本発明は、溶液のマスター配列から複製配列を調製する方法および装置を提供する。溶液の複製配列は、最適なプロセスおよび所望の特性を備えた生成品の分析および選定のために、反応させて生成物の固体無機物質配列を形成させることができる。 （もっと読む）

本発明は、粒状の多結晶ケイ素を製造する方法であって、高温の表面を有する流動床反応器中で、気体状のケイ素化合物を含有する反応ガスを、６００〜１１００℃の反応温度で、流動化ガスにより流動化されて流動床となっているケイ素粒子上にケイ素金属として堆積させ、かつ堆積したケイ素を有する粒子ならびに反応しなかった反応ガスおよび流動化ガスを反応器から除去する方法において、反応器の表面に、水素９９．５〜９５モル％および気体状のケイ素化合物０．５〜５モル％を含有する気体組成物が存在し、かつ反応器の表面は、７００〜１４００℃の温度を有し、かつこの温度は、ケイ素粒子の温度に相応するか、またはケイ素粒子の温度よりも高いことを特徴とする、流動床反応器中で粒状の多結晶ケイ素を製造する方法に関する。
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【課題】多結晶シリコンの収率の高い製造方法を提供する。
【解決手段】金属の塩化物の生成自由エネルギーがシリコンより低く、かつ金属の融点もシリコンより低い金属と、下式（１）で示される気体のクロロシランとを反応させることによってシリコンを製造する方法であって、気体のクロロシランを溶融金属中に吹き込む際に、該溶融金属の温度を、該金属の絶対温度で表した融点の１．０３倍以上１．７９倍未満であり、シリコンの融点未満に保持し、かつ毎分当りのクロロシランの供給モル数を金属のモル数に対して、１．０パーセント未満とすることを特徴とする多結晶シリコンの製造方法。
ＳｉＨ_nＣｌ_4-n （１）
（式中、ｎは０〜３の整数を示す。） （もっと読む）

【課題】 珪素含有原料化合物の高い転化率、低いエネルギー要求量及び安価な原料化合物を使用することを特徴とする、高純度の珪素を製造する方法の提供。
【解決手段】 この課題は、ハロゲン化シランから珪素を製造する方法において、第一段階でハロゲン化シランをプラズマ放電の発生下にハロゲン化ポリシランに転化し、これを次いで第二段階で加熱下に珪素に分解することを特徴とする、上記方法によって解決される。 （もっと読む）

【課題】 従来の方法に比べ、水素化ハロゲン化珪素の収量を向上させること。
【解決の手段】 芳香族環に式（Ｉ）で表される官能基を結合してなり、かつ、比表面積が１５ｍ^２／ｇ以上２０ｍ^２／ｇ未満である、スチレン単位を有する架橋共重合体からなる弱塩基性陰イオン交換樹脂を水素化ハロゲン化珪素と接触させる水素化ハロゲン化珪素の反応方法を構成とする。
式（Ｉ）−ＣＨ_２ＮＲ_１Ｒ_２（Ｒ_１、Ｒ_２は、水素、アルキル基又はヒドロキシアルキル基） （もっと読む）

多結晶シリコンの製造装置において、反応管の内面をシリコンの融点以上の温度にして析出シリコンを下方の回収部へ落下させて回収する際に、反応管の下端部での温度低下に伴う該下端部での溶融シリコンの固化を防止することができるシリコン製造装置を提供する。反応管２の下端部２ａの外周を赤外線で加熱する赤外線放射装置、あるいは高周波加熱コイル４における下端部近傍のコイルで構成された、該下端部近傍よりも上方のコイル４Ｕに比して加熱強度を高めた下端側コイル４Ｌなどの温度低下防止手段を設け、この温度低下防止手段により、高周波加熱コイル４で反応管２を加熱した際における下端部２ａの温度低下を防止するようにした。
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ポリシリコンをチューブ又は他の中空体上に堆積させる。該中空体は、従来のジーメンス型反応器のスリムロッドに取って代わり、簡単な抵抗素子で内部加熱することができる。該中空体の直径は、シリコンのスリムロッドの表面積よりも非常に大きな表面積をもたらすように選択される。該中空体の材料は、冷却すると直ぐに、収縮差に起因して、堆積したポリシリコンが中空体から容易に剥がれて、回収容器中に落下するように選択することができる。 （もっと読む）

ガラスは、プリフォームの縦方向に対してほぼ平行に前後に動くプラズマトーチの前方で動かしてプリフォームに予備焼結組成物を堆積させることにより製造され、第１の供給ダクトはプラズマに予備焼結組成物の粒を供給し、場合により第２の供給ダクトはプラズマにキャリアガスと混合されたフッ素化合物又は塩素化合物、有利にフッ素化合物を供給し、その際、前記の予備焼結組成物は、３０〜９０ｍ²／ｇのＢＥＴ表面積、８０以下のＤＢＰインデックス、２５０００ｎｍ²より低いアグリゲート平均面積、１０００ｎｍより低いアグリゲート平均周長を有し、その際、前記アグリゲートの少なくとも７０％は１３００ｎｍより低い周長を有する熱分解二酸化ケイ素粉末、又は火炎加水分解法により３０ｐｐｂよりも低い金属含有量を有する四塩化ケイ素の反応により製造された０．２μｇ／ｇよりも低い金属含有量を有する熱分解法により製造された高純度の二酸化ケイ素の金属酸化物又はメタロイド酸化物の顆粒からなる。 （もっと読む）

超高純度の光学品質ガラス製品を製造する方法が開示され、前記方法は、
１． 金属酸化物又はメタロイド酸化物を緻密化して約１ミリメートルより小さい平均粒子サイズを有する顆粒にする工程；
２． 場合により、前記顆粒を完全に焼結させて、高純度の人工砂を製造する工程；
３． この顆粒状の人工砂を通常の技術、例えばスリップ注型成形により注型して、高密度の多孔性成形体を作成する工程；
４． 場合により、前記成形体を乾燥及び部分的に焼結する工程；
５． 場合により、前記成形体を真空下で完全に焼結する工程；及び
６． 場合により、前記の完全に焼結した成形体を熱間静水圧加圧成形する工程を有し、
その際、前記金属酸化物又はメタロイド酸化物は、ＢＥＴ表面積３０〜９０ｍ²／ｇ、ＤＢＰインデックス８０より低、アグリゲート平均面積２５０００ｎｍ²より低及びアグリゲート平均周長１０００ｎｍより低を有し、その際、前記アグリゲートの少なくとも７０％は１３００ｎｍより短い周長を有する熱分解二酸化ケイ素粉末、又は０．２μｇ／ｇより低い金属含有量を有する熱分解法により製造された高純度二酸化ケイ素である。 （もっと読む）

二酸化ケイ素をベースとし、かつ次の特性：平均粒度：１０〜１２０μｍ、ＢＥＴ表面積：４０〜４００ｍ²／ｇ、細孔容積：０．５〜２．５ｍｌ／ｇ、細孔分布：合計の細孔容積の５％未満が、直径＜５ｎｍを有する孔であり、残りはメソ孔及びマクロ孔、ｐＨ値：３．６〜８．５、タップ密度：２２０〜７００ｇ／ｌを有する顆粒。前記顆粒は、二酸化ケイ素を水中に分散、噴霧乾燥、場合により加熱及び／又はシラン化することにより調整される。その際、ＢＥＴ表面積３０〜９０ｍ²／ｇ、ＤＢＰ値８０以下、アグリゲート平均面積２５０００ｎｍ²未満及び平均アグリゲート周長１０００ｎｍ未満を有し、アグリゲートの少なくとも７０％が１３００ｎｍより小さい周長を有する熱分解二酸化ケイ素粉末又は０．２μｇ／ｇより少ない金属含有量を有する高純度な熱分解により調整された二酸化ケイ素（３０ｐｐｂよりも少ない金属含有量を有する四塩化ケイ素を火炎加水分解により反応させて調整された）が使用される。 （もっと読む）

【課題】高い増粘作用と同時にポリマー、特にシリコーンポリマーへの短い導入時間及び良好な分散可能性を有する二酸化ケイ素粉末を提供する。
【解決手段】一次粒子の凝集体の形の熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末であって、一次粒子が
− ＢＥＴ表面積１５０±１５ｍ^２／ｇを有し、該凝集体が
− 平均表面積１２０００〜２００００ｎｍ^２、
− 平均等価円直径（ＥＣＤ＝等価円直径）９０〜１２０ｎｍ、及び
− 平均周囲長１１５０〜１７００ｎｍ
を有する二酸化ケイ素粉末を製造する。 （もっと読む）

【課題】液体媒体中に迅速に混和する二酸化ケイ素粉末の提供。
【解決手段】ＢＥＴ表面積９０±１５ｍ^２／ｇを有する一次粒子の凝集体の形の、熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末であって、凝集体が、平均表面積１００００〜２００００ｎｍ^２、平均相当円周直径９０〜１３０ｎｍおよび平均円周１０００〜１４００ｎｍを有する熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末。
ＳｉＣｌ_４およびＨ_３ＳｉＣｌ、Ｈ_２ＳｉＣｌ_２、ＨＳｉＣｌ_３、ＣＨ_３ＳｉＣｌ_３、（ＣＨ_３）_２ＳｉＣｌ_２、（ＣＨ_３）_３ＳｉＣｌ、（ｎ−Ｃ_３Ｈ_７）ＳｉＣｌ_３からなる群から選択された第２の成分を一次空気および燃焼ガスと混合し、反応室の中に燃焼させ、この際燃焼室中に更に二次空気を供給し、かつ供給物質を断熱火炎温度Ｔ_ａｄが１８１０〜１８９０℃になるように選択する。
該熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末を含有する分散液。 （もっと読む）

【課題】高い増粘作用と同時にポリマー、特にポリエステル樹脂への短い導入時間を有する二酸化ケイ素粉末を提供する。
【解決手段】一次粒子の凝集体の形の熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末であって、一次粒子が
− ＢＥＴ表面積２００±２５ｍ^２／ｇを有し、かつ該凝集体が
− 平均表面積７０００〜１２０００ｎｍ^２、
− 平均等価円直径（ＥＣＤ＝等価円直径）８０〜１００ｎｍ、及び
− 平均周囲長８５０〜１０５０ｎｍ
を有する二酸化ケイ素粉末を製造する。 （もっと読む）

【課題】迅速に液状媒体に導入できる二酸化ケイ素粉末を提供する。
【解決手段】ＢＥＴ表面積３００±２５ｍ^２／ｇを有する一次粒子の凝集体の形の熱分解法により製造された二酸化ケイ素粉末であって、該凝集体が
− 平均表面積４８００〜６０００ｎｍ^２、
− 平均等価円直径（ＥＣＤ＝等価円直径）６０〜８０ｎｍ、及び
− 平均周囲長５８０〜７５０ｎｍ
を有する二酸化ケイ素粉末を製造する。 （もっと読む）

【課題】 広い面積にわたって均一に薄膜を形成することのできるシリコン含有固体膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 チャンバー内でシラン誘導体からなる原料流体と二酸化炭素からなるキャリア流体を混合して超臨界状態を形成し、さらに白金、タングステン、コバルト、ニッケル、鉄またはその合金から選ばれたすくなくとも１種の金属触媒による触媒反応により超臨界流体中の原料流体に活性種を発生させ、その流体を基板に吹き付けることにより、基板上にシリコン含有固体膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】クロロシランと水素とからシリコンを析出させるに際して、副生する塩化水素ガスが、析出反応排ガス中に高濃度で含まれていても、塩化水素を効率よく除去・回収可能し、設備の省コスト、省スペース化を可能にするシリコンの製造方法を提供する。
【解決手段】下記(a)から(e)の工程を含むシリコンの製造方法；(a)クロロシランと水
素とを加熱基材上で反応させてシリコンを生成せしめる工程、(b)反応排ガスを、-10℃以下に冷却してクロロシランの一部を凝縮除去する工程、(c)クロロシランと水素と塩化水
素を含有する水素を1×10^-9m〜3×10^-9mの平均細孔半径をもつ活性炭の充填層に通過させ、該水素中のクロロシランを0.01体積％以下まで吸着除去する工程、(d)ついで5×10^-10
ｍ〜1×10^-9ｍの平均細孔半径をもつ活性炭の充填層に通過させ、水素中の塩化水素を0.01体積％以下まで吸着除去する工程、(e)前記(b)工程〜(d)工程を経て精製された水素を、前記(a)のシリコン析出工程に循環させる工程。 （もっと読む）

【課題】シリコン表面に低温で効率良く酸化膜を形成し、発色させる方法を提供する。
【解決手段】シリコンをシリコン塩化物ガスの雰囲気に晒し、水分を供給することにより前記シリコン表面に酸化膜を形成することを特徴とするシリコン表面の発色方法である。より詳細には、前記シリコン塩化物ガスの雰囲気として四塩化珪素または三塩化シランを不活性ガスで希釈して用い、また前記シリコン塩化物ガスの雰囲気を５０〜３００℃とし、そして水分が不活性ガスをキャリアガスとした水蒸気含有量を１．０〜８．０ｍｏｌ％、かつその温度を１０〜４０℃とした混合ガスとして供給するシリコン表面の発色方法である。
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本発明は、触媒の存在で、少なくとも１個の比較的高度に塩素化されたシランの不均化により一般式Ｈ_ｎＳｉＣｌ_４−ｎ（ｎは１，２，３および／または４である）のシランを製造する装置に関し、前記装置は塔底部（１．１）および塔頭部（１．２）を有する少なくとも１つの蒸留塔（１）、触媒床（３）を有する少なくとも１つの側面反応器（２）、少なくとも１つの供給物入口（１．３）、生成物取り出し口（１．４）および少なくとも１つの他の生成物取り出し口（１．５または１．８）をベースとする装置であり、蒸留塔（１）が少なくとも１つの煙突トレー（４）を備えており、少なくとも１つの側面反応器（２）が少なくとも３個の管（５，６，７）により蒸留塔（１）に接続され、煙突トレー（４、４．１）からの凝縮物を排出するための蒸留塔（１）への管（５）の接続位置が触媒床（３、３．１または３．２）の上側端部より高い位置にあり、側面反応器（２）から液相を排出するための管（６）が蒸留塔（１）に煙突トレー（４）より下で開口し、この開口（６、６．１）が触媒床（３、３．１または３．２）の上側端部より低い位置にあり、結合した側面反応器（２）から気相を排出するための管（７）が蒸留塔（１）に、煙突トレー（４）の高さ（４．１）より高い位置で開口する（７.１）。本発明は更に本発明による装置で前記シランを製造する方法を提供する。
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高シリカ純度で、形状と粒子径が均斉のとれたシリカマイクロスフィアを提供する。外径５０〜１２５μｍ、好ましくは６０〜９０μｍ、壁厚１μｍ以上、好ましくは１〜３μｍ、および密度０．３〜０．７ｇ/ｃｍ^３を有し、シリカマイクロスフィア(Ｍ)全重量に対してシリカを９５重量％以上、好ましくはシリカマイクロスフィア(Ｍ)全重量に対してシリカを９９重量％以上含むシリカマイクロスフィア(Ｍ)である。 （もっと読む）

ＢＥＴ表面積３０〜９０ｍ^２／ｇ、少なくとも８０のジブチルフタレート数及び１１０ｇ／ｌ以下の重装嵩密度を有する熱分解により製造されたシリカ粉末。該シリカ粉末は少なくとも１種の蒸気状のケイ素化合物、遊離酸素を含有するガス及び燃焼ガスを密閉された燃焼器中で一緒に混合し、次いで燃焼器の火炎管中の火炎において燃焼させ、得られた固体をガス混合物から分離し、場合により生成し、その際、遊離酸素を含有するガスの酸素含量を、ラムダ値が１以上となるように調整し、かつガンマ値を１．２〜１．８にして製造する。該シリカ粉末はトナー用途で使用できる。
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