封着加工用ガラス材として、鉛を含まないガラス組成を有し、封着対象とし得る材質選択幅の拡がり、封着加工性、封着品質等の面で高性能なものを提供するで、Ｖ_２Ｏ_５、ＺｎＯ、ＢａＯ、Ｐ_２Ｏ_５の４種の金属酸化物を必須成分として含むガラス組成を有してなる。 （もっと読む）

【課題】 非鉛系誘電体ガラス粉末をガラス板上に塗布し焼成しても、基板に反りや割れが生じにくいプラズマディスプレイパネル用基板を得ることが可能となるように、ガラス板と誘電体ガラス粉末を適切に組み合せたプラズマディスプレイパネル基板作製用ガラスセットを提供することである。
【解決手段】 本発明のプラズマディスプレイパネル基板作製用ガラスセットは、ガラス板と非鉛系誘電体ガラス粉末とを含むプラズマディスプレイパネル基板作製用ガラスセットであって、ガラス板上に非鉛系誘電体ガラスを塗布し焼成した際、ガラス板に残る残留ストレスが−８００〜１５００（ｐｓｉ）になることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、アルカリ金属フリーのガラスの組成、調合および使用に関する。
【解決手段】上記ガラスの組成は（酸化物基準のモルパーセントで）62〜72 SiO₂、6.5〜11.5 B₂O₃、8.5〜15 Al₂O₃、0〜6.5 MgO、1.5〜< 11 CaO、0〜4 SrO、0〜3 BaOおよび0.001〜2 In₂O₃を含み、MgO+CaOの合計が5〜15、SrO+BaOの合計が<5、およびMgO+CaO+SrO+BaOの合計が8〜17である。上記ガラスの組成はさらに0〜2 TiO₂と0〜1 ZrO₂を含むこともできる。このガラスの組成はフラットパネルディスプレイ、特に液晶ディスプレイパネル、の基盤ガラスシートの調合に対して有益である。 （もっと読む）

【課題】成形しやすく、曲げ強度が高い結晶化ガラス、およびそれを用いた光通信用デバイスを提供する。
【解決手段】β−石英固溶体またはβ−ユークリプタイト固溶体を主結晶として析出し、−４０℃〜１００℃における平均熱膨張係数が−１６〜−４５×１０^-7／℃であって、質量％でＴｉＯ₂とＺｒＯ₂とＰ₂Ｏ₅の合量が０．５〜２．９％であり、モル比（Ｌｉ₂Ｏ＋ＺｎＯ）／ＳｉＯ₂が０．１５〜０．３５である結晶化ガラス。また、本発明の光通信用デバイスは、β−石英固溶体またはβ−ユークリプタイト固溶体を主結晶として析出し、−４０℃〜１００℃における平均熱膨張係数が−１６〜−４５×１０^-7／℃である結晶化ガラスであって、質量％でＴｉＯ₂とＺｒＯ₂とＰ₂Ｏ₅の合量が０．５〜２．９％であり、モル比（Ｌｉ₂Ｏ＋ＺｎＯ）／ＳｉＯ₂が０．１５〜０．３５である結晶化ガラスを温度補償用部材に使用してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】熱膨張率が小さいガラスまたはガラスセラミクスの加飾およびほうろう処理用の鉛およびカドミウムフリーガラスを提供する。
【解決手段】下記成分（重量％）を含む、すなわち、Σ（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ） ０〜１０、Σ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ）≧０．１、ＳｉＯ_２ ＞６５。好ましくは、ガラスフリットとして、顔料およびフィラーなどの添加物と混合し、熱膨張が非常に小さなガラスまたはガラスセラミクスに塗布する。特にリチウム珪酸アルミニウムガラスセラミクス製の基体をコーティングする場合、７０ＭＰａを超える曲げ強さを達成できる。 （もっと読む）

【課題】結晶化ガラスを用い、良好な光拡散性を有する光拡散部材に関し、また、耐熱性に優れており、低膨張特性と高い剛性を有し寸法安定性に優れた光拡散部材、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】質量％で、ＳｉＯ_２５０〜６２％、Ａｌ_２Ｏ_３２２〜２６％、Ｌｉ_２Ｏ３〜５％、の各成分を含有し、結晶相の平均結晶粒子径が１００ｎｍ以下であり、平均線膨張係数が０〜５０℃の温度範囲で−５×１０^−７／℃〜＋３０×１０^−７／℃の範囲内である結晶化ガラスを用いることを特徴とする光拡散部材。また、ガラス原料を溶融する工程と、溶融したガラスを成形する工程と、成形したガラスを徐冷する工程と、徐冷後６５０〜７５０℃で０．１〜２００時間第１の熱処理をする工程と、第１の熱処理後７５０℃〜８００℃で０．１〜５０時間第２の熱処理をする工程を含むことを特徴とする光拡散部材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 Ｌｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系結晶性ガラス、前記結晶性ガラスにおいて核形成をした後、比較的低い温度範囲で結晶化することにより製造可能であり、優れた熱的特性及び機械的強度を有する結晶化ガラスの提供。
【解決手段】質量百分率でＳｉＯ₂；５８．０〜６６．０％、Ａｌ₂Ｏ₃；１８．０〜２６．０％、Ｌｉ₂Ｏ；３．５〜５．５％、ＴｉＯ₂；０．５〜４．０％、ＺｒＯ₂；０．５〜３．０％、Ｐ₂Ｏ₅；０．５〜３．０％、Ｆ；０．１〜１．０％、Ｂ₂Ｏ₃；０〜２．５％、Ｎａ₂Ｏ；０〜２．０％、Ｋ₂Ｏ；０〜２．０％、ＭｇＯ；０〜１．０％、ＺｎＯ；０．５〜３．０％、ＢａＯ；０〜２．５％、ＳｒＯ；０．３〜３．０％、Ａｓ₂Ｏ₃；０．４〜１．５％、Ｓｂ₂Ｏ₃；０〜１．５％の組成を有するＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系結晶性ガラス及び結晶化ガラス。 （もっと読む）

【課題】製造コストが低く、温度ムラがあっても光線の方向が変化しにくく、赤外線の透過性に優れ、光路長温度依存性を抑制できる結晶化ガラス、光デバイス及びエタロンを提供する。
【解決手段】本発明の結晶化ガラスは、β−石英固溶体又はβ−ユークリプタイト固溶体を主結晶として析出し、肉厚３ｍｍで、波長１２００〜１７００ｎｍのうちいずれかの波長における赤外線透過率が５０％以上である結晶化ガラスにおいて、質量％で、０．５〜１０％のＢ₂Ｏ₃を含有し、粉末Ｘ線回折法によって同定されるβ−スポジュメン固溶体の（１０２）面回折ピークの面積強度が、β−石英固溶体又はβ−ユークリプタイト固溶体の（１０１）面回折ピークの面積強度の１．５％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）およびＰＤＰ等の緻密な隔壁を形成でき、ＰｂＯおよびＦのいずれも含有しないガラスの提供を目的とする。
【解決手段】モル％で、ＳｉＯ_２ ２４〜５０％、Ｂ_２Ｏ_３ １３〜２３％、ＺｎＯ １０〜３２％、Ｌｉ_２Ｏ ３〜２０％、Ｎａ_２Ｏ １〜９％、Ａｌ_２Ｏ_３ １〜１５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜２０％、Ｂｉ_２Ｏ_３ ０〜９％、からなり、［（Ｂ_２Ｏ_３＋ＺｎＯ）−Ａｌ_２Ｏ_３］≧２４％であり、ＺｒＯ_２を含有する場合その含有量は２％以下であり、かつ、ＰｂＯおよびＦのいずれも含有しない隔壁形成用ガラス。Ｂｉ_２Ｏ_３を含有しない前記ガラス。軟化点が６１５℃以下である前記ガラス。これらガラスを用いて形成された隔壁を有するＰＤＰ。 （もっと読む）

【課題】 鉛化合物を実質的に含有せず、高屈折率・高分散であって、Ｔｇが低く、線熱膨張係数が小さいモールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】 重量％で、Ｐ₂Ｏ₅：２０〜３０％、Ｂ₂Ｏ₃：０．１〜１０％、Ｎｂ₂Ｏ₅：２５〜４５％、ＷＯ₃：９〜２５％、Ｂｉ₂Ｏ₃：０．１〜１０％、ＢａＯ：３〜１５％、Ｌｉ₂Ｏ：４〜５．５％、Ｎａ₂Ｏ：０〜２％、Ｋ₂Ｏ：０〜２％、Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ：０〜２％、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ：４〜６％、Ａｌ₂Ｏ₃：０〜３％、ＣａＯ：０〜５％、ＳｒＯ：０〜５％、ＺｎＯ：０〜５％、Ｔａ₂Ｏ₅：０〜５％、ＴｉＯ₂：０〜５％の各ガラス成分を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】ＬＥＤからなるインジケータの配設に対応する遮光膜の非形成領域から、ＬＥＤの配線等の調理器内部が見えることがなく、ＬＥＤで表示する数字を誤認することがない調理器用トッププレートを提供する。
【解決手段】調理器用トッププレート１は、透明ガラス板２の裏面に遮光膜の形成部と非形成部を有し、非形成部の下方に発光素子７が配置される調理器用トッププレートであって、透明ガラス板の裏面に、発光素子の光線を透過する着色板状体５を取り付ける。 （もっと読む）

【課題】ガラスの接着が可能な鉛を含まないコーティング材を提供する。
【解決手段】一液加熱硬化型アルカリ−ケイ酸系ガラス１２〜２８質量％にアルミニュームの含有量が５２〜６０質量％、銀の含有量が１６〜２２質量％であるコーティング材。シーリングの際は、該コーティング材（３、３）が塗布乾燥された素地面に、アルミニューム（４，４）を盛りつけたものを重ね合わせて４００〜４５０℃まで加熱、または、銀−錫ハンダ（４，４）を盛りつけたものを重ね合わせて２２０〜３００℃まで加熱することにより、シーリングを実行する。 （もっと読む）

【課題】 樹脂劣化に影響を及ぼす有害紫外線の遮蔽性に優れており、蛍光ランプ用途として十分な耐紫外線ソラリゼーション性を持ちながら、蛍光ランプ製造工程に於ける管成形及び２次加工の熱履歴での耐失透性に優れたガラスを提供することを目的とする。
【解決手段】 質量％で、ＳｉＯ_２
５５〜７８％、 Ａｌ_２Ｏ_３ １〜１０％、 Ｂ_２Ｏ_３ １０〜２５％、 Ｌｉ_２Ｏ+Ｎａ_２Ｏ+Ｋ_２Ｏ
５〜１５％、 ＣａＯ+ＭｇＯ+ＢａＯ+ＳｒＯ+ＺｎＯ ０〜５％、 ＺｒＯ_２ ０.０１〜３％、 Ｆｅ_２Ｏ_３
０〜０．０５％、 Ｖ_２Ｏ_５
０．０５〜２．０％、ＣｅＯ_２ ０．０５〜２．０％、Ｖ_２Ｏ_５+ＣｅＯ_２ ０．１〜３．０、ＴｉＯ_２ ０〜２．０、Ｎｂ_２Ｏ_５ ０〜５．０、Ｔａ_２Ｏ_５ ０〜５．０、ＴｉＯ_２+Ｎｂ_２Ｏ_５+Ｔａ_２Ｏ_５ ０〜５．０％を含有し、実質的にＳｂ_２Ｏ_３、Ａｓ_２Ｏ_３、ＰｂＯを含まず、０〜３００℃の温度範囲における平均線膨張係数が３６〜５７×１０^−７／℃であることを特徴とする。
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【課題】結晶を容易に配向させて、これにより、結晶が配向された結晶化ガラスを簡便に製造する。
【解決手段】原ガラスを所定の温度で熱処理して結晶化ガラスを製造する結晶化ガラスの製造方法であって、熱処理の際に、析出されるフレスノイト型結晶を配向させるように原ガラスに０．５テスラ［Ｔ］以上の磁場を印加する。 （もっと読む）

【課題】ＵＶ領域以下の短波長の露光に用いられる反射型フォトマスク用Ｔｉドープ低熱膨張石英ガラス基板につき、平坦度≦１００ｎｍ、表面の自乗平均平方根粗さ≦０．１５ｎｍＲＭＳを同時に満足する加工法を提供する。
【解決手段】不活性ガスと反応ガスとの混合ガス中にガラス基板を配し、ガラス基板に対向して設けた電極に高周波電圧を印加して生成した局所的なプラズマによって反応ガスのラジカルを生成し、ガラス基板とラジカルとを化学反応させて生成する反応生成物の揮発量を、予め測定したガラス基板の表面形状データを基に制御してガラス基板表面を高平坦化する方法において、ガラス基板がＴｉドープ低熱膨張石英ガラスであり、混合ガス全量に対して酸素系ガスの存在が０．０１ｖｏｌ％以下で加工を行なう。 （もっと読む）

高純度および均質性を有する低アルカリ材料を製造可能にするために、本発明は、ホウ酸塩含有低アルカリ材料を製造する方法であって、ホウ素含有溶融材料は、交流電磁場を用いた装置で直接誘導加熱され、溶融材料は、構成成分として、少なくとも２５モル％の量的比率で、少なくとも１つの金属酸化物を含み、金属酸化物の金属イオンは、少なくとも２の原子価を有し、溶融材料中のホウ酸塩に対する二酸化ケイ素のモル物質量の比は、０．５以下である方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 高温の使用温度に長時間曝しても、寸法変化量が小さく、局部的に高温に曝されることがあっても破損することがない結晶化ガラス及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の結晶化ガラスは、使用温度と見かけの仮想温度との差が１５０℃以内であることを特徴とする。
また、本発明の結晶化ガラスの製造方法は、結晶化後に、結晶化温度よりも低温であり、結晶化ガラスの使用温度との差が１５０℃以内の熱処理温度で保持することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 種々の金属および金属酸化物等がドープされた均質なシリカガラスおよびこのようなドープシリカガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 ＶＡＤ法によりシリカ微粒子を堆積させて得たシリカ多孔質体に、金属および金属酸化物から選ばれた少なくとも１種からなるドーパントを含有する溶液を含浸させ、真空凍結乾燥後、加熱溶融してガラス化させることにより、シリカガラス中にドーパントが均一な濃度分布で含まれたドープシリカガラスを得る。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、石油、石炭、ガス、木材等の燃料を燃焼させることによって生じる硫酸を含有する燃焼雰囲気に長時間曝されても、有効面に微細なクラックが発生しにくく安価なＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系結晶化ガラスと、その母材であるＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系結晶性ガラスを提供することである。
【解決手段】本発明のＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系結晶性ガラスは、β−ＯＨ量が０．２０／ｍｍ以上であり、長さが２μｍ以上の表面キズの数が、有効面に１４０個／ｃｍ²以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、石油、石炭、ガス、木材等の燃料を燃焼させることによって生じる硫酸を含有する燃焼雰囲気に長時間曝されても、表面に微細なクラックが発生しにくく安価なＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系結晶化ガラスを提供することである。
【解決手段】本発明のＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系透明結晶化ガラスは、平均結晶化度が６０質量％以上であり、ガラスリッチ層が表面から０．２μｍ以上の厚みを有し、長さ１μｍ以上の表面キズが有効面に７０個／ｃｍ²以下であることを特徴とする。 （もっと読む）