【課題】安定した気体浄化性能が得られ、かつ容易に製造できる光触媒反応装置を提供する。
【解決手段】光触媒反応装置１は、気体が通過可能な３次元構造の基体に光触媒を担持させた光触媒素子７と、光触媒素子７を挟んで対向配置された１対の電極８，９と、電極８，９間に高電圧を印加して放電を生じさせる高圧電源部５とを備え、電極８，９は、複数の開口部１０が形成された金属板からなり、開口部１０の周囲に突起が形成されている。 （もっと読む）

【課題】封止容器と封止容器流路とが予め分離されている反応容器プレートを容易に使用できる状態にして反応処理を行なうことができる反応処理装置を提供する。
【解決手段】本体ユニット１００上に上部ユニットを支持する平行移動部１０２が水平移動可能に配置されており、外側フレーム１０２の内側に、プレート上面ブロック１２０を水平方向にスライド可能に保持する内側フレーム１０４がジョイント１１４を介して保持されている。外側フレーム１０２にジョイント１１４と回転軸１１１を共有するアーム１１０が回転可能に取り付けられ、その先端にカムフォロア１１２が取り付けられている。カムフォロア１１２は本体ユニット１００のカム１０８に追従し、カムフォロア１１２の動きに応じてアーム１１０及びジョイント１１４が回転する。内側フレーム１０４及びプレート上面ブロック１２０はジョイント１１４の回転によって水平姿勢を維持しながら回転移動し、プレート設置部１３０上の位置では封止容器を押し込んで封止容器流路を接続する高さにまで下降する。 （もっと読む）

十字流トレーは、トレーデッキおよびワイヤによって分けられたカンのグループに設けられる。カンは、トレーデッキの蒸気開口を取り囲む壁を有する。壁に設けられた開口は、トレーデッキからカンに液体を入れる。壁の付加的な開口は、液体をカンに排出させる。はねかけ壁は、カン内の蒸気および液体間での物質移動および／または熱交換を促進するために蒸気および液体に対する遠心力による旋回動力を引き起こすカン内に配置される。
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【課題】本発明は、安定したグロー放電環境下での高濃度の窒素官能基を付与することを可能とした粉体のプラズマ処理方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】本発明は、中心電極２と、中心電極２と所定の空隙部５を介して配置された筒状の周辺電極３と、中心電極２表面若しくは周辺電極３表面の少なくとも一方に設けられた誘電体４とを有する放電容器１を用いた粉体のプラズマ処理方法であって、不活性気体雰囲気とされた空隙部５内で、粉体と、粉体に窒素官能基を付加する窒素官能基供給部材にグロー放電によるプラズマ処理を行なう工程を備える。 （もっと読む）

【課題】マイクロ流路内を流れる流体を攪拌する機構を有するマイクロ流路ユニットを提供する。
【解決手段】マイクロ流路ユニットは、第一流路１と、第一流路１と平行して形成された第二流路２と、第一流路１と第二流路２とを仕切るとともに、第一流路と第二流路とを繋ぐスリット６が形成された隔壁部３と、を備える。第一流路と第二流路との間に形成されたスリットにより、例えば、第一流路から第二流路へ液体が流入し、これにより第一流路内で攪拌作用を生じさせることが期待できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、少量から大量の粉体を均一に大気圧グロープラズマ処理して、その表面に有用な官能基を付与するプラズマ処理装置を提供することを目的とするものである。
【解決手段】本発明は、中心電極２と、中心電極２と所定の空隙部５を介して配置された筒状の周辺電極３とを有する放電容器１と、中心電極２表面若しくは周辺電極３表面の少なくとも一方に設けられた誘電体４と、放電容器１の一端側に設けられ、空隙部５に流体を注入可能に構成された流体注入手段と、放電容器１の他端側に設けられ、空隙部５から流体を排出可能に構成された流体排出手段と、中心電極２と周辺電極３との間に交流またはパルス電圧を印加した状態で、中心電極を回転中心として放電容器を回転せしめる回転手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】マイクロリアクターで実施される吸熱反応に熱を供給する際の熱損失を減少させる方法および反応器を提供する。
【解決手段】吸熱反応触媒１７を含む吸熱反応チャンバ１５に吸熱反応組成物を流通させるとともに、熱伝導性のチャンバ壁を介して前記吸熱反応チャンバと隣接して設けた発熱反応チャンバ１２に燃料と酸素を供給し、前記発熱反応チャンバに内包される発熱反応触媒１４、１６の作用のもとに燃料を燃焼させ、発生した熱を前記熱伝導性チャンバ壁を通して前記吸熱反応チャンバに輸送することにより、少ない熱損失で吸熱反応チャンバ内に熱を供給する。 （もっと読む）

【課題】各種の処理対象体を均一にプラズマ処理し得るプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】処理対象管Ｚ（処理対象体）を貫通させる貫通孔２２ａが形成された筐体１１と、筐体１１に立設されると共に高周波信号Ｓを入力して放射する放射器１４とを備えて、高周波信号Ｓの放射によって放射器１４の近傍にプラズマＰを発生させるプラズマ処理装置１であって、貫通孔２２ａに貫通させた状態で筐体１１に取り外し可能に取り付けられると共に、筐体１１の内面に対する接離方向への処理対象管Ｚの移動を規制しつつ、貫通方向に沿っての処理対象管Ｚの移動を許容する位置決め部材１５を備えている。 （もっと読む）

【課題】液体試薬保持部内における液体試薬の注入位置を適切に制御できるマイクロチップを提供することである。
【解決手段】第１の基板と、第１の基板上に積層された透明基板である第２の基板とを備え、第１の基板表面に形成された溝と第２の基板表面とから構成される空洞部、または、第１の基板表面と第２の基板表面に形成された溝とから構成される空洞部からなる流体回路を含むマイクロチップであって、流体回路は、液体試薬を収容するための液体試薬保持部を有し、液体試薬保持部は、液体試薬を導出するための液体試薬排出口を有し、液体試薬保持部の底面を構成する第１の基板の溝底面または第１の基板表面で、かつ、液体試薬排出口の近傍に突起部が設置されたマイクロチップに関する。 （もっと読む）

【課題】液体試薬保持部内の液体試薬量および／または液体試薬保持部内における液体試薬の位置を簡便に検知することができ、液体試薬量および／または液体試薬の位置が適正かどうかを容易に評価することができるマイクロチップを提供する。
【解決手段】第１の基板と、該第１の基板上に積層された透明基板である第２の基板とを含み、第１の基板表面に形成された溝と第２の基板表面とから構成される空洞部、または、第１の基板表面と第２の基板表面に形成された溝とから構成される空洞部からなる流体回路を有するマイクロチップであって、該流体回路は、液体試薬を収容するための液体試薬保持部を含み、液体試薬保持部の天井面を構成する第２の基板表面または第２の基板の溝底面に、液体試薬保持部内の液体試薬量および／または液体試薬保持部内における液体試薬の位置を検知するための検知部を備えるマイクロチップである。 （もっと読む）

【課題】従来のこの種の気流発生装置は、プラズマの発生点が無秩序であり、プラズマの発生により誘起されるイオン風の方向に一貫性が無いため、誘起できる気流が小さいという問題があった。
【解決手段】面状誘電体の両面に設けた２つの電極のうち、少なくとも一方が多点の末端を有する電極で構成され、両電極が、前記面状誘電体の面に対し垂直方向で重ならず、一定の隙間を有し、両電極に交流電圧を印加するとともに、どちらか一方を接地することを特徴としており、プラズマの発生に伴い誘起されるイオン風の方向に一貫性を持たせることができ、結果的に、気流を大きくすることができる気流発生装置を得る。 （もっと読む）

【課題】管端部又は管どうしを接続する溶接部の経年損傷を低減することにより長寿命化を達成することのできる反応管を提供する。
【解決手段】管内を流れる流体に対して乱流を発生させる乱流生起部を管内面に有する反応管10,12において、乱流生起部30により発生した乱流により、所定の流体撹拌領域を乱流生起部30下流側の管壁近傍に形成しており、少なくとも一方の管端部、又は管どうしを接続する溶接部は、管内面における管周方向長さの少なくとも三分の二が、該流体撹拌領域40となるようにした。 （もっと読む）

【課題】 触媒と放電を併用したＶＯＣｓを処理する空気処理装置において、触媒の性能を低下させず、放電を停止させることなく、連続的に運転できる高い処理効率を有する空気処理装置を提供することを目的としている。
【解決手段】 高圧電極２と、この高圧電極２に対向して所定の距離を隔てて配置され、接地された多孔質触媒体３と、この多孔質触媒体（接地電極）３の側面部外周に取り付けられた加熱用の発熱体４と、高圧電極２と多孔質触媒体（接地電極）３間に高電圧を印加するために接続された高圧電源５と、さらに、多孔質触媒体（接地電極）３の後方に設けられた吸気用ファン６と、高圧電極２の前方に設けられた除塵フィルタ７とを備えた空気処理装置。触媒と放電の併用により、効率よくＶＯＣｓを処理することができる。 （もっと読む）

【課題】 ヒータなどの加熱装置の発熱量を小さくすることができる反応装置を提供する。
【解決手段】 反応前の原料流体は、供給路３を介して反応装置１外部から反応器２内へと供給された後、反応器２内部にて反応し、原料流体よりも高温の生成物流体となる。高温の生成物流体は、排出路４から反応装置１の外部へと排出される際に排出路４の温度を上げることになる。排出路４は、その少なくとも一部を反応器２の外表面における少なくとも一平面または外周面に接するように設けることにより、一定の発熱量では、反応器２内部の温度を高くすることができ、また、反応器２内部を一定の温度に保持する場合に、発熱量を小さくすることができる。 （もっと読む）

【課題】マイクロリアクターへの位置決めと溶接が容易な発熱基板と、高効率の触媒反応を可能とする信頼性の高いマイクロリアクターを提供する。
【解決手段】マイクロリアクターに溶接して使用する発熱基板１を、金属基板２と、この金属基板２上に電気絶縁層３を介して配設された発熱体４とを有するものとし、金属基板２は、周縁部に複数の凸部５を有し、これらの凸部５の先端を結ぶ形状を、マイクロリアクター１１の溶接対象面１１Ａの周辺形状と一致するように構成する。 （もっと読む）

【課題】大気圧・窒素中の放電が容易で、長時間のストリーマ放電に耐え、広範囲で均一な処理ができ、対象物に低ダメージの処理ができ、処理時間が短縮されたプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】一辺に刃部を設けた複数の板状のアノード埋込ブレード１１_l-1〜１１_l-6を、互いの主面を対向させて並列配置した分割型アノード電極と、アノード埋込ブレード１１_l-1〜１１_l-6のそれぞれの刃部に対向して配置されたカソードとを備える。アノード埋込ブレードのは、板状のアノード誘電体と、このアノード誘電体の内部に埋め込まれたアノードメタルからなる。複数のアノード埋込ブレードは、長手方向の両端部において、スペーサブロック７１₁〜７１₆，７３₁〜７３₆，７２₁〜７２₆，７４₁〜７４₆を挟む。 （もっと読む）

【課題】誘導電流が形成されるのを防止するトロイダル・プラズマ・チャンバを提供する。
【解決手段】トロイダル低電場プラズマソースとともに用いられ得る金属製プラズマチャンバ１００は、第１の誘電体領域１０８および第２の誘電体領域１１０を含む。誘電体領域１０８および１１０は、プラズマチャンバ１００を、第１の領域１１２および第２の領域１１４に電気的に分離する。第１の領域１１２および第２の領域１１４の各々は、高度真空シールにより誘電体領域１０８、１１０に接続されることにより、プラズマチャンバ１００を形成している。誘電体領域１０８、１１０は、プラズマチャンバ１００の組み合わせ面１１６を分離する誘電体スペーサを有してなっていてもよい。 （もっと読む）

【課題】射出成形法で作製された樹脂製基板の接合強度を高めることが可能なマイクロチップの製造方法を提供する。
【解決手段】マイクロチップは、表面に流路用溝が形成された樹脂製基板１０と、平板状の樹脂製基板２０とを備えている。樹脂製基板１０には、外周部に突起部１１が設けられている。この突起部１１は、射出成形のときに使用されたゲート中に残された成形体である。樹脂製基板２０の寸法は樹脂製基板１０の寸法よりも小さい。そして、流路用溝が形成されている表面を内側にし、突起部１１が形成されている位置から距離ｄ以内の範囲に含まれる表面を覆わないように、樹脂製基板２０を樹脂製基板１０に重ね、加熱しながら加圧することでマイクロチップを作製する。 （もっと読む）

【課題】耐圧性に優れた流体制御バルブを有するマイクロチップを提供する
【解決手段】内部に流路ＦＡが形成されたチップ本体と、流路ＦＡを開閉する流体制御バルブ４０と、を備えたマイクロチップであって、流体制御バルブ４０は、チップ本体に形成され流路ＦＡに連通する孔部４１と、孔部４１に挿入された閉塞部材４２と、孔部４１と閉塞部材４２との間に充填され閉塞部材４２を流路ＦＡ側に変位可能に支持する充填部材４３と、充填部材４３の孔部４１からの離脱を防止する離脱防止手段４４と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、容器開口と容器内部とで定義される容器と、容器に用いられ、容器開口を開放可能に封をするように構成されるセプタと、容器に用いられ、ホルダー空洞で定義づけられる針ホルダーと、針ホルダーに用いられ、少なくとも一部がホルダー空洞内に配置される針とを備え、セプタは、封止の静止状態と穴の開いた状態との間で変形可能であり、セプタに穴が開けられる状態にある時、セプタは、針の端による突き当てで穴を開けることが可能なまでに変形可能である、反応ボトルに関する。 （もっと読む）