本発明は、高温石英混合結晶を主な結晶相として有し、避けることのできない極微量を除いては、清澄剤用の酸化ヒ素及び／又は酸化アンチモンを含まないガラスセラミックからなる、カラー表示能力が改善された透明な有色クックトップ又はハブであって、４５０ｎｍより大きい可視光の全波長範囲における０．１％を超える透過率、０．８％〜２．５％の可視光透過率、及び４５％〜８５％の１６００ｎｍの赤外線における透過率を特徴とする、クックトップ又はハブに関する。 （もっと読む）

【課題】人工結晶石内部の空洞、表面の穴・窪み・陥没状態、全体の内部及び表面にクラックが発生せず、小さいサイズに加工しても破損することのない強度に優れたものとすることができ、放射性物質その他の有害物質の保存にもコストをかけることなく好適に用いることができる保存方法を提供せんとする。
【解決手段】保存対象物とＳｉＯ₂を主成分とする材料とＣａ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｂのいずれかを含む酸化物等の結晶化促進剤とを混合し、溶融物を型に流し込み、温度管理しながら冷却又は自然冷却し、ほぼ全体が非晶質なガラス状態に凝固したガラス固化体を成形した後、該ガラス固化体を１時間あたり６００℃以下の比較的遅い速度で流動化温度以下の所定温度まで昇温し、微細結晶のネットワークが形成された多結晶体よりなる人造石状態、または該人造石状態とガラス状態との混合状態となる人工結晶石に変化させ、該人工結晶石内に前記保存対象物を封じ込める。 （もっと読む）

【課題】結晶化度が高いにもかかわらず、緻密な焼結体を得ることが可能な配線基板用ガラスセラミックス組成物及びガラスセラミックス焼結体を提供する。
【解決手段】焼成すると主結晶としてディオプサイド（ＣａＭｇＳｉＯ_６）、コージェライト（Ｍｇ_２Ａｌ_４Ｓｉ_５Ｏ_１８）、又はフォルステライト（Ｍｇ_２ＳｉＯ_４）を析出する性質を有する結晶性ガラス粉末を含む配線基板用ガラスセラミックス組成物であって、ガラス組成中にアニオン成分としてフッ素（Ｆ）を０．１〜３モル％含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】化学的にも安定で、リチウムイオンの伝道を阻害するような空孔が無く、高いリチウムイオン伝導性を示すガラスセラミックスを高い歩留まりで安定して取得することができる製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラスを熱処理し結晶化するリチウムイオン伝導性ガラスセラミックスの製造方法であって、結晶化を行なう熱処理において、結晶化開始温度の昇温速度を５℃／ｈ〜５０℃／ｈとするリチウムイオン伝導性ガラスセラミックスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】使用高温域で溶融・流出することなく十分なシール性を実現するシール材及びシール方法と、該シール材で接合部分がシールされているペロブスカイト型酸化物から成る酸素分離膜を備えた酸素分離膜エレメントを提供すること。
【解決手段】多孔質基材１４上に酸素イオン伝導体であるペロブスカイト構造の酸化物セラミックスから成る酸素分離膜１５を備える酸素分離膜エレメント１０であって、その酸素分離膜１５には、少なくとも一つのセラミックス製接続部材１２，１６が接合されており、酸素分離膜１５と接続部材１２，１６との接合部分には、該接合部分におけるガス流通を遮断するシール部２０ａ，２０ｂが、ガラスマトリックス中にリューサイト結晶が析出しているガラスによって形成されている。 （もっと読む）

本発明は、透明防護具に用いるための透明なガラスセラミック材料に関する。その用途は、人員の防御基材のみでなく、地上車両、航空機のための防御具システムを含む。本発明によるガラスセラミック材料は、少なくとも１．０の、好ましくは１．１以上の、より好ましくは１．２以上の弾道限界対面密度線勾配を示す。
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【課題】面内磁気記録方式および垂直磁気記録方式の何れにおいても、高密度記録のため
のランプロード方式にも十分対応し得る良好な表面特性を兼ね備え、高速回転化、衝撃に耐え得る高強度を有し、各ドライブ部材に合致する熱膨張特性や耐熱性をも兼ね備えた、溶融温度が低く生産性の高い情報記録媒体用ディスク基板用等の無機組成物品を提供する。
【解決手段】
Ｌｉ_２Ｏ成分と、Ａｌ_２Ｏ_３成分を含有し、Ｌｉ_２ＯとＡｌ_２Ｏ_３の質量％比率であるＬｉ_２Ｏ／Ａｌ_２Ｏ_３が０．３以上であり、結晶を含有し、表面に圧縮応力層を設けた無機組成物物品。 （もっと読む）

【課題】建築物のあらゆる部位に使用しても熱割れの心配がない不透明な有色板ガラス建材及びその固定構造を提供する。
【解決手段】本発明の有色板ガラス建材１０は、実質的に気泡を含まず、β−石英固溶体またはβ−スポジュメン固溶体を主結晶とし、３０〜３８０℃における平均線膨張係数が２０×１０^-7／Ｋ以下の結晶化ガラスからなる板状体１０ａを有し、意匠面１０ｂの表面粗さのＲａ値が２００ｎｍ以下であり、少なくとも一方向における表面うねりのＷａ値が３μｍ以下であって、且つ厚みが５ｍｍにおける平均可視光透過率が０．１％未満である。また、本発明の固定構造は、有色板ガラス建材１０が、エポキシ系、ウレタン系又はシリコーン系の何れかの接着剤で下地材に接着固定されてなる。 （もっと読む）

【課題】 離型剤の使用量を低減させることができる合わせガラス、溶融性フリット、及び曲げ加工方法を提供する。
【解決手段】 合わせガラス１０は、熱処理を伴う曲げ加工が施された前面板ガラス１及び背面板ガラス３と、互いに対向する前面板ガラス１及び背面板ガラス３間の中間膜５と、前面板ガラス１及び中間膜５間の塗布層４とを備える。塗布層４は、黒セラ層４ａと、黒セラ層４ａ上の導電層４ｂから成り、黒セラ層４ａ及び導電層４ｂには、結晶性が高い銀が所定量添加されたフリットが調製される。曲げ加工では、塗布層４が形成された前面板ガラス１上に離型剤が散布される。 （もっと読む）

【課題】一定の薄板状の情報記録媒体基板用素材を量産するための円盤状ガラス素材の製造方法を提供すること、前記方法で製造した素材から情報記録媒体用基板ならびに情報記録媒体を製造する方法を提供する。
【解決手段】熔融ガラスから、複数の円盤状ガラス素材を逐次に成形することを含む円盤状ガラス素材の製造方法。前記円盤状ガラス素材に成形される熔融ガラスに含まれる赤外線吸収性イオンの濃度の経時的な変動を抑制して、前記複数の円盤状のガラス素材の板厚の変動が、１０００枚のガラス素材について、基準値に対して±１５％の範囲内になるようにする方法。０．１〜１００ｐｐｍの赤外線吸収性イオンを含むガラスからなる複数の円盤状ガラス素材を成形する際に、前記円盤状ガラス素材に成形される熔融ガラスに含まれる赤外線吸収性イオンの濃度の経時的な変動を抑制して、前記複数の板状のガラス素材の板厚の変動を抑制する方法。 （もっと読む）

パネル材又は床材として建築に使用可能な大寸法のシート形状のガラスセラミック素材が得られる製造方法。 （もっと読む）

【課題】高周波領域での比誘電率が６〜１０である低誘電率誘電体層が積層された誘電体の製造。
【解決手段】層数が奇数の積層誘電体の製造方法で、奇数番目の原料層が含有するガラス粉末が、モル％で、ＳｉＯ_２ ２３〜３５％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ２〜１５％、ＭｇＯ ３０〜５０％、ＣａＯ ０〜１２％、ＳｒＯ ０〜１２％、ＢａＯ ０〜４％、ＺｎＯ ２〜１２％、等からなり、偶数番目の原料層が含有するガラス粉末が、ＳｉＯ_２ ３６〜５５％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ５〜２０％、ＭｇＯ ２０〜４５％、ＣａＯ＋ＳｒＯ ０〜２０％、ＢａＯ ０〜１０％、ＺｎＯ ０〜１５％、等からなり、隣り合う誘電体層の線膨張係数の差が１５×１０^−７／℃以下である。 （もっと読む）

【課題】溶融性と耐熱性に優れ、高い線膨張係数を有し、ＥＬ背面基板などに適する結晶性ガラスセラミックス組成物を提供する。
【解決手段】酸化物基準の質量％表示でＳｉＯ₂を１０〜２０質量％、Ａｌ₂Ｏ₃を１〜５質量％、Ｂ₂Ｏ₃を１０〜３０質量％、ＲＯを５０〜７０質量％（但しＲＯはＺｎＯ、ＣａＯ、ＭｇＯ、およびＢａＯからなる群から選ばれる少なくとも１種）、およびＲ_ＢＯ₂を０．５〜３質量％、（但しＲ_ＢＯ₂はＣｅＯ₂、ＳｎＯ₂、ＴｉＯ₂、およびＺｒＯ₂からなる群から選ばれる少なくとも１種）を含有するガラス組成物７１〜９５質量％と無機充填材５〜２９質量％の混合物を８５０〜９５０℃で焼成し結晶化させることを特徴とする結晶性ガラスセラミックス組成物であって、優れた溶融性と耐熱性を有しＥＬ背面基板、ＰＤＰ背面基板、磁気ヘッド基板、磁気ディスク、液晶基板等の各種電気機器分野に用いられる基板材料に好適である。 （もっと読む）

【課題】基板表面における表面粗さ、微小うねりを所定の範囲・関係にすることによって、所望のグライド高さを達成する。
【解決手段】ガラス基板の記録再生用領域における任意のガラス表面において、５５４．３４μｍ×６１７．８７μｍの矩形領域を選択し、光を用いて該領域を走査し、基板面からの反射光と基準面からの反射光とを合成し、合成点に生じた干渉縞より、２μｍ〜５００μｍの波長の凹凸を抽出した表面形状を微小うねりとし、前記ガラス基板の記録再生用領域において、５μｍ×５μｍの矩形領域を選択し、該領域の凹凸を原子間力顕微鏡で測定して得られる表面形状を表面粗さとしたときに、 前記微小うねりの最大高さの平均値が３．５ｎｍ以下であって、且つ、前記表面粗さの最大高さが６ｎｍ以下であること。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、ＰｂＯを実質的に含有せず、鉛硼酸系ガラスと同等の４８０℃以下の温度で焼成が可能であるビスマス系ガラス組成物およびビスマス系封着材料を提供することである。また、本発明の第二の目的は、ＰｂＯを実質的に含有せず、ＰＤＰ製造工程において、５００℃程度で一次焼成しても失透したり結晶が析出したりすることがなく、４５０〜４８０℃の二次焼成で気密封着できるビスマス系ガラス組成物およびビスマス系封着材料を提供することである。
【解決手段】本発明のビスマス系ガラス組成物は、下記酸化物基準のモル％表示で、Ｂｉ₂Ｏ₃ ３０〜６０％、Ｂ₂Ｏ₃ １０〜３５％、Ｓｂ₂Ｏ₃ ０．０１〜５％を含有することを特徴とする。また、本発明のビスマス系封着材料は、上記ビスマス系ガラス組成物からなるガラス粉末 ４０〜９５体積％と、耐火性フィラー粉末 ５〜６０体積％とを含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高周波領域での比誘電率が６〜１０である低誘電率誘電体層が積層された誘電体の製造。
【解決手段】層数が奇数の積層誘電体の製造方法で、偶数番目の原料層が含有するガラス粉末が、モル％で、ＳｉＯ_２ ２３〜３５％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ２〜１５％、ＭｇＯ ３０〜５０％、ＣａＯ ０〜１２％、ＳｒＯ ０〜１２％、ＢａＯ ０〜４％、ＺｎＯ ２〜１２％、等からなり、奇数番目の原料層が含有するガラス粉末が、ＳｉＯ_２ ３６〜５５％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ５〜２０％、ＭｇＯ ２０〜４５％、ＣａＯ＋ＳｒＯ ０〜２０％、ＢａＯ ０〜１０％、ＺｎＯ ０〜１５％、等からなり、隣り合う誘電体層の線膨張係数の差が１５×１０^−７／℃以下である。 （もっと読む）

【課題】 結晶化ガラス体の母材であるガラス成形体を安定して製造することができ、該ガラス成形体から、結晶化ガラス体、磁気ディスク基板ブランク、磁気ディスク基板および磁気ディスクを好適に作製することができる方法を提供する。
【解決手段】
中心軸が直線状の貫通孔を有する鋳型を、前記中心軸が垂直になるようにまたは水平に対して傾斜するように配置し、前記貫通孔内に熔融ガラスを流し込み、成形して、結晶化ガラス体の母材となる棒状のガラス成形体を得ることを特徴とするガラス成形体の製造方法であり、上記ガラス成形体を熱処理して結晶化ガラス体を製造する方法、上記ガラス成形体または結晶化ガラスをスライスして磁気ディスク基板ブランクを製造する方法、該磁気ディスク基板ブランクの主表面を研磨して磁気ディスク基板を製造する方法および該磁気ディスク基板上に磁気記録層を形成して磁気ディスクを製造する方法である。 （もっと読む）

【課題】エリプソメータを用いて薄膜評価を行うために使用される薄膜評価用基準基板及び薄膜評価方法を提供する。
【解決手段】エリプソメータを用いて薄膜評価を行うために使用される薄膜評価用基準基板であって、着色成分を含有する結晶化ガラスにより形成されることを特徴とする薄膜評価用基準基板とその基準基板を用いた薄膜評価方法であり、前記結晶化ガラスの主結晶として、Ｌｉ₂Ｏ・２ＳｉＯ₂を含有したり、前記着色成分としてＣｏ、Ｃｒ、Ｎｉ及びＭｎの全てを含有し、前記Ｃｏ、Ｃｒ、Ｎｉは酸化物ＣｏＯ、Ｃｒ₂Ｏ₃、ＮｉＯとして各々０．３〜１．０重量％含有されており、前記Ｍｎは酸化物ＭｎＯ₂として１．５〜２．５重量％含有されている場合や、前記薄膜評価用基準基板の表面の中心線平均粗さが２．０ｎｍ以下を満たすことがある。 （もっと読む）

【課題】 ガラス軟化点、耐酸性における従来のＢｉ_２Ｏ_３系ガラスの問題を解決し、従来使用されていた鉛系ガラスと同等の軟化温度を保有することができると共に、良好な耐酸性を有する無鉛ガラス組成物の提供を課題とする。
【解決手段】 本発明の無鉛ガラス組成物は、酸化物換算で、Ｂｉ_２Ｏ_３：５５〜７５重量％、Ｂ_２Ｏ_３：５〜１５重量％、ＳｉＯ_２：４〜１２重量％、ＺｎＯ：３〜１２重量％、Ａｌ_２Ｏ_３：３〜１０重量％、ＺｒＯ_２：０．１〜５重量％を含有する組成である。 （もっと読む）

【課題】通例の高清澄温度と適度の清澄剤濃度で、付加的な清澄装置を用いずに、バブルの少ないガラスセラミックグリーンガラスのガラス溶融体の製法を提供する。
【解決手段】清澄剤として酸化砒素及び酸化アンチモンを含まず、清澄剤として酸化錫を唯一の添加物として≦０．４重量％の濃度で含むリチウム・アルミニウム珪酸塩（ＬＡＳ）ガラス系に基づくガラスバッチを作製する工程と、 式： ｔ_{（ｍｉｎ）}（Ｔ，ｘ）＝２＋[０．５・（１７００−Ｔ_{（ａｖｇ）}）]＋[５０・（０．４０−ｘ）] ｈ但し、Ｔ_{（ａｖｇ）}≦１７００℃及びｘ≦０．４０％ここで、Ｔ_{（ａｖｇ）}： 平均ガラス温度 ｘ： 清澄剤濃度 ｔ_{（ｍｉｎ）}： 最小滞在時間による清澄すべきガラスの最小滞在時間（ｈ）及び平均ガラス温度を満たす溶融バットを設計する工程と、バッチを溶融し、溶融体を温度＜１７００℃で、付加的な、特殊設計高温清澄ユニットを用いずに清澄する工程とを含んで成る方法。 （もっと読む）