【課題】薄型で機械的強度が高いにもかかわらず、内部引っ張り応力により自己破壊してもガラス片が飛散し難く、しかも長期間の使用により、ディスプレイ等の視認性が低下し難いタッチパネルディスプレイ等の保護部材を創案すること。
【解決手段】本発明の合わせガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス板と、表面に圧縮応力層を有しない未強化ガラス板とを備える合わせガラスであって、強化ガラス板の板厚が２．０ｍｍ以下であり、且つ未強化ガラス板の板厚が５００μｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】精密プレス成形法によって高品質なガラス光学素子を得ることが可能なプレス成形用ガラス素材を提供すること。
【解決手段】光学ガラスからなる芯部と、少なくとも前記芯部の光学機能面となる部位を覆う厚み１５ｎｍ未満の珪素酸化物膜とを有し、かつ、三液法によって測定される表面自由エネルギーが７５ｍＪ／ｍ^２以下であるプレス成形用ガラス素材。光学ガラスからなる芯部と、少なくとも芯部の光学機能面となる部位を覆う厚み１５ｎｍ未満の珪素酸化物膜とを有するプレス成形用ガラス素材の製造方法。ＳｉＯ_２からなる成膜材料を用いて、不活性ガスと酸素との混合ガス雰囲気であって、酸素含有率が５体積％以上２０体積％未満の範囲である雰囲気下で成膜処理を行うことにより前記珪素酸化物膜を前記芯部の前記部位上に形成する。 （もっと読む）

エナメル組成物、特に暖炉インサートのガラス板を被覆するためのエナメル組成物であって、少なくとも１種のガラスフリット、そのエナメルの全重量の４０〜６５％、好ましくは４５〜６０％の範囲の含有量の少なくとも１種の顔料、及び随意に少なくとも１種の媒体又は媒材を含有し、上記ガラスフリットが、次の構成成分を、以下に規定する範囲内（境界値を含み、上記フリットの総重量の重量パーセントで表す）で有することを特徴とする、エナメル組成物、特に暖炉インサートのガラス板を被覆するためのエナメル組成物：
ＳｉＯ_２ ４５〜６５％
Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１３％
Ｂ_２Ｏ_３ ２３〜５５％
Ｎａ_２Ｏ ０〜１０％
Ｋ_２Ｏ ０〜１０％
Ｌｉ_２Ｏ ０〜１０％。 （もっと読む）

【課題】Ｓｂ_２Ｏ_３を含有せず、硝酸塩等の酸化剤の添加量が必要最小限であっても、低温で清澄作用を発揮するとともに、低温封入性を有し、しかも金属線との接着性が高い半導体素子用ガラスを創案すること。
【解決手段】本発明の半導体封入用ガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ １０〜４５％、ＰｂＯ ４０〜７５％、ＣｅＯ_２ ０．０１〜３％、Ｋ_２Ｏ ０．５〜１０％を含有することを特徴とし、好ましくはＳｉＯ_２ ２０〜４５％、ＰｂＯ ５５〜６５％、ＣｅＯ_２ ０．０５〜２％、Ｋ_２Ｏ ０．５〜１０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜４％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１０％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

固体酸化物セラミックは、イットリア安定化ジルコニア（ＹＳＺ）、チタン酸ランタンストロンチウム（ＬＳＴ）、マンガン酸ランタンストロンチウム（ＬＳＭ）および酸化ニッケル−ＹＳＺ複合材料からなる群から選択される少なくとも１つの材料を含む、１つの表面を画定する基板を含む。固体酸化物セラミックはさらに、表面の少なくとも一部分をコーティングし、サンボルナイト（ＢａＯ・２ＳｉＯ_２）結晶相、ヘキサセルシアン（ＢａＯ・Ａｌ_２Ｏ_３・２ＳｉＯ_２）結晶相および残留ガラス相を含み、前記表面において基板の熱膨張係数以下の熱膨張係数を有するシールを含む。ガラス組成物のガラス結晶化温度とガラス転移温度の差は、約２０℃／分の加熱速度で約２００℃〜約４００℃の範囲内であり得る。
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【課題】
従来、半導体熱処理治具に一般に使用されてきた天然シリカ粉熔融石英ガラスは金属不純物、特に銅の拡散阻止能を持たない。金属不純物拡散阻止能を有し、高温粘性の高い石英ガラスを提供する。
【解決手段】
高純度の合成シリカ粉を電気炉中溶解やプラズマ溶解することにより、Ｓｉ孤立電子対含有濃度を０．５×１０^１６個／ｃｍ^３以下にし、さらに、ＯＨ基含有濃度を５０ｗｔ．ｐｐｍ以下にすることにより、金属不純物拡散阻止能を有し、半導体熱処理時に粘性率の高い石英ガラスが得られる。 （もっと読む）

【課題】 フツリン酸ガラス固有の揮発性と侵蝕性を抑制するとともに、フィーダー外周へのガラス融液の濡れ上がりも抑制することにより、高品質のフツリン酸ガラスを提供する。
【解決手段】 ガラス成分として、リン、酸素およびフッ素を含むフツリン酸ガラスにおいて、塩素、臭素およびヨウ素の中から選ばれる１種以上のハロゲン元素を含み、Ｐ^５＋の含有量に対するＯ^２−の含有量のモル比Ｏ^２−／Ｐ^５＋が３．５以上であることを特徴とするフツリン酸ガラスである。 （もっと読む）

本発明は、二ケイ酸リチウム系を基本成分とするガラスセラミックであって、結晶化の中間段階で容易に機械加工することができて、完全に結晶化した後には高強度で高度に半透明性、かつ化学的に安定なガラスセラミックに関する。さらに、本発明はこのガラスセラミックを製造するための方法に関する。本発明に係るガラスセラミックは歯科用材料として用いられる。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置などのフラットパネルディスプレイに用いるガラス基板に好適であるとともに、高い熱安定性を保つとともにＢａＯを実質的に含まないながらも失透温度が低く、ダウンドロー法によりガラス基板の製造に適したガラス組成物を提供する。
【解決手段】質量％で表示して、ＳｉＯ₂ ５４〜６２％、Ｂ₂Ｏ₃ ４〜１１％、Ａｌ₂Ｏ₃１５〜２０％、ＭｇＯ ２〜５％、ＣａＯ ０〜７％、ＳｒＯ ０〜１３．５％、Ｋ₂Ｏ ０〜１％、ＳｎＯ₂ ０〜１％、Ｆｅ₂Ｏ₃ ０〜０．２％を含み、ＢａＯを実質的に含まず、アルカリ土類金属酸化物の含有率の合計（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ）が１０〜１８．５質量％であり、失透温度が１２００℃以下であるガラス組成物とする。 （もっと読む）

【課題】耐衝撃性に優れ、かつディスク形状の安定化を両立するデータ記憶媒体用ガラス基板及びその製造方法の提供。
【解決手段】酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ_２を５８〜６６％、Ａｌ_２Ｏ_３を９〜１５％、Ｌｉ_２Ｏを７〜１５％、Ｎａ_２Ｏを２〜９％含有し、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏが１３〜２１％であるガラスからなる基板用ガラスを混合溶融塩に浸漬し、該基板用ガラスの表面及び裏面に圧縮層を形成する化学強化処理工程を含むデータ記憶媒体用ガラス基板の製造方法であって、前記混合溶融塩が質量百分率表示で、硝酸リチウムを１〜７．５％、硝酸ナトリウムを２８〜５５％、硝酸カリウムを４０〜６９％含有するデータ記憶媒体用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 揮発性および侵蝕性が低減されたフツリン酸ガラスを提供する。
【解決手段】 ガラス成分として、リン、酸素およびフッ素を含むフツリン酸ガラスにおいて、該ガラスの屈折率ｎｄの値をｎｄ^（１）、該ガラスを窒素雰囲気中において９００℃、１時間再熔融し、ガラス転移温度まで冷却し、その後、毎時３０℃の降温速度で２５℃まで冷却した後の屈折率ｎｄの値をｎｄ^（２）としたときに、ｎｄ^（１）とｎｄ^（２）との差ｎｄ^（２）−ｎｄ^（１）の絶対値が０．００３００以内であり、Ｐ^５＋の含有量に対するＯ^２−の含有量のモル比Ｏ^２−／Ｐ^５＋が３．５以上であることを特徴とするフツリン酸ガラスである。 （もっと読む）

【課題】基材上に優れた光触媒活性を有するとともに耐久性にも優れた光触媒層を設けた複合体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】複合体は、基材と、この基材上に位置するガラスセラミックス層と、を備える複合体であって、前記ガラスセラミックス層が結晶相及びガラス相を有しており、前記ガラスセラミックス層は、酸化物基準のモル％で、ＴｉＯ_２成分を５．０〜７０．０％、並びに、ＳｉＯ_２成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、Ｐ_２Ｏ_５成分及びＧｅＯ_２成分からなる群より選択される１種以上を合計で５．０〜９０．０％含有する。 （もっと読む）

【課題】基材上に優れた光触媒活性を有するとともに耐久性にも優れた光触媒層を設けた複合体の製造方法と、それにより作製された複合体を含む光触媒機能性部材及び親水性部材を提供する。
【解決手段】複合体は、基材と、この基材上に位置するガラスセラミックス層と、を備える複合体であって、前記ガラスセラミックス層が結晶相及びガラス相を有しており、前記ガラスセラミックス層は、酸化物基準のモル％で、Ｎｂ_２Ｏ_５成分及びＴａ_２Ｏ_５成分より選択される１種以上を合計で５．０％以上９５．０％以下、並びに、ＳｉＯ_２成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、Ｐ_２Ｏ_５成分及びＧｅＯ_２成分からなる群より選択される１種以上を合計で１０．０％以上８５．０％以下含有する。 （もっと読む）

本発明は、ＳｉＯ_２ ５８〜６７重量％、ＣａＯ_２ ６〜３４重量％、ＭｇＯ ２〜８重量％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１重量％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜５重量％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０〜３重量％、並びにＴｉＯ_２及びＦｅ_２Ｏ_３の中から選択される不純物が１重量％以下で含まれる高温断熱材用生分解性セラミック繊維組成物に関し、熱間線収縮率（１１００℃／２４時間維持）が３％以下であり、人工体液に対する溶解速度定数が７００ｎｇ／ｃｍ^２ｈｒ以上であるという特徴を有する。また、本発明は、公知された生分解性セラミック繊維と比較する時、人工体液に対する溶解度が顕著に向上し、体内の肺に吸入されても容易に溶解されて除去されることができ、人体に対する有害性が減少する効果を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】容易かつ安価に脱泡清澄が可能であり、かつ情報表示装置、特にアクティブマトリクス型液晶表示装置のガラス基板として好適に用いられるガラス組成物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 質量％で示して、
ＳｉＯ₂ ７６．５〜８８％，
Ｂ₂Ｏ₃ ６〜１８％，
Ａｌ₂Ｏ₃ ０．５〜４．５％，
Ｌｉ₂Ｏ ０〜０．５％，
Ｎａ₂Ｏ ０〜０．５％，
Ｋ₂Ｏ ２〜１０％，
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜２％，
を含み、所定の範囲の塩素を含むことを特徴とするガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】流動性の高いガラスタブレット、その製造方法およびガラスタブレット一体型排気管を提供することである。
【解決手段】本発明のガラスタブレットは、ガラス粉末とフィラー粉末とからなるリング状のガラスタブレットであって、ＰｂＯを実質的に含有しないことを特徴とし、本発明のガラスタブレットの製造方法は、ＰｂＯを実質的に含有しないガラス粉末とフィラー粉末とを均一に混合する工程、前記混合粉末に熱分解性の良好なビークルを添加して顆粒とする工程、前記顆粒をプレス成形する工程、および、仮焼成する工程を含むことを特徴とする。また、本発明のタブレット一体型排気管は、ガラスからなる排気管の先端部の外周面に、ＰｂＯを実質的に含有しない、ガラス粉末とフィラー粉末とからなるガラスタブレットが固着されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れた光触媒活性を有するとともに耐久性にも優れたガラスセラミックスと、これを用いた光触媒機能性成形体及び親水性成形体を提供する。
【解決手段】ガラスセラミックスの製造方法は、光触媒活性を有するガラスセラミックスの製造方法であって、ＳｉＯ_２成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、Ｐ_２Ｏ_５成分及びＧｅＯ_２成分からなる群より選択される１種以上と、ＴｉＯ_２成分と、を含有するガラス体から得られる粉砕ガラスを所望形状の成形体に成形する成形工程と、前記成形体を加熱して焼結を行うことで、焼結体を作製する焼結工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】優れた光触媒活性を有するとともに耐久性にも優れたガラスセラミックスと、これを用いた光触媒機能性成形体及び親水性成形体を提供する。
【解決手段】ガラスセラミックスの製造方法は、光触媒活性を有するガラスセラミックスの製造方法であって、ニオブ成分及び／又はタンタル成分を含有するガラス体から得られる粉砕ガラスを所望形状の成形体に成形する成形工程と、前記成形体を加熱して焼結を行うことで、焼結体を作製する焼結工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 酸化チタン（ＴｉＯ_２）及び／又はこの固溶体を含む結晶相を含有するガラスセラミックスが提供される。このガラスセラミックスは、酸化物換算組成のガラスセラミックス全物質量に対して、モル％でＴｉＯ_２成分を１５．０％以上８８．９％以下、及びＰ_２Ｏ_５成分を１１．０％以上８４．９％以下含有し、Ｂｉ_２Ｏ_３及びＴｅＯ_２から選択される１種以上の成分を０．１％以上５０．０％以下含有する （もっと読む）

【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 酸化物換算組成の全物質量に対して、モル％で、Ｂ_２Ｏ_３成分５〜９０％及びＴｉＯ_２成分５〜８５％を含有し、ＴｉＯ_２成分に対するＢｉ_２Ｏ_３成分の比（Ｂｉ_２Ｏ_３／ＴｉＯ_２）が０．１２未満（ただし、Ｂｉ_２Ｏ_３の含有量が０の場合を含む）であり、かつ、ＴｉＯ_２の結晶相を含有するガラスセラミックス、及びこのガラスセラミックスからなる光触媒。 （もっと読む）