【課題】費用をかけずに、低い酸使用量及び低いシリコン損失量で、多結晶シリコン破砕物を＜１００ｐｐｂｗ、有利に＜１０ｐｐｂｗの金属含有量にまで清浄化する方法を提供すること。
【解決手段】ポリシリコン破砕物を、ＨＦ及びＨ₂Ｏ₂を有する水性清浄化溶液中に入れ、前記水性清浄化溶液を除去し、こうして得られたポリシリコン破砕物を高純度の水で洗浄し、引き続き乾燥させる。 （もっと読む）

【課題】 極めて制御された均一な形状を有するとともに、不純物量が少なく、シャープな細孔分布を示し、耐水性、耐熱性、物性安定性に優れ、且つ製造コストが低くて生産性にも優れるシリカゲルを提供する。
【解決手段】 （ａ）細孔容積が０．３〜３．０ｍｌ／ｇ、（ｂ）比表面積が２００〜１０００ｍ²／ｇ、（ｃ）細孔の最頻直径（Ｄ_max）が２０ｎｍ未満、（ｄ）直径がＤ_max±２０％の範囲内にある細孔の総容積が、全細孔の総容積の５０％以上、（ｅ）非晶質、（ｆ）金属不純物の総含有率が５００ｐｐｍ以下、
（ｇ）短径／長径の値が０．９０〜１であり、且つ、（ｈ）固体Ｓｉ−ＮＭＲ測定におけるＱ⁴ピークのケミカルシフトδ（ｐｐｍ）が下記式（Ｉ）
−０．０７０５×（Ｄ_max）−１１０．３６＞δ ・・・式（Ｉ）
を満足するようにする。 （もっと読む）

【課題】 周囲の雰囲気に含まれる湿分を吸着して該雰囲気を所定の湿度に調整する、調湿剤用シリカゲルであって、高効率且つ高精度な調湿を実現でき、且つ、低コストで製造できるようにする。
【解決手段】 周囲の雰囲気に含まれる湿分を吸着して該雰囲気を所定の湿度に調整する、調湿剤用シリカゲルにおいて、（ａ）細孔容積が０．６〜２．０ｍｌ／ｇであり、（ｂ）比表面積が３００〜１０００ｍ²／ｇであり、（ｃ）細孔の最頻直径（Ｄ_max）が２０ｎｍ未満であり、（ｄ）直径がＤ_max±２０％の範囲内にある細孔の総容積が全細孔の総容積の５０％以上であり、（ｅ）非晶質であり、（ｆ）アルカリ金属及びアルカリ土類金属を除く不純物金属の総含有率が５００ｐｐｍ以下であり、（ｇ）固体Ｓｉ−ＮＭＲでのＱ⁴ピークのケミカルシフトをδ（ｐｐｍ）とした場合、δが下記式（Ｉ）を満足するようにする。
−０．０７０５×（Ｄ_max）−１１０．３６＞δ ・・・式（Ｉ） （もっと読む）

【課題】新規なＳｉ含有膜形成材料、殊にＰＥＣＶＤ装置に適したアルケニル基含有有機シラン化合物から成るＳｉ含有膜形成材料を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される有機シラン化合物を含有するＳｉ含有膜形成材料を用い、化学気相成長法、特にプラズマ励起化学気相成長法によりＳｉ含有膜を形成させ、絶縁膜として使用する。
【化１】


（式中、Ｒ^１，Ｒ^２は、炭素数１〜２０の炭化水素基または水素原子を表し、ｎは０〜３の整数を表す。） （もっと読む）

【課題】固形分濃度が２０重量％以上で、なおかつ正電荷で長時間安定な高濃度シリカスラリ−を提供する。
【解決手段】シリカ濃度が２０〜５０％、ｐＨが１.５〜５.５、導電率が３００〜１５００μＳ／ｃｍであって、且つ、高濃度シリカスラリー中のシリカ粒子のゼータ電位が＋１０〜＋８０ｍＶである高濃度シリカスラリーを用いる。その様な高濃度シリカスラリーはシリカゲルと水を粉砕、分散化し、負電荷スラリーを得た後、分子量２０００〜１０００００のカチオン性高分子と混合し、得られたシリカ含水ゲルを、水洗し塩を除去した後、再分散することによって製造する。 （もっと読む）

【課題】 光学素子に適した金属とセラミックの複合体の提供。
【解決手段】 SiO₂, B₂O₃, Al₂O₃, TiO₂, ZrO₂, Na₂O, CaO,及びSrOの中から選ばれる１つの成分を含む酸化物第１相１、酸化物第１相の粒界に形成された、Au, Ag, Cu, Pt, Pb,及びPdの中から選ばれる１つの金属を含む金属粒子（２）、及び、酸化物第１相（１）の粒界に形成された、ZnO, In₂O₃, または酸化物第１相（１）とは異なるSiO₂, B₂O₃, Al₂O₃, TiO₂, ZrO₂, Na₂O, CaO, 及びSrOの中から選ばれる１つと、金属粒子（２）と同種の金属とを含む酸化物第２相（３）を備えた金属とセラミックの複合体等。 （もっと読む）

【課題】連続合成方法に適用可能な、サブミクロンサイズ以上の微粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】 微粒子を製造する微粒子製造方法であって、一般式ＲＳｉ（ＯＲ’）_３(式中、Ｒ及びＲ’は、アルキル基を示す。)で表される珪素化合物を、水を主成分とする溶媒に溶解させる溶解ステップと、溶解後の珪素化合物と、塩基性触媒とを連続的に混合する混合ステップと、混合ステップで混合された混合液を流通させながら、反応させる反応ステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】シリカのマトリックス中に比較的多くの炭素繊維を均一に分散した炭素繊維−シリカ複合体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】炭素繊維とシリカとを含む炭素繊維−シリカ複合体の製造方法であって、少なくともアルコキシシラン、水および酸を含むゾル溶液に、炭素繊維を分散させ、かつ当該ゾル溶液を半ゲル化させる分散・半ゲル化工程（ステップＳ１０１、ステップＳ１０２）と、分散・半ゲル化工程（ステップＳ１０１、ステップＳ１０２）にて得られた混合物のゲル化を促進させるゲル化工程（ステップＳ１０３）と、ゲル化工程（ステップＳ１０３）により得られたゲルを加熱する加熱工程（ステップＳ１０４）とを含む。 （もっと読む）

【課題】 研磨材として好適な異方形状シリカゾルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 平均粒子径が３〜２０ｎｍの範囲にあるシリカゾルを脱陽イオン処理してｐＨ２〜５の範囲に調整し、次いで脱陰イオン処理した後、アルカリ性水溶液を添加してｐＨ７〜９に調整した後、６０〜２５０℃で加熱することにより製造する。得られる異方形状シリカゾルは、平均粒子径が４〜２５ｎｍの範囲にあり、短径／長径比が０．０５〜０．５の範囲にある。 （もっと読む）

【課題】 真球状の形状であり従来にない粒径の大きさとシャープな粒度分布とを兼ね備えたシリカ粒子や、例えばシール剤等のバインダー成分といった有機質成分への分散性に優れたシリカ粒子を用いてなる,タッチパネル用スペーサーとその用途を提供する。
【解決手段】 本発明のタッチパネル用スペーサーは、光電子分光法により求められる炭素とケイ素との表面原子数比（Ｃ／Ｓｉ）が０．０１〜１．０ある、シリカ粒子を用いてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 同位体交換反応法に於いてより簡便で安定した系を採用することにより、シリコンの同位体濃縮を低コストで大量に行うことが可能な同位体濃縮方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る同位体濃縮方法は、Ｈ_２Ｏ−Ｈ_２ＳｉＦ_６・ｎＳｉＦ_４（式中、ｎ≧０である。）の２成分を少なくとも含む水溶液と、前記ＳｉＦ_４を含む気体との間での同位体交換により、前記Ｓｉの安定同位体を濃縮することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 優れた難燃性を有すると同時に、耐酸性にも優れ、かつ、電子部品用材料としての用途に要求される溶出不純物濃度を確保することができる被覆水酸化マグネシウム及びその安定した製造方法を提供する。
【解決手段】 水不溶性のケイ素化合物を用いて形成した被覆層を表面に有しする被覆水酸化マグネシウムであり、被覆層を含む水酸化マグネシウム中のナトリウム及びカリウムの含有量の合計が１０ppm以下である被覆水酸化マグネシウムが好ましい。 （もっと読む）

【課題】同一の真空チャンバ内で、電子ビームのみを用いて、リン、アンチモン等の不純物元素と、ボロン、炭素等の不純物元素の両方を除去できるシリコンの精錬方法及び装置を提供することを目的とする。
【解決手段】真空容器１内に低い真空度の真空雰囲気を確立した状態で電子ビームをシリコンに照射して溶融させると共に、溶融したシリコン内のボロン等と反応して蒸発可能な酸化物を生成するＨ_２Ｏ等の化合物生成物質を前記真空チャンバ内に導入して、ボロン等の真空蒸気圧の低い不純物元素を蒸発させる。次いで、真空容器１内に高い真空度の真空雰囲気を確立した状態で真空容器１内のシリコンに電子ビームを照射して、シリコンに含有されていたリンなどの真空蒸気圧の高い不純物元素を除去する。 （もっと読む）

【課題】疎水性物質を有する粒子の製造方法を開示する。
【解決手段】
疎水性物質をその中へ含有する粒子の製造方法であって、該方法は；疎水性媒体中へ分散された第一乳剤を含有する多重乳剤を提供する工程であって、該第一乳剤は親水性相中へ分散された疎水性相を含有し、ここで疎水性相は疎水性物質及び非流動性マトリックスを形成する反応可能な前駆体を含有する疎水性相を含有し；及び−多重乳剤中の前駆体を反応させ、疎水性物質をその中へ含有する粒子の形でマトリックスを形成し；ここで前駆体は多重乳剤の生成に先行して添加されるものである、製造方法。また、疎水性物質を有する粒子及び粒子の使用方法を開示する。該粒子は、疎水性物質をその中へ有する粒子と同様に放出可能であって、放出可能であって、本発明の製造工程によって製造されたものである。 （もっと読む）

【課題】高純度かつ高比表面積の超微粉シリカを、シリカ原料を用い、工業的な規模で製造すること。
【解決手段】シリカ粉末と、金属シリコン粉末及び／又は炭素粉末からなる還元剤と、水とを含む混合原料を、還元雰囲気下の高温で熱処理をしてＳｉＯ含有ガスを生成させ、それを速やかに酸素を含む雰囲気中で冷却し、微粒子を捕集することを特徴とする超微粉シリカの製造方法であり、特に混合原料が、固形分濃度２０〜６０重量％の水系スラリーであって、その熱処理が火炎であることを特徴し、更には冷却が、酸素を含むガスの供給による強制冷却であることを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】吸着性能が優れ、しかも使用後の固液分離工程において濾材の目詰りを生じることのない、吸着材として好適な薄板状シリカ多孔体を安定した品質で、かつ効率よく提供する。
【解決手段】平均粒子径１０μｍ以下のケイ酸原料粉末と石灰原料粉末とを、それぞれＳｉＯ₂及びＣａＯに換算したときのモル比ＣａＯ／ＳｉＯ₂が１．０〜４．０になる割合で混合し、水又は水酸化アルカリ水溶液の中で水熱反応を行わせて、薄板状ケイ酸カルシウム含有スラリーを調製したのち、これに酸性物質を導入し、この中の酸化カルシウムを溶解除去し、薄板状シリカ多孔体を形成させるに当り、上記水熱反応を薄板状ケイ酸カルシウム種結晶の存在下で行う。 （もっと読む）

【課題】高純度かつ高比表面積のシリカ微粉末を容易に製造すること。
【解決手段】二重管構造の燃料ガス−酸素ガス混合型バーナーの中心部に設けられた二流体ノズルの中心から、珪素質原料と水を含むスラリーを噴射するとともに、二流体ノズルの周囲から酸素を噴射して熱処理を行った後、速やかに酸素を含む雰囲気中で冷却し、微粒子を捕集することを特徴とするシリカ微粉末の製造方法及び装置。この発明においては、（１）珪素質原料のＳｉをＳｉＯ生成経由でシリカに転換させること、（２）珪素質原料と水を含むスラリーの固形分濃度が２０〜６０重量％であること、（３）珪素質原料と水を含むスラリーの水の３０重量％までをアルコールで置き換えること、などから選ばれた少なくとも一つの実施態様を有していることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 銅および／または銅化合物の粉体を含むケイ素粉から、安全かつ安定に水素を発生させる方法を提供すること；ならびにそのように水素を発生させるとともに、シリカ微粉末またはケイ酸アルカリ金属塩を得る方法を提供すること。
【解決手段】 銅触媒の粉体を含み、平均粒子径が５００μm以下のケイ素粉を水と反応させて、水素を発生させる方法であって、反応を２０℃未満の温度で行うことを特徴とする方法、ならびに上記とともにシリカ微粉末か、またはケイ酸ナトリウムもしくはそれを主成分とする結合剤を回収する方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 製造装置及び周辺装置類がコンパクト化でき、使用済みの有機溶媒を排出することのない環境への負荷を低減できるシリカ殻からなる高分散性の中空粒子の製造方法の提供。
【解決手段】 その製造方法は、水系媒質中にてコロイド状炭酸カルシウム、シリコンアルコキシド及び塩基触媒を混合し、コロイド状炭酸カルシウム表面にシリコンアルコキシドの加水分解反応により生成するシリカを析出させた後、酸処理により炭酸カルシウムを溶解させることを特徴とする。
得られた中空粒子は透過型電子顕微鏡法による一次粒子径が３０〜３００ｎｍ、動的光散乱法による粒子径が３０〜８００ｎｍ、水銀圧入法により測定される細孔分布において２〜２０ｎｍの細孔が検出されない緻密なシリカ殻からなる。 （もっと読む）

【課題】 液相法により、粒子径の小さなＢｉ₁₂ＭＯ₂₀粉体（ただし、ＭはＳｉまたはＧｅである。）を製造する。
【解決手段】 アルカリ可溶性ケイ素化合物またはアルカリ可溶性ゲルマニウム化合物のアルカリ性溶液と、水溶解性ビスマス化合物溶液とを８０℃以上で剪断型攪拌機により攪拌混合して反応させる。 （もっと読む）