【課題】ＰＫＷ−タイヤ中で使用される珪酸をＬＫＷ−タイヤ、オートバイタイヤ及びＰＫＷ用の高速タイヤ中で使用することは、異なる仕様プロフィルに基づき不適当であるため、特別にこれらの車両に適合された特性プロフィルを有する沈降珪酸を提供する。
【解決手段】１７８〜３０２ｍ^２／ｇのＢＥＴ−表面積、≧１７０ｍ^２／ｇのＣＴＡＢ―表面積、２００〜３００ｇ／（１００ｇ）有利に２０７〜２７６ｇ／（１００ｇ）のＤＢＰ−数及び１０〜２５ｍｌ／（５ｇ）、１０〜２０ｍｌ／（５ｇ）、１０〜１６ｍｌ／（５ｇ）のシェアズ(Sears)−数Ｖ_２を有する沈降珪酸によって解決される。 （もっと読む）

【課題】光触媒作用を効率よく発揮できるとともに、非処理物（水、空気等）の浄化を高度に達成することができる高純度シリカ・光触媒複合体を提供する
【解決手段】（Ａ）珪質頁岩の粉状物とアルカリ水溶液を混合して、ｐＨが１１．５以上のアルカリ性スラリーとし、上記珪質頁岩の粉状物中のＳｉ、Ａｌ、Ｆｅを液分中に溶解させた後、該アルカリ性スラリーを固液分離してＳｉ、Ａｌ、Ｆｅを含む液分を得るアルカリ溶解工程と、（Ｂ）工程（Ａ）で得られた液分と酸を混合してｐＨを１０．３以上１１．５未満とし、液分中のＡｌ、Ｆｅを析出させた後、固液分離を行い、Ｓｉを含む液分を得るＳｉ液分分離工程と、（Ｃ）工程（Ｂ）で得られた液分と酸を混合してｐＨを９．０以上１０．３未満とし、液分中のＳｉを析出させた後、固液分離を行い、ＳｉＯ₂を含む固形分を得るシリカ分離工程を経て得られる高純度シリカに、光触媒である酸化チタンを担持させてなる高純度シリカ・光触媒複合体。 （もっと読む）

【課題】安価なアルカリ珪酸塩をシリカ源とし、無毒性の非イオン性界面活性剤をテンプレートとするとの本発明者によりこれまでに開発された技術を踏まえ、反応容器の腐食ばかりでなく、作業工程及び作業環境上の安全対策、すなわち強酸性の反応溶液から繊維状多孔質シリカ粒子前駆体を分離する工程では、作業を実施する者や周辺器械を、塩酸蒸気やミストの発生・接触から遮断する処置を講じたり、あるいは反応溶液を充分冷却してから分離工程を行わなければならないといった全ての問題点を解消し、作業工程及び作業環境が安全であり、しかも、細孔特性並びに繊維形状を制御することが可能な、メソ孔とマイクロ孔を併せ持つ繊維状多孔質シリカ粒子を工業的に極めて有利に製造する方法を提供する。
【解決手段】酸性水溶液及び非イオン性界面活性剤の混合液に、アルカリ珪酸塩水溶液を３０℃から４５℃の温度条件下で攪拌しながら混合し、一定温度で所定時間以上攪拌し続けたら反応懸濁液の攪拌を停止して、反応生成物を溶液相から分離・洗浄して得られる湿潤状態の生成物もしくはその乾燥物を、中性もしくは弱アルカリ性の水溶液中において熟成後、溶液相から分離して得られた繊維状粒子前駆体中の非イオン性界面活性剤を除去して繊維状多孔質シリカ粒子を得る。 （もっと読む）

【課題】高純度シリコン材料の製造方法を提供する。
【解決手段】特純石英鉱石を原料として選択するステップと、前記石英鉱石を洗浄し粉砕するステップと、光学分析装置で粒度が２０ｍｍ〜８０ｍｍの石英鉱石を正確に選択するステップと、石英鉱石を浄化するステップと、石英鉱石を溶鉱炉に入れ、高温で石英鉱石を溶融するステップと、溶融した石英鉱石と純炭素還元剤とに炭素熱還元法および反応純化を行い、液体シリコンを得るステップと、前記溶鉱炉のバルブを介して前記液体シリコンを収容タンクに流し込むステップと、前記収容タンクにおいて、エアブロー除湿法およびスラグ処理法を行い、液体シリコンの不純物を除去するステップと、液体シリコンを結晶成長炉の鋳造品領域に注入するステップと、前記鋳造品領域において方向性凝固法で液体シリコンを固化し、固体シリコン材料を得るステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】短時間で細孔内にシリカゲルを添着できると共に、ミクロ孔内にもシリカゲルを添着できる複合活性炭の製造方法を提供する。
【解決手段】シリカゲル原料となるケイ酸のアルカリ金属塩水溶液１に活性炭２を浸漬して、シリカゲル原料を活性炭２の細孔内に含浸させる含浸工程と、含浸工程後の活性炭２へ酸を添加するゾル化工程と、ゾル化工程後に固液分離して、活性炭２を加熱熟成するゲル化工程と、を有する、細孔内にシリカゲルが添着された複合活性炭の製造方法であって、含浸工程は、活性炭２を正極１１側に浸漬して水溶液１に電場を印加しながら行うことを特徴とする。 （もっと読む）

シリコン−オン−インシュレータ構造体の劈開された表面を処理する方法を開示している。当該シリコン−オン−インシュレータ構造体は、ハンドルウェハ、シリコン層、上記ハンドルウェハと上記シリコン層との間の誘電体層を含む。上記シリコン層は、上記構造体の外表面を規定する劈開された表面を有する。開示された当該方法は、上記シリコン−オン−インシュレータ構造体から劈開面に沿ってドナーウェハの一部が分離される際に与えられる表面ダメージ及び欠陥を除去するため、上記シリコン−オン−インシュレータ構造体を処理するのに要する時間とコストを削減するエッチングプロセスを含む。当該方法は、上記構造体をアニールする工程、上記劈開された表面をエッチングする工程、上記劈開された表面上において非接触スムージングプロセスを実行する工程と、を含む。
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本発明は、シリカート溶液からの高純度ＳｉＯ₂の新規の製造方法、特殊な汚染物質スペクトルを有する新規の高純度ＳｉＯ₂並びにその使用に関する。 （もっと読む）

【課題】化学的に不活性な粒子状不純物を効率的に除去することができるシリコンの精製方法を提供することを課題とする。
【解決手段】二酸化珪素と、シリコンカーバイト、シリコンナイトライドまたはダイヤモンドの何れかを粒子状不純物として含む回収シリコンを、加熱してシリコン融液を得る融解工程と；前記シリコン融液を冷却して得られるシリコン塊を粉砕してシリコン粒を得る粉砕工程と；前記シリコン粒を酸溶液で洗浄して二酸化珪素を前記粒子状不純物とともに除去する酸洗浄工程と；を含むことを特徴とするシリコンの精製方法により上記課題を解決する。 （もっと読む）

複数の多孔性分枝を有する非球状の含シリカ粒子が開示され、及び特許請求される。前記多孔性分枝は環状及び／又は塊状であり不規則に配向され及び延伸される。粒子の合成の間に導入される添加物は、細孔容積及び形態を修正する。細孔容積の調整可能性は、２〜約５０，０００オングストロームの範囲にわたる内径を含む。粒子の合成は、反応容器中の定常的又は間歇的な撹拌の下に、ケイ酸水溶液に酸性ヒール（ｈｅｅｌ）溶液を加えて混合物を生成する。撹拌は随意に可変速度で遂行され得る。添加物は制御された速度で混合物中に導入され、その中で添加物は混合物の低いｐＨから高いｐＨへのｐＨ変化を引き起こし、含シリカ粒子の沈殿を誘起する。随意に金属ドーパントを粒子に導入することができ、並びに／又は少なくとも細孔の外部に配置された外表面、及び／若しくは細孔の内部に配置された内表面が修正され得る。 （もっと読む）

【課題】製造、設備及び運転の費用の節減に有効であり、純度制御が易しい高純度シリコン及びその製造方法を提供する。
【解決手段】珪藻土を酸性溶液に溶解させる段階、溶解された珪藻土に塩基溶液を添加してシリカを沈澱させて回収する段階、及び回収されたシリカに還元剤を混合し、還元反応を引き起こしてシリコンを得る段階を含む。 （もっと読む）

本発明は高純度ケイ素を提供する方法に関し、この方法は、非晶性ケイ素、炭素、および不純物を含む農業廃棄物を供給する工程と、前記農業廃棄物から前記不純物をある程度抽出する工程と、炭素のシリカに対する割合を変化させる工程と、シリカを高純度ケイ素（太陽光発電ケイ素）に還元する工程とを含む。
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【課題】シリカ粒子へ生体分子等を結合させるために有用なアミノ基を粒子表面に有し、かつ前記アミノ基がシリカ粒子表面に吸着することにより前記生体分子等との反応性が低下することを防止したシリカ粒子の製造方法、前記シリカ粒子、及びそれを用いた複合粒子を提供する。
【解決手段】水／アルコール混合溶媒に分散させたシリカ粒子の分散液に、下記一般式１で表されるシランカップリング剤と酸とを含有させ、前記シリカ粒子の表面にアミノ基を少なくとも１つ有するアルキル基Ｒ^１を共有結合させる工程を含んでなる粒子表面にアミノ基を有するシリカ粒子の製造方法。
一般式１
Ｒ^１−Ｓｉ（ＯＲ^２）_３
（式中、Ｒ^１はアミノ基を少なくとも１つ有するアルキル基を表し、Ｒ^２はアルキル基を表す。） （もっと読む）

本発明は、水性懸濁液（Ｓ）を濾過して洗浄するための工程を含む沈降シリカの調製方法に関するものであり、この方法は次の工程を含む：
（ａ）沈降シリカの懸濁液（Ｓ）の第１の部分（Ｓ１）を濾過し、それによってケーク（Ｇ１）を形成させ、次いでこのケーク（Ｇ１）を洗浄し、それによって得られた洗浄されたケーク（Ｇ１）を特に水で希釈することによって懸濁させることによって、懸濁液（Ｓ'１）を形成させる工程；
（ｂ）前記懸濁液（Ｓ）の第２の部分（Ｓ２）を濾過し、それによってケーク（Ｇ２）を得る工程；並びに
（ｃ）工程（ａ）から得られた前記懸濁液（Ｓ'１）を、工程（ｂ）の終わりに得られて濾過プレコート層として用いられるケーク（Ｇ２）を通して濾過する工程：
を含む。
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安定な表面を有する無機半導体ナノ粒子の製造方法が提供される。方法はシリコンまたはゲルマニウムのごとき無機バルク半導体物質を供し、次いで、選択された還元剤の存在下バルク半導体物質を粉砕することを含むことを特徴とする。還元剤は、半導体物質の１以上の成分元素の酸化物を化学的に還元するか、または優先的に酸化することによってかかる酸化物の形成を防止するように作用し、それにより、ナノ粒子間の電気的接触を可能にする安定な表面を有する半導体ナノ粒子を供する。粉砕はミルで行なわれ、粉砕手段および／またはミルの１以上の成分が、選択された還元剤を含む。
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【課題】良好なインク受容層面を有するインクジェット記録媒体を、急速乾燥して製造するのに適した表面改質シリカ分散液の製造方法およびインクジェット記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】乳酸および少なくとも一種のアミノオルガノシランを含む処理液と、非晶質シリカを接触させることによりシリカ表面を改質することを特徴とする表面改質シリカ分散液の製造方法であり、更にこの表面改質シリカ分散液を含有するインク受容層用塗液を、支持体上に塗布乾燥しインク受容層を形成するインクジェット記録媒体の製造方法である。乳酸はインク受容層用塗液の凝集を招くことなく、厚い乾燥膜厚を急速乾燥して塗布するのに適した塗液を調製することを可能とさせる。 （もっと読む）

【課題】ヘテロポリ酸の高い触媒活性を有し、かつ反応液へのヘテロポリ酸の溶出量が少なく、さらに反応液からのヘテロポリ酸の回収が非常に容易であるという優れた特徴を有するヘテロポリ酸を含み、モノリス体の骨格を有する多孔質のシリカ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ヘテロポリ酸を含み、モノリス体の骨格を有する多孔質シリカ。
また、以下の工程を含むヘテロポリ酸を含み、モノリス体の骨格を有する多孔質シリカの製造方法。
混合工程：シリカ源とヘテロポリ酸とを混合し、湿潤ゲルを得る工程
凍結工程：混合工程で得られた湿潤ゲルを凍結し、凍結物を得る工程
乾燥工程：凍結工程で得られた凍結物を乾燥し、ヘテロポリ酸を含み、モノリス体の骨格を有する多孔質シリカを得る工程 （もっと読む）

【解決手段】平均粒子径が５〜３００ｎｍの範囲にあり、比表面積が５０〜１５００ｍ²
／ｇの範囲にあり、中空構造を有する中空シリカ微粒子が集合し、結着してなる中空シリカ微粒子集合体からなる平均粒子径１μｍ〜５０μｍの球状シリカ粒子。
【効果】本発明に係る球状シリカ粒子は、平均粒子径１〜５０μｍの中空シリカ粒子でありながら、嵩比重を０．７〜１．０ｇ／ｍｌの範囲にすることができるので、空隙に富み、その形状も球状であり、単分散性が高い。本発明に係る製造方法により、この様な球状シリカ粒子を製造することができる。本発明に係る球状シリカ粒子は、軽量骨材、インク受容層の成分などに好適に使用することができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、細孔容積の大きな有機無機ハイブリットシリカと、その効率的かつ経済的な製造方法を提供するものであり、例えばインクジェット記録シートのインク受容層などに好適な材料を提供するものである。
【解決手段】 シリカとカチオン性樹脂からなる有機無機ハイブリッドシリカを、アルカリ金属珪酸塩と酸の反応から珪酸を調製する反応１と、カチオン性樹脂と珪酸が重合して有機無機ハイブリッドシリカを形成する反応２を、水性環境下で同時に行って製造する。 （もっと読む）

本発明の目的はナノスケールの二酸化ケイ素の製造方法であり、前記方法は以下の工程を含む：ａ）平均粒子寸法が１〜５００ｎｍであるコロイド状二酸化ケイ素の水性懸濁液を供給する工程；ｂ）それを、非プロトン性環状エーテル中の有機シランまたは有機シロキサンと反応させて、コロイド状二酸化ケイ素をシラン化する工程；ｃ）反応混合物の水相を有機相から分離する工程；ｄ）有機相を、非プロトン性環状エーテル中の有機シランまたは有機シロキサンと再び反応させて、コロイド状二酸化ケイ素をシラン化する工程；ｅ）反応混合物の水相を有機相から分離する工程。 （もっと読む）

【課題】 空隙率が同等な従来の多孔質粒子に比べて、粒子破壊強度が高い多孔質酸化物粒子を提供する。
【手段】 この多孔質酸化物粒子は、平均粒子径（Ｄ）２〜１００ｎｍ、真球度０．９〜１の範囲にある球状酸化物微粒子が集合した球状集合体からなる平均粒子径（ＰＤ）０．５〜５０μｍ、空隙率５〜５０％の範囲にあり、前記球状酸化物微粒子の粒子径分布が、単分散またはバイモーダルである。 （もっと読む）