【課題】 ガスイオンを効率よく長時間生成することができる装置を提供する。
【解決手段】 イオン発生器１は筐体にガス導入部３及びイオン放出口５を備え、筐体内に放電電極１１及び接地電極１３を備えている。イオン発生装置７はイオン発生器１のイオン放出口５にチャンバー９を接続したものである。放電電極１１はガス導入部３から導入されたガスに高電圧を放電するものであり、一端は筐体内の上部に支持され、他端は垂直下方向に向けられている。接地電極１３は筐体内で放電電極１１に対向してイオン放出口５に配置されている。接地電極１３は、接地側の面１５に銅が形成されているステンレス製の円盤状電極であり、中心にはイオン放出口となるオリフィス１９が形成されている。 （もっと読む）

マイクロ流体粒子ソーティングシステムに用いるための改良されたアクチュエータは、関連ソーティングチャネルにおいて粒子をチャネルの流れから選択的に偏向させるために用いられる複数のアクチュエータについてジグザグ状に配列した（staggered）パッキングスキームを利用する。アクチュエータブロックは、それぞれが複数のソーティングチャネルを含む関連ソーティングチップにおける作動ポートと整列するように構成された、アクチュエータの2次元配列を収容するために供給されうる。アクチュエータブロックは、ブロックにより収容された各アクチュエータにプレストレスを与えるための内蔵ストレス手段を含みうる。圧電スタックを含むアクチュエータは、はんだ付けワイヤーよりむしろ接触に基づく電気的接続を用いてパッキング密度を向上させる。アクチュエータは外部アクチュエータであってもよい。すなわち、外部アクチュエータは、ソーティングチャネルが形成される基板の外部である。

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【課題】
本発明は有害ガスなどを処理する平板型低温プラズマ反応器に関し、誘電体障壁放電方式の平板型低温プラズマ反応器の熱応力による耐久性を大きく向上させることができ、車両など処理すべきガスの温度変化範囲が広く、時間に対する変化量も大きい環境でも安定的に低温プラズマを発生させることができるのはもちろん、高電圧積層部の電極リード部分をそれぞれの高電圧電極板に個別に構成することで、アークなど異常放電による過電流をそれぞれの電極端子に個別付着されたヒューズなどで遮断し、全体性能に問題がない限り少数の問題が発生したプラズマ層に電力を供給しないようにして全体反応器の寿命を延長させることができる効果がある。
【解決手段】
本発明は多層平板電極を具備した誘電体障壁放電方式の平板型低温プラズマ反応装置において、高電圧の電源が印加され、スペーサを介して積層されて相互一定に離隔される多数の高電圧電極板を含み、上記高電圧電極板とスペーサが融着接合されてなる高電圧積層部と、 接地端子と連結されて上記高電圧電極板間にそれぞれ位置するように相互離隔される多数の接地電極板と、上記接地電極板と高電圧電極板間に反応空間が形成されるように上記接地電極板と高電圧電極板間にそれぞれ介在される多数のスペーサを含む接地電極積層部と、上記高電圧電極板と上記接地電極積層部の接地電極板及びスペーサにそれぞれ形成される貫通ホールを介して貫通されて突出した一側端にナットが締結されて上記高電圧電極板、接地電極板及びスペーサが結合されるようにするが、結合された部位に熱による変形量を吸収するための遊隙が形成されるようにその外径が上記貫通ホールの直径よりも相対的に小さく形成された締結ボルトを含んで構成されたことを特徴とする。 （もっと読む）

第１および第２の面を有する基板と、基板の第１の面上に配置されている第１の電極材料層とを含む、流体中で作動させるための微細加工デバイスを提供する。このデバイスは、第１の電極材料層上に配置されている圧電材料層と、圧電材料層上に配置されている第２の電極材料層とを有する。このデバイスは、また、第２の電極材料層上に配置され、第２の電極材料層の一部を流体から化学的または電気的のうちの少なくとも一方で分離する分離材料の層をも含む。あるデバイスは、分離材料の層上に配置されている導電性材料の層を含む。
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【課題】信頼性よく安定して流体を加熱することが可能なマイクロ流体装置を提供すること。
【解決手段】例えば、マイクロ流体装置１００を、流路基板１０と、磁界印加装置２０と、が複数積層された積層体で構成し、当該流路基板を例えば金属材料で構成することで、磁界印加装置２０による磁界により流路基板１０自体が電磁誘導作用により発熱し、液体を加熱することができる。マイクロ流体装置１００は、例えば、例えば、反応・分離・抽出・検出などの基本化学操作に適用することができる。 （もっと読む）

本開示発明は、プロセスマイクロチャネルの中の少なくとも２つのプロセス区域の中で単位操作を行って非ニュートン流体を処理し、および／または形成させることであって、各プロセス区域の中で異なる単位操作を行うこと、および有効量のせん断応力を非ニュートン流体に作用させて各プロセス区域の中の非ニュートン流体の粘度を低下させることであって、１つのプロセス区域の中の平均せん断速度は別のプロセス区域の中の平均せん断速度と少なくとも約１．２倍異なること、を含むプロセスに関する。
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【課題】有用な透明酸化物薄膜を安定且つ高速に製造するためのスパッタリングターゲット用焼結体、透明酸化物薄膜、及びガスバリア性透明樹脂基板を提供すること。
【解決手段】焼結体は、導電性酸化物と炭化シリコンで構成されている。焼結体中のシリコン含有量が、焼結体中の全金属元素含有量に対して０．５〜９９．５原子％の割合であることを特徴とする。透明酸化物薄膜は、前記焼結体を原料として用いて、スパッタリング法で製造され、シリコンを含むことを特徴とする。ガスバリア性透明樹脂基板は、樹脂フィルム基材の少なくとも一方の面側に前記透明酸化物薄膜を形成することにより得られる。 （もっと読む）

【課題】 ＰＣＲなどを行うのに適した加熱冷却構造を有する新規なマイクロ流体チップを提供する。
【解決手段】 第１の基板と第２の基板とからなり、該第１の基板と第２の基板との間に流体を移送するためのマイクロチャネルを少なくとも１本有するマイクロ流体チップにおいて、
前記マイクロ流体チップは少なくとも１個の加熱冷却構造を有し、該加熱冷却構造は、
前記マイクロチャネルが接続される所定の容積の第１の空間を有し、
前記第１の空間に隣接して、弾性を有する薄膜により隔離された、前記第１の空間の平面面積よりも大きな平面面積と所定の容積を有する第２の空間を、前記第１の基板又は第２の基板の何れかに有し、
前記第１の空間に隣接して、前記第２の空間が配設されていない側の基板を貫通して伝熱部材が配設されており、該伝熱部材には冷熱源を接触させることができることを特徴とするマイクロ流体チップ。 （もっと読む）

【課題】排気ガスをプラズマ発生空間に流したときに、プラズマにより活性化された成分（活性成分）の失活を抑制し、その活性成分と粒子状物質とを効率的に反応させることができ、効率的に粒子状物質を反応処理することが可能なプラズマリアクタを提供する。
【解決手段】プラズマリアクタ本体１と、プラズマリアクタ本体１の入口側端部２に配置される正電極１１と、フィルタ入口端部２２とプラズマリアクタ本体１の出口側端部３とが対向するように配置される導電性のハニカムフィルタ２１と、正電極１１とハニカムフィルタ２１とに接続され、正電極１１とハニカムフィルタ２１とをプラズマ発生電極として、これら２つの電極の間にパルス電圧を印加してプラズマを発生させることが可能なパルス電源３１とを備えるプラズマリアクタ。 （もっと読む）

【課題】化学反応を安定した精密な温度で進行させ、温度変化により反応速度が変化することなく、副生成物の生成や反応の暴走を抑制する。
【解決手段】反応溶液Ａ１０４を導入する導入流路Ａ１０８と、反応溶液Ｂ１０５を導入流路Ａ１０８に合流させる導入流路Ｂ１０９と、反応溶液Ａ１０４と反応溶液Ｂ１０５とが合流してから反応させる反応流路１１１と、を備えたマイクロリアクタを冷却するマイクロリアクタの冷却システムにおいて、導入流路Ａ１０８と導入流路Ｂ１０９とが合流する合流部に設置されたガス流路１１２と、ガス流路内を負圧にする真空ポンプ１２２と、ガス流路１１２へ冷媒溶液を送るポンプ１０１と、を備え、冷媒溶液をガス流路１１２内で気化させる。 （もっと読む）

【課題】複数の化学反応を連続して行うことができる上、装置全体を簡素化及び小型化することができる小型化学反応装置を提供する。
【解決手段】小型の基板１２の一面には第１〜第３流路４１〜４３が一筆書き状に連続して設けられている。そして、各流路４１〜４３内で異なる化学反応を連続して行う。 （もっと読む）

マイクロリアクターシステムアッセンブリーは、少なくともｎのプロセスモジュール（１−６）であって、ここにおいて、ｎは１以上の整数であり、強固な第１の材料で作られており、および、反応液を収容しおよび導くために、少なくとも１つの反応液通路（１Ａ、１Ｂ、２Ａ、３Ａ、６Ａ）を含むプロセスモジュール、および少なくともｎ＋１の熱交換モジュール（７、８）であって、前記第１の材料とは異なる延性のある第２の材料で作られており、および、熱交換液を収容しおよび導くために、少なくとも１つの熱交換液通路（７Ａ、８Ａ）を含む熱交換モジュールのスタックを含み、ここにおいて、それぞれのプロセスモジュール（１−６）は、２つの隣接する熱交換モジュール（７、８）により挟まれる。 （もっと読む）

【課題】被処理流体を一度流すだけで、被処理流体の所定の成分を、それぞれの反応に最適な強さのプラズマで、反応処理することができるプラズマ発生電極を提供する。
【解決手段】プラズマ発生電極１であって、単位電極２が、誘電体となる板状のセラミック体３と、セラミック体３の内部に配設された導電膜４から形成されるとともに、複数の単位電極２が一定間隔で積層され、互いに隣接する単位電極２に配設される導電膜４間の距離Ｄが部分的に異なるか、又は、単位電極２を構成するセラミック体の誘電率が部分的に異なり、空間Ｖに、部分的に異なる強さのプラズマを発生させることが可能なプラズマ発生電極１。 （もっと読む）

【課題】キャディの使用により、分析機器との容易な相互接続を可能にする構成を備えている微小流体デバイスを提供する。また流体デバイスを形成するための方法を提供する。
【解決手段】流体デバイス１０は、本体部１１及び隣接導電性層１００を含む。本体部１１は、内部表面及び外部表面を有する。内部表面は、ウェル及び流体搬送造作２５、たとえばウェルと流体が流れるように連通する微小造作を画定する。隣接導電性層１００は、ウェルの側壁４６Ｓ及び、外部表面、内部表面の選択された領域上に位置し、流体搬送造作２５内の任意の流体と電気的に接続した状態で、外部表面４４上に接触パッド領域が形成されている。 （もっと読む）

電気非伝導性材料を含むボディを含み、電気伝導性材料の少なくとも１つの領域と、非伝導性材料のボディと電導性材料の領域を貫通して延びる少なくとも１つの通路を含み、電気伝導性領域が使用中の通路を通って流れる流体に対して電気伝導性材料のエリアを提供するマイクロ電極。このようなマイクロ電極を含む電気化学セルも開示される。
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伝熱及び又は浄化用アセンブリで使用するためのマトリクス構造であって、第１流体を貫流させるための複数の孔（６８）を画定するシート（２２）を含み、シート（２２）上に第２流体を流動させて該第２流体を第１流体と交差させることにより伝熱及び又は浄化を行わせるように配置したマトリクス構造が提供される。
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【課題】カラーフィルタ等の基板を着色しやすいようにプラズマ処理する。
【解決手段】相対的に平行移動可能な第一の電極９と第二の電極１０とを設け、第一の電極に対向するように第二の電極に板状の被処理体１を設置し、両電極を相対平行移動させつつ両電極間に電圧を印加すると共に処理ガスを導入し、両電極間で発生したプラズマを被処理体に照射し、第一の電極が第二の電極及び被処理体に対して相対平行移動する際に、この第一の電極と被処理体との間のプラズマ処理空間を第一の電極における相対平行移動方向に平行な両端部において閉塞部材２２により閉塞する。閉塞部材は第二の電極側から第一の電極側に向かって、第二の電極上における被処理体の表面よりも高く隆起させておく。 （もっと読む）

【課題】加熱部のエネルギーを効率よく回収するとともに、加熱の偏りを低減させた化学反応装置を提供する。
【解決手段】流体を加熱する加熱部と、加熱部を取り囲むように配置された略円筒状の第１の伝熱壁と、第１の伝熱壁を取り囲むように配置された略円筒状の外壁とを備え、加熱部と第１の伝熱壁とにより形成された化学反応領域と、第１の伝熱壁と外壁とにより形成された流路とを、その一端側において接続する。化学反応領域が加熱部を覆うとともに、化学反応領域を流路が覆うため、加熱前の流体が加熱部のエネルギーを効率よく回収することができる。また、流体の流れ方向が上下方向に形成されるため、軽い流体と重い流体が混ざり合い、化学反応装置に流入する流体が偏ったり、化学反応領域内などに停滞したりせず、流体をムラなく加熱することができる。 （もっと読む）

【課題】界面活性剤を特別に用いることなく油と水とを十分に混合、乳化させたエマルジョンが得られるようにする。
【解決手段】プラズマ放電処理油生成装置は、油を貯留した液槽Ｖと、この液槽の油面上の空間に配設される放電用の陽電極Ｐと、この液槽の油中に少なくとも一部を臨ませた陰電極Ｍと、その陰電極Ｍより油中に電子を過度に放出させて陽電極Ｐと油面との間でプラズマ放電を生じさせ得るように該陽電極Ｐと陰電極Ｍとの間で高電圧放電を行うための高電圧放電手段Ｅとを備える。 （もっと読む）

【課題】プラズマ発生ノズルの耐久性を向上させることが可能なプラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】プラズマ発生装置ＰＵは、マイクロ波を発生するマイクロ波発生装置２０と、マイクロ波を伝搬する導波管１０と、導波管１０のワークＷとの対向面に設けられたプラズマ発生部３０とを具備し、該プラズマ発生部３０には、マイクロ波を受信しそのマイクロ波のエネルギーに基づきプラズマ化したガスを生成して放出するプラズマ発生ノズル３１が複数個配列して取り付けられている。プラズマ発生ノズル３１は、シール部材３５で保持され導波管１０の内部に一端が突出する中心導電体３２と、該中心導電体３２の周囲に離間して配置されたノズル本体３３とを含んでおり、シール部材３５を冷却すべくガスをシール部材３５内部に形成されたシール部材側流路３５４を経由させて中心導電体３２とノズル本体３３との間に供給するように構成されている。 （もっと読む）