜５７×１０^−７／℃である硼珪酸系ガラスからなり、実質的にＮａ、 Ａｓ、 Ｓｂ、 Ｐｂを含有しないことを特徴とする。
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【課題】
シリカ・チタニアガラス基板においてＥＵＶリソグラフィー用の光学系に許されない脈理を一方向あるいは三方向に除去し、シリカ・チタニアガラスの均質性を向上させることができるシリカ・チタニアガラスの製造方法及び一方向あるいは三方向に脈理の存在しないシリカ・チタニアガラスを提供する。
【解決手段】
シリカ原料ガス及びチタニア原料ガスを酸水素火炎中に導入し、シリカ及びチタニア微粒子を水平に保持された基体上に層状に堆積して円筒状の多孔質ガラス体を作製し、該多孔質ガラス体を透明化し、同心円状の層状脈理を有する円筒状のシリカ・チタニアガラス体を作製した後、該ガラス体から円弧状の層状脈理を有する棒状ガラス体を切り出し、該棒状ガラス体の両端部を一対の回転可能な保持手段で保持し、前記脈理に対して垂直な方向にせん断応力が作用するように帯域溶融法を適用して脈理を除去する均質化処理を施すようにした。 （もっと読む）

【解決手段】３〜１２質量％のチタニアを含有し、該チタニアの濃度勾配が０．０１質量％／μｍ以下であり、かつ厚さ６．３５ｍｍでの波長４４０ｎｍにおける見かけ透過率が３０％以上であることを特徴とするチタニアドープ石英ガラス。
【効果】ＥＵＶリソグラフィ用フォトマスク基板等のＥＵＶリソグラフィ用部材に要求される高い表面精度を与える均質性の高いチタニアドープ石英ガラスを提供することができ、チタニアドープ石英ガラスからなるＥＵＶリソグラフィ用フォトマスク基板等のＥＵＶリソグラフィ用部材は平坦度や熱膨張特性に優れたものとなる。 （もっと読む）

直接的に、あるいは１層または複数層の中間層を介して、互いに接合される第１層および第２層を備えた絶縁体上半導体構造。上記第１層はゲルマニウムを含む実質的に単結晶の半導体材料を含むが、上記第２層は、上記第１層のゲルマニウムの線熱膨張係数の±２０×１０^−７／℃の範囲内の線熱膨張係数（２５〜３００℃）を有するガラスまたはガラスセラミックを含む。
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【課題】ガラス材料を用いてダイオードチップを封止する。
【解決手段】発光ダイオードチップと、この発光ダイオードチップの表面の少なくとも一部と密着するガラス部材とを備える。このガラス部材は、その表面形状の少なくとも一部が曲面である。曲面は、球面または回転楕円体面の一部であることが好ましい。ガラス部材は、その表面形状が球面である部分と平坦である部分とで構成され、この平坦な部分に前記ダイオードチップが配置されていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、従来の結晶化ガラスでは得られなかった高度な超平滑表面粗度と極低膨張特性を併せ持つ結晶化ガラスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】Ｌｉ_２Ｏ、Ａｌ_２Ｏ_３及びＳｉＯ_２の各成分を含有し主結晶相の平均結晶粒径が９０ｎｍ以下、結晶粒径分布が２０ｎｍ以下であることを特徴とする結晶化ガラスであり、その製造方法はＬｉ_２Ｏ、Ａｌ_２Ｏ_３及びＳｉＯ_２の各成分を含有するガラスに６５０〜７５０℃の温度で熱処理を行う工程と、前記工程の後に７００〜８００℃で１００〜２００時間の熱処理を行う工程と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

本出願は、(i)主結晶相としてβ石英またはβスポジュメンの固溶体を含有する新規のガラスセラミック材料、(ii)その新規のガラスセラミック材料から製造された物品、(iii)そのような新規のガラスセラミック材料の前駆体であるリチウムアルミノケイ酸塩ガラス、および(iv)その新規のガラスセラミック材料およびこの新規のガラスセラミック材料から製造された物品を調製する方法を開示する。本発明は、ガラスセラミック材料のガラス前駆体を清澄するための清澄剤として、ＳｎＯ₂（０．１５から０．３質量％）およびＣｅＯ₂および／またはＭｎＯ₂（０．７から１．５質量％）を使用する方法に関する。 （もっと読む）

【課題】ヒ酸酸化物の使用量を極力減らしつつ、泡品質に優れたガラス板の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも一部が五酸化ヒ素（Ａｓ₂Ｏ₅）である酸化ヒ素と、酸化アンチモン、酸化スズおよび酸化セリウムから選ばれる少なくとも１種と、を清澄剤として含むガラス原料バッチを調製し、このガラス原料バッチを熔融し、成形してガラス板を製造する。ガラス原料バッチから清澄剤を除いた残部を１００質量部として、清澄剤は、例えば、酸化ヒ素：０．０１〜０．５質量部、酸化アンチモン：０〜３質量部、酸化スズ：０〜２質量部、酸化セリウム：０〜１質量部とすることができる。清澄剤において、酸化ヒ素の質量部よりも、酸化アンチモン、酸化スズおよび酸化セリウムの質量部の合計を大きくしても、良好な泡品質を有するガラス板を製造することができる。 （もっと読む）

【課題】大量生産可能な、かつ結晶成長温度の低く製造コストが低く、建築材料に適用するＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂−ＭｇＯ−Ｋ₂Ｏ−Ｆ系結晶化ガラス及びその製造方法を提供する。
【解決手段】質量百分率でＳｉＯ₂ ５０．０〜６５．０％、Ａｌ₂Ｏ₃ １０．０〜２５．０％、ＭｇＯ ６．０〜１５．０％、Ｌｉ₂Ｏ ２．５〜４．０％、Ｎａ₂Ｏ ０．５〜４．０％、Ｋ₂Ｏ ２．１〜７．５％、Ｆ １．２〜４．８％、ＴｉＯ₂ ０．１〜４．０％、ＺｒＯ₂ ０．１〜４．０％、Ｐ₂Ｏ₅ ０．５〜３．０％、ＢａＯ ０〜３．０％、Ａｓ₂Ｏ₃ ０．４〜１．５％、Ｒｂ₂Ｏ ０．３〜１．６％、Ｃｓ₂Ｏ ０．０３〜０．４％、ＭｎＯ₂ ０．０６〜０．７％、Ｆｅ₂Ｏ₃ ０．０３〜０．３％、Ｓｂ₂Ｏ₃ ０〜１．５％の組成を有するＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂−ＭｇＯ−Ｋ₂Ｏ−Ｆ系結晶化である。 （もっと読む）

【課題】熱膨張係数が大きく、開気孔率の低いガラスセラミックス焼結体、およびその製造方法を提供することである。
【解決手段】クォーツ結晶とＣｅＯ_２結晶とガラス相とを主成分とする焼結体からなり、前記主成分が前記クォーツ結晶を４０〜６５質量％および前記ＣｅＯ_２結晶を１〜１０質量％含有し、残部を前記ガラス相が占めることを特徴とし、特に、前記主成分の組成割合がＳｉをＳｉＯ_２換算で５０〜７０質量％、ＢａをＢａＯ換算で１５〜３５質量％、ＣｅをＣｅＯ_２換算で１〜１０質量％、ＢをＢ_２Ｏ_３換算で１〜８質量％、ＡｌをＡｌ_２Ｏ_３換算で１〜８質量％およびＣａをＣａＯ換算で１〜８質量％であることを特徴とするガラスセラミック焼結体。
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【課題】調理器用トッププレートの強度や耐熱性を低下させることなく、調理器用トッププレートに防眩性を付与するとともに、汚れ等の清掃性を向上させ、美観の向上を図る。
【解決手段】結晶化ガラスを基材とする調理器用トッププレートにおいて、結晶化ガラスの表面に酸化物被膜を形成し、前記酸化物被膜の表面粗さ（Ｒａ）を０．１〜２０μｍとする。 （もっと読む）

【課題】調理装置の調理面として用いられ、かつ、
ａ）耐薬品性であり、 ｂ）キッチンの通常照明条件下において不透明であり、 ｃ）簡易にコーティング部分を作製することができ、 ｄ）５５０℃の温度まで耐熱性であり、及び ｅ）ガラスセラミック中の欠陥が問題となる程度まで知覚されない特性をもつ下面コーティングが施されたガラスセラミック板を提供する。
【解決手段】ガラスセラミック板を、可視光及び赤外線に対して透過性のガラスセラミック材料から成り、ガラスセラミック板下面へ貴金属フィルムがコーティングされて、貴金属フィルムには、貴金属フィルムを反射特性を付与する金及び／または白金、及び／またはパラジウムから成る合金から作製し、かつ銀、銅、珪素、ビスマス及び他の非貴金属を貴金属フィルム中へその全金属含量に対して０〜５重量％含ませ、及び前記貴金属フィルムでコーティングされたガラスセラミック板とする。 （もっと読む）