【課題】簡便な方法で、高純度、高収率で、合成可能なカーボンナノ構造体の製造方法を提供すること、また、その製造方法で得られたカーボンナノ構造体を提供すること。
【解決手段】炭素源としての有機物の気体と、イオウ含有化合物との混合気体を、金属含有触媒を使用せずに８００℃以上で加熱することを特徴とする繊維状カーボンナノ構造体の製造方法；常温常圧で液体の炭素源としての有機物、及び／又は、常温常圧で液体のイオウ含有化合物を、同時に気体状態において８００℃以上で加熱することを特徴とする繊維状カーボンナノ構造体の製造方法、また、上記製造方法で得られたカーボンナノ構造体；両端が共に開いた構造を有することを特徴とする繊維状カーボンナノ構造体。 （もっと読む）

【課題】蒸発した触媒金属がカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）に再付着することを防止し、配向を崩すことなくＣＮＴから確実に触媒金属を除去することで、高純度で高品質のＣＮＴを得ることができる触媒金属の除去方法を提供する。
【解決手段】基板Ｋに触媒金属を介して形成させたＣＮＴから、ナノ粒子である触媒金属を除去する触媒金属の除去方法であって、基板Ｋの近傍に配置された触媒金属と同種の金属からなるバルク材７を、バルク材加熱用ヒータによりバルク材７の溶解温度未満である蒸着用温度で加熱し、真空ポンプ１２により維持された所定の真空度において、基板Ｋを、基板加熱用ヒータ６により触媒金属の蒸発温度以上である蒸発用温度で加熱することにより、触媒金属を蒸発させてバルク材７の鏡面加工された蒸着面７Ｄに蒸着させる。 （もっと読む）

【課題】高機能のナノカーボンを低価格の原料から低コストで効率よく量産することができるナノカーボン製造装置及びナノカーボン製造方法を提供する。
【解決手段】エタノール容器3と、エタノールを予熱するエタノール予熱器5と、エタノール容器からエタノール予熱器にエタノールを供給するエタノール供給装置4と、エタノールを鉄または鉄系金属を含む金属触媒に接触させて熱分解する気相成長法によりナノカーボンを生成するナノカーボン生成炉6と、ナノカーボン生成炉から出てくる炉排出ガス中の不純物成分を凝縮液化させる手段8,9Aと、前記不純物成分から水分を分離して除去する水分分離除去装置11と、凝縮液化された不純物成分を凝縮液化手段から水分分離除去装置まで送り、かつ水分分離除去装置により水分が分離除去された不純物成分中に含まれる未反応のエタノールを余剰エタノールとして水分分離除去装置からエタノール容器へ戻すエタノール戻りラインL7とを有する。 （もっと読む）

【課題】基板の表面に連続的にカーボンナノチューブを形成し得るとともに原料ガスを基板の表面に均一に供給し得る熱ＣＶＤ装置を提供する。
【解決手段】加熱炉１の炉本体２内の一端側に基板Ｋを構成する薄板材が巻き付けられた巻出しロール16を、他端側にこの基板Ｋを巻き取る巻取りロール17をそれぞれ配置し、これら両ロール16，17同士の間に、基板Ｋを挿通し得る連通用開口部3aを有する区画壁３により所定寸法の平面視矩形状の加熱室13を形成し、この加熱室13内の基板Ｋの上方位置に加熱装置41を配置し、加熱室13の下部に原料ガスＧを供給し得るガス供給口５を設け、このガス供給口５に胴部が円柱状で且つ上端部が半球状にされた多孔質材料より成るガス分散部材21を配置し、加熱室13内を所定の真空度に減圧し得る排気装置23を具備したものである。 （もっと読む）

【課題】製造に必要なエネルギーを低く抑えつつ、ナノ炭素を量産することができ、また二酸化炭素の発生量を抑えることができるナノ炭素の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】流動触媒、又は流動媒体を併用する流動触媒１が収容され、低級炭化水素と酸素とが供給されて自己燃焼可能な流動層反応器２と、流動層反応器２に接続され、流動層反応器２内に低級炭化水素と酸素とを供給するガス供給部５と、流動層反応器２に接続され、流動層反応器２内の排ガスを外部に排出する排ガス路８と、流動層反応器２に接続され、流動層反応器２内に流動触媒、又は流動媒体を併用する流動触媒１を補給する補給部２ａとを有するナノ炭素の製造装置を用い、流動触媒、又は流動媒体を併用する流動触媒１に低級炭化水素と酸素とを供給して流動層を形成し、低級炭化水素と酸素との自己燃焼を伴う低級炭化水素の分解反応によって、ナノ炭素と水素とを生成する。 （もっと読む）

【課題】トンネル炉内に異常が発生した場合に、炉内の賦活反応生成物、未反応物を安全に炉外に排出することができ、また、炉壁等に付着したアルカリ化合物を効率良く除去し、安定してアルカリ賦活炭を製造することができるアルカリ賦活炭の製造装置を提供する。
【解決手段】炭素材をアルカリ金属化合物で賦活することによりアルカリ賦活炭を製造するアルカリ賦活炭の製造装置において、加熱手段と不活性ガス導入路１２ａを備え、原料仕込み後の容器が通過する間に脱水および上記炭素材の賦活反応が行われるトンネル炉３と、上記トンネル炉３内に第二導入路１２ｂを通じて水蒸気を導入する三方弁１４、水蒸気導入路１５と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】タール状物質などの有害物質を含む化学合成物質の生成を排気側にて安価な構成にて抑制し得るガス排出手段を有する真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】基板Ｋを水平に配置し得るとともにその上方に当該基板を加熱する加熱装置21を有し且つ下方に原料ガスＧを導入し得るガス供給口５が設けられた加熱室13を有して基板の下面に蒸着材料を蒸着させ得る熱ＣＶＤ装置であって、上記加熱室に、ガス供給口５からの原料ガスを基板の下面に案内し得るガス案内用ダクト体24を設け、このガス案内用ダクト体の上端面と基板下面との間に隙間δを形成するとともに、基板の上方に当該基板の高さ位置を維持する基板高さ維持部材25を設け、上記加熱室の上壁部に真空ポンプ27を有するガス排出装置23を接続したものである。 （もっと読む）

【課題】触媒を担持した基材の面積が大きくてもＣＮＴ配向集合体を均一に製造することを可能にする、触媒賦活物質を含むガスの噴出装置を提供する。
【解決手段】カーボンナノチューブの成長の触媒を賦活する触媒賦活物質を含むガスの噴出装置１００であって、複数のシャワー２０１、２０２を備え、複数のシャワー２０１、２０２では、噴出する触媒賦活物質の量が互いに異なり、外側のシャワー２０２により噴出される触媒賦活物質の量が、内側のシャワー２０１により噴出される触媒賦活物質の量より多くなるように、複数のシャワー２０１、２０２が配置されている。 （もっと読む）

【課題】化学蒸着（ＣＶＤ）プロセス反応器炉を使用して、任意の長さのカーボンナノチューブ（ＣＮＴ）を生成する装置を提供すること。
【解決手段】ＣＮＴを炉の全長の一部分に沿って軸方向に成長させる。この装置は、スピンドルと、スピンドルを回転させる機構とを含む。このスピンドルは、炉の温度が一定の領域に配置されており、ＣＮＴが炉内で成長しているときに、回転しているスピンドルに巻き付けてＣＮＴを集めるように動作可能である。 （もっと読む）

【課題】タール状物質などの有害物質を含む化学合成物質の生成を排気部にて安価に抑制し得るガス排出装置を提供する。
【解決手段】カーボンナノチューブの形成用の加熱室１３内のガスを真空ポンプ３６にて排出するための装置であって、加熱室１３と真空ポンプ３６との間の排ガス経路に、当該加熱室１３の圧力よりも低い圧力にされる減圧室を有する筒状体３１を配置すると共に、その下流側に冷却器３４を配置したものである。 （もっと読む）

【課題】原料を選択せずに様々な原料が混在したまま炭素素材及びその他の副成物を回収することができ、回収後の炭素素材及びその他の副成物の有効利用を可能にする。
【解決手段】炭素化した原料を収納している収納機器から炭素化物を回収し、回収した炭素化物に混在している金属やその他の物質を破砕分離し、破砕分離によって発生する超微粉炭素化物を回収する工程（後処理工程ｃ）と、該工程（後処理工程ｃ）で発生する分解ガスを保温管理導管によって気液回収部Ｄへ導き、間接冷却によって液化物と気体とに分離して回収する工程（気液回収工程ｄ）と、気液回収できない低沸点のガスを施設内の冷暖房のエネルギーとしての利用や液化回収して他所で利用することができるように加工する工程（残存ガス回収工程ｅ）と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】カーボンナノチューブ配向集合体を連続的に製造する装置において、排気管中に付着する炭素固形物の生成を抑制することによって、ＣＮＴ配向集合体の連続製造を安定的に保つことを可能にする。
【解決手段】触媒基板１０上に原料ガスを供給してカーボンナノチューブ配向集合体を成長させる成長炉３ａと、成長炉３ａ内のガスを排気する排気管２３と、を備えるカーボンナノチューブ配向集合体の製造装置において、前記原料ガスと化学反応を起こすことで前記排気管内２３に付着する炭素固形物を低減する反応ガスを噴射する反応ガス噴射部１６、１７を備えている。 （もっと読む）

【課題】電界集中が容易で、電子放出能及びその均一性、安定性に優れ、かつ簡便で制御性が高いプロセスで作製できるナノ炭素材料を用いた電子放出素子、その製造方法、電子放出素子を用いた面発光素子を提供する。
【解決手段】強電界によって電子を放出する電界放射型の電子放出素子において、基板上に形成された複数の突起部よりなる３次元構造パターンを具備し、突起部の高さと隣接する突起部同士との間隙との比を１：２以上１：６以下とする。 （もっと読む）

【課題】カーボンナノチューブの品質が劣化するのを抑制し得る熱ＣＶＤ装置における断熱体を提供する。
【解決手段】熱ＣＶＤ法によりカーボンナノチューブを基板の表面に形成するための加熱室１３の内壁面に配置される断熱体２１を、底壁部２ａ側に配置される底壁断熱部２２と、上壁部２ｂ側に配置される上壁断熱部２３と、側壁部２ｃおよび区画壁３に沿って配置される側壁断熱部２４とから構成するとともに、これら各断熱部２２〜２４として、金属製の薄い遮蔽板２５を所定間隔おきに多数並置することにより構成したもの。 （もっと読む）

【課題】触媒が全面に塗布された基板においても、所望の形状で成長したカーボンナノチューブを得ることができる蒸着装置を提供する。
【解決手段】触媒が塗布された基板Ｋを内部に配置すると共に所定の真空度を維持し得る加熱室１３を有して、熱化学気相成長法により当該基板Ｋに原料ガスＧを供給してカーボンナノチューブを成長させるカーボンナノチューブ形成用のＣＶＤ装置であって、基板Ｋのカーボンナノチューブの生成範囲に原料ガスＧを導く複数のガス案内用ダクト体２３と、これら各ガス案内用ダクト体２３にそれぞれ一端が接続されて原料ガスＧを各ガス案内用ダクト体２３に導く複数のガス導入管５とを具備したものである。 （もっと読む）

【課題】基板表面に生成する膜を全面でより均一にできるＣＶＤ装置を提供する。
【解決手段】熱化学気相成長法により基板Ｋの表面にカーボンナノチューブを生成する加熱室１３を有するカーボンナノチューブ形成用の熱ＣＶＤ装置であって、加熱室１３内を所定方向に移動される所定幅の基板Ｋを側面視が円弧形状となるように保持し得るガイド板２３を具備するとともに、このガイド板２３により保持される基板Ｋの円弧中心位置に原料ガスＧの放出口５を基板Ｋの幅方向に沿って配置したものである。 （もっと読む）

【課題】カーボンナノチューブ配向集合体を連続的に製造する装置において、排気管からの排気流量を所定の範囲内に制御することによって、ＣＮＴ配向集合体の連続製造を安定的に保つことを可能にする。
【解決手段】炉内のガスを排気する排気管１４ａを備えるカーボンナノチューブ配向集合体の製造装置１００において、
排気管１４ａ内の排気流量を測定する排気流量測定手段１４と、排気流量測定手段１４が測定した結果に基づいて、排気管１４ａ内の排気流量を可変する排気流量可変手段１５とを備える排気流量安定化部２０を備えている。 （もっと読む）

【課題】カーボンナノ構造物の成長速度を向上させ、高い成長効率を達成することが可能となるカーボンナノ構造物の製造方法及びカーボンナノ構造物製造装置を実現する。
【解決手段】炭素源となる原料ガスを、８００℃より高く、１０００℃以下に加熱されたガス予備加熱部で予備加熱する予備加熱工程と、予備加熱された原料ガスを、６５０℃より高く、８００℃以下に加熱された反応部に導入して、触媒と接触させることによってカーボンナノ構造物を生成させる反応工程とを含むカーボンナノ構造物の製造方法、及び、８００℃より高く、１０００℃以下に保たれているガス予備加熱部と、６５０℃より高く、８００℃以下に保たれている反応部とを備えるカーボンナノ構造物製造装置。 （もっと読む）