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Fターム[4G072TT01]の内容

珪素及び珪素化合物 (39,499) | 性質 (2,293) | 粒径 (693)

Fターム[4G072TT01]に分類される特許

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【課題】フッ素系廃液に含まれる、或いはフッ素系廃液の処理過程で発生するケイフッ化水素酸を原料として、ケイフッ化ナトリウムを製造する。
【解決手段】フッ素系廃液に含まれるケイフッ化水素酸、及びフッ素系廃液に含まれるフッ化水素を酸化珪素化合物と反応させ、生成したケイフッ化水素酸をナトリウム化合物と反応させ、ケイフッ化ナトリウムを製造する。
【効果】工業用薬品レベルの品位のケイフッ化ナトリムを製造することができる。 (もっと読む)


【課題】粒子表面にアンモニウム塩系イオン性液体が固定化された粉末状のシリカコンポジット粒子であって、耐熱性が向上した粉末状のシリカコンポジット粒子を提供する。
【解決手段】(a)平均粒子径が5〜200nmのコアシリカ粒子、(b)アルコキシシラン、(c)アンモニウム塩系イオン性液体,及び(d)反応溶媒を含む反応原料液に、アルカリを加えて、該アルコキシシランを26℃以上39℃以下の温度範囲で加水分解することにより、該コアシリカ粒子の表面処理を行う表面処理工程を行い得られるシリカコンポジット粒子であることを特徴とする粉末状のシリカコンポジット粒子。 (もっと読む)


【課題】キャリアなどとの間に発生する摩擦帯電量を一定範囲に保つことで、長期間の使用によっても画像の劣化が生じにくい静電像現像トナーを提供する。
【解決手段】ゾルゲル法によって得られる親水性球状シリカ微粒子の表面を疎水化処理することにより得られた平均粒径20〜500nmの疎水性球状シリカ微粒子からなる搬送粒子と、該搬送粒子の表面に被着せしめた電荷制御剤と、から構成された静電像現像トナーの摩擦帯電量を制御するための外添用電荷制御粒子であって、前記電荷制御剤を、前記搬送粒子1質量部に対して1×10−3〜1×10−1質量部の範囲で有する外添用電荷制御粒子およびこの外添用電荷制御粒子を、トナー1質量部に対して0.001〜0.05質量部混合してなる静電像現像トナー。 (もっと読む)


【課題】本発明は、簡単かつ効率的に、薄片径の揃った、また、表面が平坦な薄片状物質を得ることができる製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】有機金属化合物を含み微粒子を分散させた塗布液を表面粗さRaが60〜200nmである基材上に塗布し、該基材を乾燥することで、基材上に前記微粒子を含む有機金属化合物由来の薄膜体を形成し、前記乾燥工程中、及び/または、乾燥工程後に、前記薄膜体中の微粒子またはその近傍を起点として前記薄膜体にクラックを生じせしめた後に、前記基材から薄膜体を剥離すること。 (もっと読む)


【課題】p型化が抑制され、狭エネルギーギャップ材料として好適なゲルマニウム多結晶またはシリコンゲルマニウム多結晶を提供すること
【解決手段】不純物として酸素及び炭素を含む多結晶ゲルマニウム、または不純物として酸素及び炭素を含むゲルマニウムを50原子数%を超える量含有する多結晶シリコンゲルマニウムを製造する。 (もっと読む)


光ルミネセンスシリコンナノ粒子を調製するための方法および独特な特長を有するそのようなシリコンナノ粒子の組成物を提供する。調製方法には、低圧高周波数パルス反応機および反応機において形成されるナノ粒子の直接的流体捕捉の使用が含まれる。 (もっと読む)


組織化された粒子の層を基材上に付着させる方法。本方法は、少なくとも50体積%のエタノールから形成された溶媒の混合物と前記粒子とを少なくとも含む浴の制御撹拌のステップと、前記撹拌浴中への前記基材の浸漬のステップと、前記撹拌浴から前記基材の除去のステップとを含む。 (もっと読む)


繊維状形態を有する高表面積ナノ粒子を開示する。ナノ粒子は複数の繊維を有し、ここで、それぞれの繊維は他の一つの繊維と接触しており、それぞれの繊維は、長さが約1nm〜約5000nmである。また、本発明のナノ粒子の適用、本発明のナノ粒子の製造方法が開示される。

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【課題】充放電時の体積変化による影響を緩和して、良好な充放電サイクル特性を発現することが可能なリチウムイオン二次電池用負極活物質を提供する。
【解決手段】少なくともシリコンと酸素とを構成元素中に含む物質からなるリチウムイオン二次電池用の負極活物質であって、厚みが30〜500nmであり、かつ、平均長径/厚みの比が10〜100である鱗片状の粉末からなり、酸素含有量が5〜38wt%であるようにした。 (もっと読む)


【課題】 粒度分布がシャープで、かつ、吸水率が低く、封止用樹脂組成物の充填材として好適に使用することができるシリカ粒子、その製造方法、及び、このシリカ粒子と樹脂とからなる樹脂組成物を提供する。
【解決手段】50℃−湿度90%及び85℃−湿度85%条件下において500時間での吸水率が1.0%未満であり、D90/D10が3以下であり、真比重が2.1g/cm以上であり、平均粒子径が10μm以下であるシリカ粒子。 (もっと読む)


【課題】望ましい研磨及び清掃性だけでなく優れた増粘性を示す歯磨剤内への配合が容易なシリカ系歯科用研磨剤を提供する。
【解決手段】現場製造されたゲル/沈降シリカの複合材料であって、該複合材料は20〜85体積%のシリカゲルを含み、ここで該複合材料は150ml/100gより大きいアマニ油吸収を示し、そして該複合材料は約1.0〜5.0mg損失/100,000回転の範囲の10%Brass Einlehner硬度を示す複合材料。 (もっと読む)


【課題】 無機酸化物の粒子を凝集させずに反応液から分離・回収し、いつでも無機酸化物を単分散状態に戻すことができる形態で保存する方法、並びに無機酸化物を摂氏数百度以上の高温で焼成しても粒子同士が互いに焼結しない方法を提供する。
【解決手段】 無機酸化物の粒子が懸濁した液に非イオン性高分子凝集剤を添加し、好適には、斯様に非イオン性高分子凝集剤を添加した後に、無機酸化物の粒子が懸濁した液に固体状COを添加して、該無機酸化物の粒子を回収することを特徴とする無機酸化物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】二酸化珪素を原料に用いたナノサイズの一酸化珪素微粒子を製造する方法およびこの製造方法により得られた一酸化珪素微粒子を提供する。
【解決手段】本発明の一酸化珪素微粒子の製造方法は、二酸化珪素の粉末を、炭素を含む液体状の物質に分散させ、さらに水を添加してスラリーにし、このスラリーを液滴化させて酸素を含まない熱プラズマ炎中に供給して、一酸化珪素微粒子を得るものである。 (もっと読む)


【課題】芯粒子表面へのアルコキシドの加水分解・縮重合反応による被覆段階で、粗大粒子の生成と凝集、殻化合物被覆芯粒子の粗大化及び凝集体の形成を防止するとともに、これらの粗大な粒子及び凝集体による湿式粒子分散装置の細孔流路の閉塞を防止して、所望の大きさの中空粒子を連続的に得ること。
【解決手段】炭酸カルシウム微粒子2をエタノール3及び蒸留水4に混合し、超音波分散処理し(S10)、TEOS5、尿素6、ウレアーゼ7を添加して、25℃において振盪攪拌する(S11)。これによって、TEOS5が加水分解・縮重合してシリカとなり、炭酸カルシウム微粒子2の表面を被覆するが、TEOS5の縮重合を触媒するアンモニアが尿素6の分解によって徐々に発生するため、粗大粒子の生成と凝集及び殻化合物被覆芯粒子同士の凝集体の形成が防止される。炭酸カルシウム微粒子2を酸処理で除去して(S16)、シリカ殻からなる中空粒子1が得られる。 (もっと読む)


【課題】高温及び減圧の環境下での使用においても、気泡の発生又は膨張が少ない合成シリカガラス製品のための原料に適する、合成非晶質シリカ粉末及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の合成非晶質シリカ粉末は、造粒されたシリカ粉末に球状化処理を施した後、洗浄し乾燥して得られた平均粒径D50が10〜2000μmの合成非晶質シリカ粉末であって、BET比表面積を平均粒径D50から算出した理論比表面積で割った値が1.00〜1.35、真密度が2.10〜2.20g/cm3、粒子内空間率が0〜0.05、円形度が0.75〜1.00及び未溶解率が0.00〜0.25であることを特徴とする。 (もっと読む)


本願は、第1基材上の収容溝に補助体を挿入して、前記補助体の第1表面は、前記収容溝に収容され、前記補助体の第2表面は、外部に露出させるステップ、前記第2表面に第1コーティング層を形成するステップ、前記第1コーティング層が形成された補助体と第2基材とを付着するステップ、前記第2基材に付着した前記第1コーティング層が形成された補助体を前記第1基材から分離して、前記第1コーティング層が形成された補助体の第1表面を外部に露出させるステップ、前記第1表面上に第2コーティング層を形成するステップ、及び前記第1コーティング層と前記第2コーティング層とが形成された補助体を前記第2基材から分離するステップを含む粒子の製造方法及びこれによって製造される粒子を提供する。 (もっと読む)


【課題】高温及び減圧の環境下での使用においても、気泡の発生又は膨張が少ない合成シリカガラス製品のための原料に適する、合成非晶質シリカ粉末及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の合成非晶質シリカ粉末は、造粒されたシリカ粉末を焼成し、この焼成したシリカ粉末に球状化処理を施した後、洗浄し乾燥して得られた平均粒径D50が10〜2000μmの合成非晶質シリカ粉末であって、BET比表面積を平均粒径D50から算出した理論比表面積で割った値が1.00〜1.35、真密度が2.10〜2.20g/cm3、粒子内空間率が0〜0.05、円形度が0.75〜1.00及び未溶解率が0.00〜0.25であり、炭素濃度が2ppm未満又は塩素濃度が2ppm未満のいずれか一方或いはその双方を満たすことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高温及び減圧の環境下での使用においても、気泡の発生又は膨張が少ない合成シリカガラス製品のための原料に適する、合成非晶質シリカ粉末及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の合成非晶質シリカ粉末は、造粒されたシリカ粉末に球状化処理を施した後、洗浄し乾燥して得られた平均粒径D50が10〜2000μmの合成非晶質シリカ粉末であって、BET比表面積を平均粒径から算出した理論比表面積で割った値が1.35を超え1.75以下、真密度が2.10g/cm3〜2.20g/cm3、粒子内空間率が0〜0.05以下、円形度が0.50以上0.75以下及び球状化率が0.20以上0.55未満であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高温及び減圧の環境下での使用においても、気泡の発生又は膨張が少ない合成シリカガラス製品のための原料に適する、合成非晶質シリカ粉末及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の合成非晶質シリカ粉末は、造粒されたシリカ粉末に球状化処理を施した後、洗浄し乾燥して得られた平均粒径D50が10〜2000μmの合成非晶質シリカ粉末であって、BET比表面積を平均粒径D50から算出した理論比表面積で割った値が1.00〜1.35、真密度が2.10〜2.20g/cm3、粒子内空間率が0〜0.05、円形度が0.75〜1.00及び球状化率が0.55〜1.00であることを特徴とする。 (もっと読む)


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