【課題】不純物や斑点を低減した良質の多結晶シリコンを得ることができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】酸を満たした状態の複数の酸槽２〜６に多結晶シリコンＳを順次浸漬しながら洗浄する多結晶シリコン洗浄装置であって、各酸槽２〜６の液温は、隣接する酸槽の後段位置の酸槽が前段位置の酸槽と同じかもしくは低く設定され、かつ、最も前段位置の酸槽２よりも最も後段位置の酸槽６の方が低温に設定され、各酸槽２〜６に、その液温を一定に維持する温調手段１８が設けられている。 （もっと読む）

【解決手段】珪素粒子と二酸化珪素粒子との混合物を、非酸化雰囲気下１０００〜１４００℃で焼結させてなり、ゆるめ嵩密度が０．７〜２．０ｇ／ｃｍ³、かつＢＥＴ１点法で測定した比表面積が０．０１〜３０ｍ²／ｇであることを特徴とする酸化珪素製造用原料。
【効果】本発明の酸化珪素製造用原料及びその製造方法によれば、酸化珪素製造時の反応性を低下させることなく、反応器単位容積あたりの原料充填率を高め、さらに吸湿を抑制し、安定した物性の酸化珪素を効率よく製造でき、装置部材の劣化を抑制することができる。 （もっと読む）

本発明は、それぞれ特に効果的な資源利用度および低減された有害物質エミッションを有する、シリコン、有利には高純度のシリコン、特にソーラシリコンを製造するための設備、ならびにシリコン、有利には高純度のシリコン、特にソーラシリコンを製造するための方法に関する。
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【課題】四塩化珪素の加水分解による高純度シリカ粒子の製造方法において、四塩化珪素の反応効率がよく、シリカ含有量の高いゲルを得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】四塩化珪素の加水分解によって高純度のシリカ粒子を製造する方法において、管路型の混合器を用い、混合器の管路に純水と四塩化珪素を導入し、冷却下で混合した後に、この混合液を冷却した容器に入れて静置し、生成したゲルを乾燥して焼成することを特徴とする高純度シリカ粒子の製造方法であり、好ましくは、四塩化珪素の導入量が純水１リットルに対して１.５モル以上であり、生成したゲル中のシリカ含有量が５.０質量％以上であって、５０μｍ以上の平均粒子径を有する高純度シリカ粒子を製造する方法。 （もっと読む）

【課題】ワックスやポリマ加工を不要にし、耐久性にすぐれた無機被膜を形成する方法を提供する。
【解決手段】水と接触して珪素成分とアルミニウム成分を溶出し得る石英斑岩、電気石、麦飯石から選ばれた１種または２種以上の選択された鉱石を素材としてなり、化学組成として珪素５０〜８０％（重量％、以下同様）、アルミニウム１０〜５０％、チタニウム１．０〜１０％、鉄１．０〜９．０％を含むセラミック材の粒子１４またはそれらセラミック材を表層成分とした表層を有する粒子に原水ａを接触させ、この原水ａに電荷を帯びた前記化学成分を励起電流とともに溶出させて電荷水ｂとなし、次いでその電荷水ｂを電磁界内に導入、通過させ誘導電流を発生させた後、その磁界処理を行った電荷水ｂをワーク３３表面に噴射またはワーク３３をこの電荷水ｂに浸漬して接触させて、そのワーク３３表面に前記溶出成分の酸化物を主成分とする無機被膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】蛍光色素分子、吸光色素分子等のカルボキシル基を有する機能性有機分子のシリカナノ粒子への取り込み効率を向上させるシリカナノ粒子の製造方法、それにより製造されるシリカナノ粒子及び取り込む方法を提供する。また、測定結果の再現性に優れる、極微量標的物質の高感度定量分析が可能な標識試薬を提供する。
【解決手段】次の工程（ａ）及び（ｂ）を含んでなる少なくとも１つのカルボキシル基を有する機能性有機分子を含有するシリカナノ粒子の製造方法。
（ａ）少なくとも１つのカルボキシル基及び少なくとも１つの活性エステル基を有する機能性有機分子を、少なくとも１つのアミノ基を有するオルガノアルコキシシランの前記アミノ基とアミド結合させる工程、及び
（ｂ）前記工程（ａ）で得られたアミド結合化合物とテトラアルコキシシランとをそれぞれ加水分解させ、得られたオルガノシラノール及びシラノールを縮重合反応させ、前記機能性有機分子を含有するシリカナノ粒子を調製する工程。 （もっと読む）

【課題】屈折率が低く、湿度変化に対して安定なシリカ膜が形成可能な組成物および該組成物から作製される反射防止膜基板を提供する。
【解決手段】ケイ素化合物を含有する組成物であって、該組成物を基板に塗布し、４００℃以上、４５０℃以下で、１分以上、１時間以下焼成して得られた膜の屈折率が１．２５以下とし、かつ該組成物を４００℃以上、４５０℃以下で、１分以上、５時間以下焼成して得られた粉末の、２５℃での相対水蒸気圧０．３＜Ｐ／Ｐ_０＜０．９における水蒸気吸着量差Δが０．０３ｇ／ｇ以下とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表面に疣状突起を有する球状シリカ微粒子が溶媒に分散してなるシリカゾルであって、特に、ナトリウムなどの含有割合が低レベルにある球状シリカ微粒子が溶媒に分散してなるシリカゾル、および、その様なシリカゾルの製造方法を提供する。
【解決手段】表面に複数の疣状突起を有する球状シリカ微粒子が溶媒に分散してなるシリカゾルであって、該球状シリカ微粒子のＢＥＴ法により測定された比表面積を（ＳＡ１）とし、画像解析法により測定される該シリカ微粒子の平均粒子径（Ｄ２）から換算した比表面積を（ＳＡ２）としたときの表面粗度（ＳＡ１）／（ＳＡ２）の値が、１．９〜５．０の範囲にあり、該平均粒子径（Ｄ２）が１０〜２００ｎｍの範囲にあり、ナトリウム含有割合が１００質量ｐｐｍ以下の範囲にあることを特徴とするシリカゾル。 （もっと読む）

【課題】分散剤や樹脂等のバインダー成分がオープン孔内へ侵入するのを防止することができ、低屈折率性、低誘電性等の多孔質酸化物粒子の特性を維持することができる表面被覆多孔質酸化物粒子及び多孔質酸化物粒子の表面被覆方法を提供する。
【解決手段】本発明の表面被覆多孔質酸化物粒子は、酸化ケイ素等からなる多孔質酸化物粒子１の外周表面２に反応点５を形成し、この反応点５に有機高分子からなる被覆層６を結合して固定し、この被覆層６によりオープン孔３の開口端を封止するとともに、このオープン孔３内を親水性とし、この被覆層６の厚みを０．１ｎｍ以上かつ３０ｎｍ以下とした。 （もっと読む）

【課題】シリコンの加工工程及び回収・再生工程において、不純物金属や炭素とシリコンとの化学反応を抑制することで、これら金属及び炭素によるシリコンの汚染を低減させた電子産業用シリコンの加工方法及び再生方法を提供する。
【解決手段】シリコンインゴットやシリコンウェーハを加工する加工方法又はその加工により生じた加工屑を含有するシリコンスラッジから、シリコンを回収し、電子産業用シリコンとして再生するシリコンの再生方法において、シリコンの加工表面又はシリコン削り屑を含む溶液に酸化還元電位を制御するガスを添加する電子部品用シリコンの加工方法及び再生方法。 （もっと読む）

【課題】四塩化珪素の加水分解によって合成シリカ粉を製造する方法において、生産性がよく合成シリカ粉の製造方法を提供する。
【解決手段】四塩化珪素の加水分解によってシリカ粉を製造する方法において、加水分解で副生する塩酸を水酸化アンモニウムを添加して中和しながら反応を進行させてシリカ質のゲルを生成させ、該ゲルを乾燥することを特徴とする合成シリカ粉の製造方法であり、溶液のｐＨを１〜７好ましくは１〜２に制御してシリカ質のゲルを生成させる合成シリカ粉の製造方法。 （もっと読む）

【課題】イオン性界面活性剤または高分子量非イオン性界面活性剤のような特定の鋳型を使用する必要がなく、特別の装置も必要ない多孔質シリカ相を形成可能な塗布液及びその製造方法と多孔質シリカ薄膜が形成される基材が平板なものに限定されることがない多孔質シリカ相の形成方法等を提供する。
【解決手段】多孔質シリカ相を形成可能な塗布液は、ＴＥＯＳとＴＥＯＳの重合のための触媒である酢酸とＴＥＯＳの溶解性を高めるための所定のアルコール類とシリカ相に細孔を形成するための添加物である所定の低分子量ジオール類と塗布液調製用の水とを備えている。所定の低分子量ジオール類としては、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール又は１，４−ブタンジオールとすることが好適である。多孔質シリカ相の形成方法は、上記塗布液中にガラス基板または試験管等の基材を浸漬させることにより、所定の基材に多孔質シリカ相を形成させる。 （もっと読む）

【課題】平均粒子径及び比表面積が小さい中空シリカ粒子、並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】（１）平均粒子径が０．１〜１μｍで、粒子全体の８０％以上が平均粒子径±３０％以内の粒子径を有し、かつＢＥＴ比表面積が３０ｍ²／ｇ未満である中空シリカ粒子、及び（２）粉末Ｘ線回折測定において、面間隔（ｄ）が１〜１２ｎｍの範囲に相当する回折角（２θ）にピークを示す、粒子内部に空気を含有する中空シリカ粒子（Ａ）、又は焼成により消失して中空部位を形成する材料を内包するコアシェル型シリカ粒子（Ｂ）を、９５０℃を超える温度で焼成する、ＢＥＴ比表面積が３０ｍ²／ｇ未満の中空シリカ粒子の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】四塩化珪素の加水分解によって合成石英粉を製造する方法において、生成したゲルを濃縮してシリカ含有率を高めて生産性を向上させた製造方法を提供する。
【解決手段】四塩化珪素の加水分解によって生成したシリカ質のゲルを１５０時間以上放置して自然脱水した後に、乾燥し焼成して石英粉にすることを特徴とする合成石英粉の製造方法であり、例えば、容器内の純水を攪拌しながら四塩化珪素を添加してシリカ質のゲルを生成させ、該ゲルを常温大気下に２００時間以上放置して自然脱水させ、含水量比８５％以下に低減した後に、乾燥し焼成して石英粉にする合成石英粉の製造方法。 （もっと読む）

【課題】長期に渡って画像を形成しても静電潜像保持体表面の傷の発生を抑制するトナー用外添剤を提供すること。
【解決手段】無機粒子と、該無機粒子表面を被覆し、フッ素と窒素とを含む有機材料を含有する被覆層とを有し、Ｘ線光電子分光法により、Ａｒエッチングしながら測定した窒素原子に対するフッ素原子の含有量の比率が、Ａｒエッチング時間が０秒以上１００秒以下の範囲内において２．０以上２０以下であることを特徴とするトナー用外添剤。 （もっと読む）

【課題】廃スラリーから簡易に多くの高純度シリコンを回収することができるシリコン回収方法を提供する。
【解決手段】本発明のシリコン回収方法は、砥粒とクーラントを含むスラリーを用いたシリコン塊又はシリコンウエハの切断又は研磨によって前記スラリーにシリコン屑が混入された廃スラリー又はその濃縮分を固液分離してシリコン屑を含有するシリコン回収用固形分を取得する第１固液分離工程と、洗浄液を用いて前記シリコン回収用固形分を洗浄する洗浄工程と、前記洗浄液と前記シリコン回収用固形分を固液分離する第２固液分離工程とを備え、前記クーラントは、液状有機物を含み、前記洗浄液は、前記液状有機物に対し相溶性を有し且つ前記液状有機物よりも沸点が低い低沸点有機溶媒と水とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】疎水性に優れると共に一次粒子径の変動係数が小さいシリカ粒子、およびその製造方法の提供。
【解決手段】シリカ粒子は、メトキシ基および／またはエトキシ基と、炭素数４〜１８のアルコキシ基と、−ＯＳｉＲ²₃（Ｒ²はアルキル基、アリール基、およびアルケニル基から選択された一種または二種以上の基を表す）とが表面に結合し、一次粒子径の変動係数が１０．０％以下であるシリカ粒子である。この粒子は、Ｒ⁵_mＳｉＲ⁶_(4-m)（Ｒ⁵は置換基を有していても良いアルキル基等から選択された一種または二種以上の基を表し、Ｒ⁶はメトキシ基、およびエトキシ基から選択された一種または二種以上の基を表し、ｍは０〜３の整数を表す）を溶媒中で加水分解縮合させて得た分散液の前駆体粒子(I)の表面に、炭素数４〜１８のアルコキシ基を結合させ、更にシリル化剤で表面処理することにより得られる。 （もっと読む）

【課題】 ＣＺ引上げ法による半導体用シリコン単結晶の製造や、太陽電池用多結晶シリコンの製造等に溶解原料として使用される多結晶シリコンを高度に洗浄する。洗浄コストを下げる。シリコンロス、薬液使用量、廃液による環境負荷を軽減する。ＮＯｘガス発生の問題を解決する。
【解決手段】 シーメンス法により還元反応炉内で多結晶シリコンを製造した後、還元反応炉を開放する前に、還元反応炉内に水蒸気を含む清浄なガスを導入し、多結晶シリコン１の表面に汚染が少ない酸化膜２を形成する。その多結晶シリコン１にフッ酸による洗浄処理を行い、多結晶シリコン１の表面に形成された汚染が少ない酸化膜２を除去する。 （もっと読む）

【課題】シリコン単結晶引き上げ用ルツボや、各種半導体製造分野で使用される高純度の合成シリカ粉を生産性よく低コストで製造する方法を提供する。
【解決手段】水溶液系反応によってシリカスラリーを生成させ、このシリカスラリーに四塩化珪素を添加して加水分解させることによってシリカ粒子を含んだゲルを形成し、このゲルを乾燥・焼成してシリカ粉を製造することを特徴とする合成シリカ粉の製造方法であり、例えば、濃塩酸中に四塩化珪素を添加することによって生成させたシリカ濃度の高いシリカスラリーを用い、または強攪拌下で、水に四塩化珪素を加えることによって生成させたシリカ濃度の高いシリカスラリーを用いる合成シリカ粉の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高純度の合成シリカ粉を生産性よく低コストで製造する方法を提供する。
【解決手段】四塩化珪素の湿式加水分解によってシリカ粉を製造する方法において、強攪拌下で、水に四塩化珪素を加えることによって高濃度シリカスラリーを生成させ、該シリカスラリーを乾燥し、焼成してシリカ粉を製造することことを特徴とする合成シリカ粉の製造方法であり、好ましくは、水１Ｌに対して四塩化珪素８〜１０モルを、攪拌レイノルズ数２５０００以上の強攪拌下で加え、容器を冷却して液温を５０℃以下に抑えながら、四塩化珪素を少量づつ加えて、シリカ濃度５００ｇ/Ｌ以上のシリカスラリーを生成させる合成シリカ粉の製造方法。 （もっと読む）