【課題】従来技術において使用された電磁分離法やシランガスを原料として用いることなく、原料と同等の同位体組成を持つ平滑なシリコンおよび同位体濃縮シリコン薄膜を製造する方法を提供する。
【解決手段】ハロゲン化シリコンあるいはシリコンの同位体を濃縮したハロゲン化シリコンを原料として用い、水素と反応させることにより、基板上に、シリコン薄膜または同位体濃縮シリコン薄膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】アルミニウム融液(2)に溶解したシリコンを晶出させて得た固体シリコン(1)を、アルミニウム融液(2)から容易に分離して取り出すことのできる固体シリコン(1)の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の製造方法は、アルミニウム融液(2)に冷却体(3)を接触させ、この冷却体の表面に上記シリコンを固体シリコン(1)として晶出させることを特徴とする。通常アルミニウム融液におけるシリコン含有量はアルミニウムおよびシリコンの合計含有量１００質量部あたり２０〜６０質量部であり、アルミニウム融液の温度(Ｔ₂)は(液相線温度Ｔ_L−１０℃)以上、(Ｔ_L＋１５０℃)以下であり、冷却体の温度(Ｔ₃)は共晶温度(Ｔ_C)を超え、Ｔ_L未満である。アルミニウム融液(2)は、例えば式（Ｉ）
ＳｉＨ_nＸ_4-n （Ｉ）
で示されるハロゲン化ケイ素を加熱溶融状態の金属アルミニウム中に吹き込む方法により得る。 （もっと読む）

【課題】液体処理容器内の圧損を増加させずに液体をフィードできるといった優れた特徴を有する珪素酸化物含有乾燥ゲルの充填方法を提供する。”乾燥ゲル”とは、減圧、昇温または送風等の乾燥操作により液体を除去したゲルを意味し、また“湿潤ゲル”とは乾燥操作が施されておらず液体を保有しているゲルを意味する。また、珪素酸化物含有ゲルとは珪素酸化物含有乾燥ゲルおよび珪素酸化物含有湿潤ゲルを表す。
【解決手段】珪素酸化物含有乾燥ゲルを予めゲルを膨張せしめる液体で膨張させた後に液体処理容器に充填する、もしくは予めゲルを膨張せしめる液体を入れた液体処理容器に珪素酸化物含有乾燥ゲルを充填する珪素酸化物含有乾燥ゲルの充填方法。 （もっと読む）

本発明は、シラン処理の結果として表面上に固定されたトリメチルシリル基を有するフュームドシリカを粉砕することによって得られる疎水性のフュームドシリカ、およびこのシリカを含む被覆配合物に関する。 （もっと読む）

【課題】渦動床反応器中で反応ガスをシリコン顆粒に析出させることによって高純度のポリシリコン顆粒を連続的に製造する方法を提供する。
【解決手段】少なくとも２つの隣接する帯域からなる反応空間を備えた反応器において、下方の帯域はシリコン不含ガスを複数のできるだけ均一に分布したノズルを通してシリコン顆粒中に導入することによって弱く流動化され、上方の帯域は壁の外側に設けた加熱装置により加熱され、形成された反応帯域中にシリコン含有反応ガスは１つ以上のノズルにより上向きに垂直方向に向いたガス噴流よりも高速で噴入され、ノズルの上方で気泡を形成する渦動床によって包囲されて局部的な反応ガス噴流が形成され、反応ガス噴流の内部でシリコン不含ガスは粒子表面上で分解し、粒子の成長を生じ、反応ガスは殆んど化学的な平衡反応が静止するまで導入され、反応ガスに含まれるシリコンをシリコン顆粒に析出させる。 （もっと読む）

【課題】クロロシラン類と水素との還元反応を、効率的かつ安全に行うことができる方法および該方法に好適に用いることができるクロロシラン類の水素還元用装置を提供する。
【解決手段】クロロシラン類含有ガスの水素還元方法は、クロロシラン類と水素とを加熱下で反応させる反応域より排出される７００〜１５００℃のクロロシラン類を含む反応排ガスを、７００℃以上の温度に維持された熱処理域において２秒以上の平均滞在時間となるように熱処理する工程と、熱処理された反応排ガスを３５０℃以下に冷却する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】有機成分を含まない高純度の二酸化ケイ素膜を形成するために有用な二酸化ケイ素前駆体および二酸化ケイ素前駆体組成物を提供する。
【解決手段】上記二酸化ケイ素前駆体は、下記示性式（１）（Ｈ_２ＳｉＯ）_ｎ（ＨＳｉＯ_１．５）_ｍ（ＳｉＯ_２）_ｋ （１）（式（１）中、ｎ、ｍおよびｋはそれぞれ数であり、ｎ＋ｍ＋ｋ＝１としたとき、ｎは０．０５以上であり、ｍは０を超えて０．９５以下であり、ｋは０〜０．２である。）で表され、１２０℃において固体状であるシリコーン樹脂である。 上記二酸化ケイ素前駆体組成物は、上記シリコーン樹脂および有機溶媒を含有する。 （もっと読む）

【課題】還元剤としての亜鉛ガスの連続した安定供給により、高純度多結晶シリコンを大量、かつ安価に提供可能な製造装置および製造方法を提供する。
【解決手段】縦型反応器１にはシリコン塩化物Ｂの気化装置８から供給されてくるシリコン塩化物ガスと、亜鉛の溶融蒸発装置５から供給されてくる亜鉛ガスＡとを、縦型反応器１内にそれぞれ供給するノズル２及び３を備え、また、縦型反応器１には排気ガス抜き出しパイプ４を備えていることを特徴とし、亜鉛の溶融蒸発装置５には、蒸発器の上部に接続された主縦筒部と、その内方に挿入された固形分分離パイプに斜めに接続された亜鉛導入用パイプと、固形分分離パイプの下端開口部を囲繞するように配置された、シールポットと、主縦筒部の誘導加熱装置と、蒸発器の側壁に接続されたガス抜き用パイプと、を備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】還元法によりシリコン塩化物から多結晶シリコンを製造する際に発生する廃棄物を減少させ、副原料の循環再利用を増加させることにより、廃棄物発生量の少ない、比較的安価な多結晶シリコンの製造方法を提供する。
【解決手段】シリコン塩化物と還元剤ガスとの気相反応により多結晶シリコンを製造する際に、反応装置から排出される排気ガス中に塩素ガスを吹き込み反応させ、排気ガス中に存在する未反応還元剤、粉末状シリコンを塩素化し、排気ガス中に含まれる還元剤塩化物とそれ以外の不純物とを分離し、還元剤塩化物を回収する。 （もっと読む）

【課題】保存安定性が優れ、硬質シリカ系層を形成できる液状硬化性組成物；均一性と平坦性と耐クラック性と密着性に優れた硬質シリカ系層を形成できるコーテイング方法；耐熱性、耐寒性、電気絶縁性、機械的強度、耐薬品性等が優れた無機質基板；精度と信頼性と長期間安定性が優れた半導体装置を提供する。
【解決手段】水酸基を有する多価金属酸化物微粒子が分散している有機溶媒中で、ハイドロジェンハロシランもしくはアルコキシシランを縮合反応または加水分解縮合反応させて得られた液状硬化性組成物。該組成物を無機質基板にコーテイングし、硬化させて硬質シリカ系層を形成する、無機質基板のコーテイング方法。該硬質シリカ系層を有する無機質基板。該無機質基板上に半導体層を有する半導体装置。 （もっと読む）

【課題】電力原単位が低く、低コストで効率よくシリコンを製造することが可能なシリコンの製造方法を提供する。
【解決手段】円筒のルツボ本体２と蓋部３とにより構成された反応容器１に原料用のシリコンＡを投入し、次いで、シリコンＡを１０００℃以上かつシリコンの融点以下の温度に加熱し、この加熱されたシリコンに、蓋部３に設けられた原料ガス導入管４によりシラン系ガス、シラン系ガス及び水素ガス、のいずれかの反応ガスＧを通流させてシラン系ガスの分解または還元により生じたシリコンを原料用のシリコンＡの表面に成長させ、次いで、反応容器１から蓋部３を取り外し、反応容器１内のシリコンをその融点以上の温度にまで加熱することにより溶融、落下させて回収する。 （もっと読む）

【課題】 筒状部材は、上部より下部の方が析出したシリコンが堆積しやすく、下部の損傷が進むと全体を交換しなければならなかった。また、交換作業が容易ではなく、捕集効率が低下しシリコンを安価に製造することが困難であった。
【解決手段】 その内面でシラン系ガスを接触させてシリコン５を析出させる複数の反応部材６ａ〜６ｄが上下に積み重なって構成されているとともに、その内面が下方に拡がって傾斜している筒状部材６である。上側の反応部材に析出したシリコン５は下側の反応部材に接触しながら落下することがほとんどなくなり、そのまま鉛直方向に落下するため、下側の反応部材の損傷が抑制され長寿命化が図れる。また、反応部材６ａ〜６ｄの交換は損傷が進んだもののみを取り替えればよいため、部品コストが低減でき、短時間で容易に交換することができるので稼働率を低下させることなくシリコン５を安価に製造することができる。 （もっと読む）

高度に均一なシリコン／ゲルマニウムナノ粒子が、望ましい小さな二次粒子サイズを有する安定な分散物に形成されることができる。シリコン／ゲルマニウム粒子は、分散物を形成するために表面改質されることができる。シリコン／ゲルマニウムナノ粒子は、粒子特性を変化させるためにドーピングされることができる。分散物は、適切な／用途のためのインクとして印刷されることができる。分散物は、光起電力電池の形成のため又は印刷された電子回路の形成のためなどの、選択的にドーピングされた半導体材料の堆積物を形成するために用いられることができる。
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【課題】シリコンを効率的に製造する方法を提供する。特に太陽電池製造に適したシリコンを効率的に製造する方法を提供する。
【解決手段】（１）で示されるハロゲン化シランを金属により還元してシリコンを製造する方法であって、該金属の形状がワイヤ状であることを特徴とするシリコンの製造方法。
ＳｉＨ_nＸ_4-n ・・・・（１）
（式中、ｎは、０〜３の整数であり、Ｘは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれたハロゲン原子である。Ｘが複数のとき、複数のＸは互いに同一でも異なってもよい。） （もっと読む）

【課題】トリクロロシランを生成する転換設備に接続され、転換反応の生成ガスに含まれる水素を効率よく精製回収して再利用することができる水素精製回収方法およびその設備を提供する。
【解決手段】トリクロロシランを生成させる転換反応において生成した混合ガスを活性炭充填層に通じ、クロロシラン類および塩化水素を活性炭に吸着させてガス中から分離することを特徴とする水素精製回収方法および設備であって、好ましくは、クロロシラン類を主に吸着する前段活性炭充填層と、塩化水素を主に吸着する後段活性炭充填層の二段に形成し、上記混合ガスを上記前段活性炭充填層および上記後段活性炭充填層に連続して通過させてクロロシラン類と塩化水素を段階的に分離する水素精製回収方法および設備。 （もっと読む）

【課題】金属シリコン粉末を流動層内で塩化してシリコン塩化物を製造するに際し、金属シリコン微粉末の戻し配管の閉塞が少なく、安定した操業が可能なシリコン塩化物の製造方法を提供する。
【解決手段】流動層炉のサイクロンに連接される戻し配管６の配管断面積（Ｓ１）と戻し配管の粉末排出口７の鉛直投影面積（Ｓ２）との関係が「０．２≦（Ｓ２／Ｓ１）≦０．８」を満たし、戻し配管の内径（Ｄ１）と粉末排出口から流動ガス送気ノズル８までの距離（Ｄ２）が「０．２≦（Ｄ２／Ｄ１）≦８」を満たすように構成された戻し配管を用いる。さらに、Ｓ１と戻し配管の粉末排出口の開口面積（Ｓ３）との関係が「０．２≦（Ｓ３／Ｓ１）≦０．８」を満たすものであれば、戻し配管の閉塞抑制効果は一層向上する。 （もっと読む）

【課題】ヒュームドシリカ及び高品質で品質経時安定性を有する大量のシリカの調製方法及び装置の提供。
【解決手段】本発明のヒュームドシリカの調製方法は、ヒュームドシリカの比表面積が３０ｍ^２／ｇ〜５００ｍ^２／ｇ、平均凝集粒子径が１００ｎｍ〜５００ｎｍであり、シリコーンオイル中に最適に分散された前記ヒュームドシリカ２重量％に基づく相対的な増粘作用が２．０超であり、前記ヒュームドシリカに対する粗粒子の割合が０．０３重量％未満であり、前記ヒュームドシリカの１０重量％水分散体１ｍｌ当り粗粒子が１００，０００個未満であり、反応器内の炎で、少なくとも１つ又は複数のケイ素化合物１００ｋｇ／ｈと反応する反応ガスは、燃焼ガス１００ｍ^３（ＳＴＰ）／ｈ及び酸素を２０体積％超含む空気３００ｍ^３（ＳＴＰ）／ｈであり、反応器ノズルで使用される気体のノズル流出速度は、１０ｍ／ｓ〜２００ｍ／ｓであり、反応器におけるノズルのガス速度及び温度が放射状に均一に分布することを特徴とする。 （もっと読む）

少なくとも９３％（ｗ／ｗ）のネオペンタシランを含む組成物、及びテトラキス（トリハロシリル）シランを水素化ジイソブチルアルミニウムで処理することを含む、ネオペンタシランを含む組成物を製造する方法。 （もっと読む）

表面変性され、高度に構造化された酸化カリウムでドープされたシリカであって、ＢＥＴ表面積（ｍ²／ｇ）：２５〜４００、平均一次粒度（ｎｍ）：５〜５０、ｐＨ：３〜１０、炭素含量（質量％）：０．１〜１０、酸化カリウム含量（質量％）：０．０００００１〜４０を特徴とするシリカは、酸化カリウムでドープされたシリカを表面変性に供することによって製造される。前記熱分解シリカは、シリコーンゴム組成物中で充填剤として使用されてよい。 （もっと読む）

トランス結合誘導プラズマ反応器を用いることで、純シリコンパウダーを製造するように、シリコンを含む前駆体を分解するプラズマの連続的な形成を行うことができる。そして、純シリコンのパウダーは集められ、処理されて太陽光発電または半導体に用いるシリコンのインゴットを製造するのに使用される。
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