本発明は、ガスまたはガス混合物、特にフッ素化ガス排出物の変換のための方法に関する。本発明によれば、ガスまたはガス混合物の少なくとも１つの分子の２つの原子間の少なくとも１つの結合を、ガスまたはガス混合物がさらされる電場および／または磁場の影響下で破断する。ガスまたはガス混合物の流れを、電場および／または磁場を通して非線形に注入し、ガス分子が場を通して移動する距離を増加させ、こうしてガスまたはガス混合物分子の変換の効果を増加させる。 （もっと読む）

液体試薬を保持しうる試薬デリバリー物品、それらの物品の製造方法、および液体試薬を装填するためのそれら物品の使用を提供する。さらに、少なくとも１種類の液体試薬を装填した試薬デリバリー物品、その製造方法、および溶液相化学における装填物品の使用に関する；その際、装填された試薬はデリバリー物品から溶液中へ放出される。 （もっと読む）

流動型実験室水素化装置１００は、全て流路内に連結されている、貯留部１０４と、供給ポンプ１０２と、２個の入口及び１個の出口を備える混合エレメント１０８と、水素化反応器１１０と、圧力調整ユニット１１２とを備える。装置１００は、水素源１２６と、水素源１２６と混合エレメント１０８の第２の入口との間に配置される一方向バルブ１２０も備える。供給ポンプ１０２は、一定容積速度を与えるポンプにより実現される。貯留部１０４は、水素化すべき試料の基礎溶液として少なくとも溶媒を含む。水素化反応器１１０は、取外し可能な連結器により流路中に連結され、流動抵抗を増加させ、液体成分と気体成分との混合を促進する充填物を含む交換可能なカートリッジとして形成される。圧力調整ユニット１１２は、水素化反応器１１０の後ろで流路中に連結され、電気的に制御される調節器を備える。
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反応や分析のステップ数や量の制限が緩く、製造が容易であるマイクロ流体システム用支持ユニット、さらに、複雑な流体回路を高密度に実装できるマイクロ流体システム用支持ユニットを提供する。本発明は、第一の支持体と、マイクロ流体システムの流路を構成する、少なくとも一本の中空フィラメントとを備え、該中空フィラメントが前記第一の支持体に任意の形状に敷設され、かつ前記中空フィラメントの内側の所定箇所が機能性を有するマイクロ流体システム用支持ユニットに関する。
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本発明は、膜または薄いプレートの積み重ねで構成された微細混合反応器において少なくとも２つの流体を混合する方法及び装置に関する。本発明によれば、混合室９は、膜平面に対して横切るように延びると共に、混合する流体３ａ，３ｂ，３ｃ，３ｄが、混合室の縦軸に対して横切る膜平面上において別々にかつ互いに隣接して導入される。その結果、流体は、流体が混合室に導入される際に、直ちに混合されると共に、結果として生じた混合物の温度は、混合室の周上の少なくとも１区画において温度制御装置により制御される。
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内径が小さい反応容器内表面のコーティング方法は、（ｉ）適切な溶媒中の１種以上のモノマーの溶液を反応容器に導入する工程と、（ｉｉ）反応容器に不活性ガスの流れを導入する工程と、（ｉｉｉ）モノマー溶液の重合を開始させる工程とを含む。 （もっと読む）

排出口（４）および排出口（４）側方付近に配備された吸込ライン（９）を具備するマイクロ反応システム（３）用のサンプリングデバイスであって、排出口（４）から排出される物質（１３）の吸収のための吸込ライン（９）内で減圧が生じうるものである。排出口（４）は、キャピラリの形式で設計され、吸込ライン（９）の開口に対して位置合わせをすることができる。排出口（４）から排出される物質（１３）用の流出口（１４）、および吸込ライン（９）用の通路口（８）を具備するハウジングは、排出口（４）の回りに配備される。吸込ライン（９）は、磁気バルブ（１１）を介して真空ライン（１２）に接続される収集容器（１０）に進入する。
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本発明は、セラミック相（ＰＱ）およびバインダー相（ＲＳ）を含む、式（ＰＱ）（ＲＳ）（式中、Ｐは、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｆｅ、Ｍｎおよびそれらの混合物からなる群から選択される金属であり；Ｑは炭窒化物であり；Ｒは、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｍｎおよびそれらの混合物からなる群から選択される金属であり；Ｓは、Ｃｒ、Ａｌ、ＳｉおよびＹから選択される少なくとも一種の元素を含む）によって表されることを特徴とするサーメット組成物を含む。 （もっと読む）

セラミックス相がＣｒ_２３Ｃ_６、Ｃｒ_７Ｃ_３、Ｃｒ_３Ｃ_２およびそれらの混合物よりなる群から選択されるサーメットを提供する。バインダー相は、ある特定のＮｉ／Ｃｒ合金およびあるＦｅ／Ｎｉ／Ｃｒ合金よりなる群から選択される。これらのサーメットは、高温において侵食から表面を保護するのに特に有用である。 （もっと読む）

本発明は、セラミック相（ＰＱ）およびバインダー相（ＲＳ）を含む、式（ＰＱ）（ＲＳ）（式中、Ｐは、Ｓｉ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗおよびそれらの混合物からなる群から選択される金属であり；Ｑは窒化物であり；Ｒは、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｍｎおよびそれらの混合物からなる群から選択される金属であり；Ｓは実質的に、Ｃｒ、Ａｌ、ＳｉおよびＹからなる群から選択される少なくとも一種の元素、並びにＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗおよびそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも一種の反応性湿潤アリオバレント元素からなる）によって表されるサーメット組成物を含む。 （もっと読む）

式Ｍ_ＸＣ_Ｙで表される再析出金属炭化物相と共に、実質的に化学量論的な金属炭化物セラミックス相が金属バインダー相中に分散されているサーメットを提供する。Ｍ_ｘＣ_ｙ中、Ｍは、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏまたはそれらの混合物であり、ｘおよびｙは、ｘを１〜３０かつｙを１〜６の範囲内とする整数値または小数値である。これらのサーメットは、高温において侵食および腐食から表面を保護するのに特に有用である。 （もっと読む）

【課題】処理対象ガスに窒素が含まれていてもＰＦＣの分解率が高く、ＮＯ_Ｘの生成量が少なく、大気圧下で使用可能な排ガス処理装置を提供する。
【解決手段】ＰＦＣガスと窒素ガスとからなる排ガスを処理し、排ガス中のＰＦＣを分解する排ガス処理装置であって、処理対象の排ガスに炭化水素や水素、アンモニアなど水素原子を有する添加ガスを供給する添加ガス供給装置、および添加ガスを含んだ排ガスをプラズマ処理するプラズマチャンバーを有する。添加ガス供給装置をプラズマチャンバーの下流に設け、プラズマ処理後の排ガスに添加ガスを供給するように構成してもよい。 （もっと読む）

【技術課題】 基板に損傷や表面汚染を与えることなく、エッチングや成膜が行え、チャンバや電極等の構造は同一であるにも拘らず、導入するガスやプラズマ励起周波数を変えることにより、エッチングや成膜にも応用可能であり、生産性に優れるとともに、低価格で高性能なプラズマプロセス用装置を提供すること。
【解決手段】 容器内105に対向するように設けられ夫々平板状に形成された第１及び第２電極102，104と、プラズマに対して安定な材料から成り第１電極102上を覆うように設けられる保護部材101と、第２電極104上に被処理物103を取り付けるための保持手段と、第１電極102に接続される第１の高周波電源111と、第２電極104に接続される第２の高周波電源110と、容器105内に所望のガスを導入するためのガス供給手段とを少くとも備え、第１の高周波電源の周波数が前記第２の高周波電源の周波数より高いことを特徴とする。 （もっと読む）