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Fターム[4G072MM08]の内容

珪素及び珪素化合物 (39,499) | 反応、分離系操作 (4,111) | 精製 (339)

Fターム[4G072MM08]に分類される特許

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本発明は、非常に低い塩含量を有し且つ少なくとも1種の沈降シリカを含有する懸濁液、その製造方法、更にその使用に関する。 (もっと読む)


【課題】低コストでシリコンを高純度に精製することが可能なシリコンの精製方法およびその方法により得られた精製シリコンを提供する。
【解決手段】原料シリコンから精製シリコンを得るシリコン精製方法であって、原料シリコンを溶融させて得られた溶融シリコンを凝固させてシリコン塊を形成する工程と、シリコン塊を第1の酸溶液で洗浄する工程と、第1の酸溶液で洗浄されたシリコン塊を第1の塩基性溶液でさらに洗浄する工程とを含むシリコン精製方法とその方法により得られた精製シリコンである。 (もっと読む)


本発明は、シリコンを含有する溶融した二元若しくは三元の過共晶合金中又は精製したシリコン融液中で大型の高純度シリコン結晶を結晶化することを含み、小型のシリコン結晶を融液に加えて、結果として生じる大型のシリコン結晶を融液から分離することを特徴とする、太陽電池級シリコンの製造方法に関する。当該分離は、遠心分離又はろ過により行ってよい。 (もっと読む)


【課題】半導体の凝固方法を提供する。
【解決手段】ドーパントを含む第一の半導体チャージ120から溶融半導体103のバスを形成する段階と、溶融半導体103の凝固段階とを含み、更に、ドーパントを含む補充半導体チャージ120を溶融半導体103のバスに添加する一つ以上の段階を、凝固中に実施することを含む。補充半導体チャージ120は固体状または液体状である。また、電子アクセプタードーパントはホウ素原子であり、電子ドナードーパントはリン原子である。 (もっと読む)


【課題】 シーメンス法による多結晶シリコンの製造において、反応炉から排出される排ガスを水素ガスに精製する際に、水素ガス中のメタン濃度を効果的に、且つ経済的に下げる。
【解決手段】 反応炉1から排出される排ガスAを凝縮器2に通し、主に排ガスA中のクロロシラン類を凝縮除去する。その後、凝縮器2を通過した排ガスBをコンプレッサ3で加圧して吸収塔4、吸着塔6に通し、精製水素ガスDとして反応塔1に戻す。凝縮器2において増設等により容量を増大し、排ガス滞留時間を長くして、メタンガスの凝縮液への溶解を促進することにより、メタン濃度を3/4以下にする。精製水素ガスDのメタン濃度が下がり、排ガスA中のメタン濃度が15ppm以上の場合も、精製水素ガスDのメタン濃度を1ppm未満にすることができる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、1サイクルのシリコンの精製方法における凝固偏析工程の回数を減じ、高効率なシリコンの精製方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のシリコンの精製方法の第1の態様は、リンとボロンとを含む原料シリコンからボロンを除去する工程と、リンとボロンとを含む原料シリコンからリンを除去する工程とを含み、上記ボロンを除去する工程、または、上記リンを除去する工程の後に、原料シリコンを破砕する工程と、破砕した原料シリコンにリーチングを行なう工程とを備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、溶融シリコンを凝固させる際の熱応力への耐性に優れ、繰り返しの利用が可能な溶融シリコン用容器を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の溶融シリコン用容器は、耐熱性材料からなる内枠と内枠の外面を囲む耐熱性材料からなる外枠とを備え、内枠と外枠のうち少なくとも外枠は底面部を有し、内枠および外枠の上部が開口した構造を有する溶融シリコン用容器であって、内枠は少なくとも側面部を有し、その側面部は複数の耐熱性材料からなる側面板により構成され、この耐熱性材料からなる板材は、外枠の内壁に沿って移動可能であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】低コストでホウ素及びリンの濃度が小さいシリコン塊を回収するためのシリコンスラッジ回収方法を提供する。
【解決手段】本発明のシリコンスラッジ回収方法は、シリコン塊を機械加工するときに生じるシリコンスラッジからシリコン塊を再生するためのシリコンスラッジ回収方法であって、被加工シリコン塊の電気抵抗率または不純物の濃度を予め測定する測定工程と、所望の測定値を有するシリコン塊を選別する工程と、選別されたシリコン塊より生じるシリコンスラッジを回収する回収工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】高い不純物除去効果を有する金属含有物除去方法を提供する。
【解決手段】本発明の金属含有物除去方法は、シリコンを機械加工して得られかつシリコン粒子を含む廃スラリー又は前記廃スラリーから分離したシリコン回収固形分を酸性の第1洗浄液で洗浄する第1洗浄工程と、前記シリコン粒子を含む第1洗浄液を塩基で処理する中和処理工程と、前記塩基で処理した第1洗浄液から分離した前記シリコン粒子を含む固形分又はスラリーを酸性の第2洗浄液で洗浄する第2洗浄工程とを備え、前記機械加工から生じかつ第1洗浄工程で除去できなかった金属含有物を第2洗浄工程で効率的に除去することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 多結晶シリコンの赤外線の透過率を更に上げるともに加工性も飛躍的に向上させて、レンズや窓材として有用な光学部材として好適な材料の提供を目的とする。
【解決手段】 モノシランやトリクロロシランを原料として化学蒸着法で合成されたアズグロウンの多結晶シリコンを、酸素を含まない不活性ガス雰囲気下で、且つ、非金属酸化物製の容器或いはその内壁面を非金属酸化物系物質で覆った容器を用いて溶融させた後冷却して凝固させた多結晶シリコン凝固体からなることを特徴とする、主として赤外線用に使用される光学部材。 (もっと読む)


【課題】異物の量、特に着磁性異物の量を低減した球状金属酸化物粉末の製造方法を提供すること。
【解決手段】金属酸化物粉末及び金属水酸化物粉末の少なくとも一方からなる原料粉末を火炎中に噴射して球状化し、それを捕集系で回収する工程を含む球状金属酸化物粉末の製造方法において、上記原料粉末中の粒径45μm以上の異物を、異物除去装置を通過させることにより450個/50g以下に減ずる工程を含むことを特徴とする球状金属酸化物粉末の製造方法。 (もっと読む)


【課題】異なった密度を有する2種の非混和性溶融液の処理のための装置及び方法を提供する。
【解決手段】本発明は、異なった密度を有する2種の非混和性溶融液の連続処理のための装置に関する。該装置は、実質的に竪型ハウジング(1)の内側に設けられた少なくとも1種の末端開口型の螺旋状反応管(3)、前記少なくとも1つの反応管の上端開口部への高密度液体の連続供給手段及び前記少なくとも1つの螺旋状反応管(3)の下端開口部への低密度液体の連続供給手段、前記螺旋状反応管(3)の下端開口部における高密度液体の連続除去手段及び前記螺旋状反応管(3)の上端開口部からの低密度液体の除去手段から成る。本発明はさらに、本発明の装置を用いた、異なった密度を有する2種の非混和性溶融液の連続処理方法に関する。 (もっと読む)


クロロシラン(主に:トリクロロシラン)の製造のためおよびこれらのクロロシランからの高純度ポリシリコンの堆積のための方法および関係する材料。クロロシラン製造のためのソースは共晶または亜共晶の銅−シリコンであり、前記銅−シリコンの濃度範囲は10ないし16wt%シリコンである。共晶または亜共晶の銅−シリコンは、塩素処理反応器に好適な形状に鋳造され、そこで、少なくとも部分的にHClからなるプロセスガスに曝される。このガスは共晶または亜共晶の銅−シリコンの表面で反応してシリコンを揮発性クロロシランの形態で抽出する。貧化した共晶または亜共晶の材料はその後リサイクルすることができ、抽出された量のシリコンが補充され、この材料は所望の形状へ再鋳造される。 (もっと読む)


【課題】不純物や斑点を低減した良質の多結晶シリコンを得ることができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】酸を満たした状態の複数の酸槽2〜6に多結晶シリコンSを順次浸漬しながら洗浄する多結晶シリコン洗浄装置であって、各酸槽2〜6の液温は、隣接する酸槽の後段位置の酸槽が前段位置の酸槽と同じかもしくは低く設定され、かつ、最も前段位置の酸槽2よりも最も後段位置の酸槽6の方が低温に設定され、各酸槽2〜6に、その液温を一定に維持する温調手段18が設けられている。 (もっと読む)


本発明は、珪素化合物、殊にオルガノシラン及び/又は無機シラン並びに少なくとも1種の異種金属及び/又は異種金属含有化合物を含有している組成物を処理する方法に関し、この際、前記組成物を少なくとも1種の吸着剤及び/又は第1フィルターと接触させ、引き続き、その中の異種金属及び/又は異種金属含有化合物の含分が低減されている組成物を取得する。更に本発明は、前記化合物の減少のために、有機樹脂、活性炭、珪酸塩及び/又はゼオライト及び/又は小さい細孔寸法を有するフィルター少なくとも1つを使用することにも関する。 (もっと読む)


体積が1m〜10mであり、高さが1m〜10mである反応器チャンバと、反応物質を供給するための反応器ノズルとを有することを特徴とするフレーム反応器を開示する。 (もっと読む)


本発明は、それぞれ特に効果的な資源利用度および低減された有害物質エミッションを有する、シリコン、有利には高純度のシリコン、特にソーラシリコンを製造するための設備、ならびにシリコン、有利には高純度のシリコン、特にソーラシリコンを製造するための方法に関する。
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冶金級シリコンを精錬して、光電池に使用するためのソーラー級シリコンを生産する方法及び装置。真空炉内の坩堝は、冶金級シリコンと、二珪化カルシウムのような還元剤との混合物を受け取る。この混合物は、炉内の非酸化状態においてアルゴンの分圧のもとで溶融する。溶融の後に、アルゴンの分圧を下げて沸騰を生じさせ、このプロセスは、方向性凝固で終了する。このプロセスは、リンのような不純物を、ソーラー級シリコンに適合するレベルまで減少し、他の不純物も著しく減少する。 (もっと読む)


【課題】金属シリコンを原料とする高純度シリコンの生産効率向上とコスト低減。
【解決手段】溶融した原料シリコンを収容した水冷ハース13をハースの傾動によって溶湯から露出した底、内壁に形成された凝固層からなるスカル22を溶湯21から露出させてスカル22の新しい溶解面に対して酸素ラジカルを供給してホウ素を酸化し、形成された酸化ホウ素を真空雰囲気において蒸発させ、しかる後、一方向性凝固等による固液分配係数の差を利用して不純物部分を除去して精製シリコンインゴットを形成した後、当該インゴットを電子ビーム14照射と真空雰囲気に暴露し、これを溶解して溶融面を真空雰囲気中に暴露することによって、リンの蒸発除去過程を行い、高純度精製シリコンを得る。 (もっと読む)


本発明における四ハロゲン化ケイ素および冶金グレードのケイ素からトリハロシランへの水素化のための反応器は、冶金用ケイ素粒子の床と、1つまたは複数の気体流入ポートと、1つまたは複数の固体流入ポートと、1つまたは複数の固体排出管と、トリハロシランを反応器から取り出すための1つまたは複数のポートとを含む。
反応器に流入する四ハロゲン化ケイ素/水素供給流中に供給ケイ素粒子を同伴させ、その流れをケイ素粒子の床に衝突させることの結果としての内部研磨および摩耗によって、床粒子の上に新しい表面が創出される。
本発明は、トリハロシランの収率が高く、MGSの燃焼速度が速く、反応器から流出するトリハロシラン流出物中の微細な粉塵キャリーオーバーとしての使用済みMGSの除去、および床を除去するためのシャットダウンの間の時間が長い、という利点を有する。
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