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Fターム[4H003AB18]の内容

洗浄性組成物 (67,184) | 陰イオン性界面活性剤 (6,220) | 陰イオン性界面活性剤(一般) (6,218) | スルホネート(一般) (2,154) | 芳香族炭化水素のスルホネート (1,151)

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【課題】硫酸ナトリウムの析出を高度に抑制し、かつ粘度の低いα−スルホ脂肪酸アルキルエステル塩含有ペーストの製造方法の提供。
【解決手段】(a)アルキルベンゼンスルホン酸/α−スルホ脂肪酸アルキルエステルの質量比が0.01〜0.20となるようにα−スルホ脂肪酸アルキルエステルとアルキルベンゼンスルホン酸を混合して混合物を得る工程、(b)混合物をアルカリで中和する工程、および(c)混合物にノニオン界面活性剤を添加する工程、を含む、α−スルホ脂肪酸アルキルエステル塩含有ペーストの製造方法。 (もっと読む)


【課題】使用後に、ミキサ、アジテータ車、ホッパー、ポンプ等の設備を容易に洗浄可能な高粘性モルタルコンクリートの洗浄方法を提供すること。
【課題を解決するための手段】アルキルアリルスルホン酸塩とアルキルアンモニウム塩を含有してなる高粘性モルタルコンクリートの洗浄方法であって、洗浄剤としてポリカルボン酸塩系分散剤と収縮低減剤を加えることを特徴とする高粘性モルタルコンクリートの洗浄方法。 (もっと読む)


【課題】すすぎ性が良好で、環境性や安全性に優れ、かつ、洗浄性が良好で液安定性に優れた液晶パネル用水系洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】本発明の液晶パネル用水系洗浄剤組成物は、α-オレフィン系炭化水素(A成分)と、ジアルキルスルホコハク酸塩(B成分)と、直鎖型及び分岐型アルキルベンゼンスルホン酸塩から選択される少なくとも1種のアニオン界面活性剤(C成分)と、ジメチルスルホキシド(D成分)と、式1で表される短鎖グリコールエーテル(E成分)と、水(F成分)とを含む液晶パネル用水系洗浄剤組成物であって、前記液晶パネル用水系洗浄剤組成物における、前記A成分が20質量%〜40質量%であり、前記B成分が10質量%〜30質量%であり、前記C成分が1質量%〜5質量%であり、前記D成分が5質量%〜20質量%であり、前記E成分が10質量%〜30質量%であり、前記F成分が10質量%〜30質量%であることを特徴とする。 (もっと読む)


ミッドレンジ・アルコキシレート界面活性剤又はアルコキシレート界面活性剤のブレンドを含む洗浄用組成物、並びにトリグリセリド及び架橋トリグリセリド用の洗浄剤、配合物安定剤、超濃縮洗浄用配合物用の助剤、予洗染み抜き液、洗剤、農業用補助剤、硬表面洗浄及び乳化剤としてのそれらの使用を記載している。 (もっと読む)


1%水溶液で6〜11のpHを有する液体又はゲル形態の水性洗濯洗剤組成物であって、非石鹸アニオン性界面活性剤と、石鹸と、非イオン性界面活性剤と、約1000未満の分子量を有する布地柔軟化カチオン性補助界面活性剤と、少なくとも100,000の分子量を有する布地柔軟化四級化ポリマーと、非四級化非ポリアミン増粘剤と、香料マイクロカプセルと、を含有し、i)非イオン性界面活性剤のアニオン性界面活性剤に対する重量比が1を超え、かつアニオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、及び石鹸の合計の総重量百分率が組成物の10%〜30%である、及び/又はii)水性洗濯洗剤組成物が0.5%〜5%のヒドロトロープを更に含む、のうちの少なくとも1つに当てはまる、水性洗濯洗剤組成物が記載される。かかる組成物を用いる洗濯方法も記載される。 (もっと読む)


消費者製品にて使用する泡操作安定化組成物は、少なくとも1種の界面活性剤と組み合わされた複数の表面改質粒子を含む。粒子は、100nm超〜約50μm以下の平均粒径及び接触角測定で約20度〜140度の疎水性を有する。粒子対界面活性剤の比は、約1:20〜約20:1であってよい。表面改質は、pH又は温度で切り替わる官能基を粒子又は組成物(粒子上にコーティングされたポリマーなど)が含まれてもよい。リンス溶液中の泡の量を減らす方法もまた記載される。
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【課題】エアゾールの形態で使用される洗剤組成物であって、十分な洗浄力および発泡力を有し、さらにアフタードローを抑えたエアゾール用発泡性洗剤組成物の提供。
【課題の解決手段】(A)脂肪酸石鹸0.5〜5重量%、(B)界面活性剤0.5〜5重量%、(C)金属イオン封鎖剤0.5〜6重量%、(D)水溶性溶剤0.5〜20重量%、(E)消泡剤0.02〜0.2重量%、(F)イオン交換水を含有してなる洗浄液をエアゾール容器に82〜92容量%、噴射剤として20℃における圧力が0.23〜0.50MPaのLPGを8〜18容量%充填してなることを特徴とするアフタードローを抑えたエアゾール用発泡性洗剤組成物。 (もっと読む)


ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、又はポリブチレンオキシドと酢酸ビニルとの重量比約1:0.2〜約1:10のグラフトコポリマー、約0.2%〜約8%の有機溶媒、及び約2%〜約20%の界面活性剤系を含む洗濯洗剤組成物であって、前記洗剤組成物は、液体、ゲル、及びこれらの組み合わせから選択される形態である。 (もっと読む)


【課題】グリシン−N,N−誘導体I及びそのアルカリ金属−、アルカリ土類金属−、アンモニウム−及び置換したアンモニウム塩の製法の提供。
【解決手段】A)2−置換グリシン又は2−置換グリシンニトリル又は式;


の2倍体グリシン、又は式;


の2倍体グリシンニトリルをホルムアルデヒド及びシアン化水素又はアルカリ金属シアン化物と反応させるか、又はB)イミノ二酢酸又はイミノジアセトニトリルをモノアルデヒド又は式;OHC−A−CHOのジアルデヒド及びシアン化水素又はアルカリ金属シアン化物と反応させ、引き続き存在するニトリル基を加水分解しカルボキシル基にする。 (もっと読む)


【課題】発泡される際、フワフワと膨らんでおりかつ安定しているフォームを形成する、広く適用される発泡性アルコール組成物を提供する。
【解決手段】発泡性アルコール組成物は、アルコール組成物全体の質量基準で、約40%以上のアルコール、及びジェミニ界面活性剤、硫酸エステル、ジエステル、C10-34脂肪アルコール、ポリクオタニウムポリマー、及びその組み合わせから選ばれる発泡界面活性剤を包含する。 (もっと読む)


【課題】半導体デバイス製造工程における平坦化研磨工程後の洗浄工程に用いられる洗浄剤であって、半導体デバイス表面、特に、表面に銅配線が施された半導体デバイスの表面に存在する不純物を、銅配線の腐蝕や酸化、或いは、平坦化されたデバイスの表面性状の悪化を引き起こすことなく、有効に除去することができる洗浄剤を提供する。
【解決手段】半導体デバイス製造工程における化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄剤であって、(A)ポリカルボン酸、(B)アニオン性界面活性剤、及び、(C)テトラゾール誘導体を含み、pHが1〜5であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】水系条件下でも、有機過酸を長期に渡って安定に保存でき、使用時に高い漂白性能を発現する透明又は半透明の水系洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(a)炭素数5〜16の有機過酸、(b)所定量の界面活性剤、及び(c)水を含有し、20℃におけるpHが1.5〜6.0である透明又は半透明の液体洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】洗浄除去性、保管性、および加工基材への非侵食性が優れ、経済的な濃縮型の接着剤用洗浄剤を提供すること。
【解決手段】少なくともアルカリ金属水酸化物とアルカリ金属リン酸塩を含有するアルカリ剤(a)と、少なくとも非イオン界面活性剤を含有する界面活性剤(b)とを、親水性有機溶媒と水とからなる水性媒体(c)中に含有してなり、曇点が25℃を超えることを特徴とする接着剤用洗浄剤。 (もっと読む)


【課題】 煩雑なプレコンディショニング作業や電気ポシッシャーによる洗浄作業、およびエクストラクションマシンによる洗浄、すすぎ作業等を行わなくても、汚れを取り除くことができる簡便なカーペット用洗浄剤組成物およびそれを用いたカーペットの維持管理方法の提供。
【解決手段】 (A)平均分子量(Mw)が2,000〜30,000でガラス転移点(Tg)が50〜150℃であるアルカリ可溶性樹脂0.1〜20質量%、(B)コロイダルシリカを固形分として0.01〜10質量%、(C)界面活性剤0.1〜10質量%、および(D)水を含有し、JIS Z−8802:1984「pH測定方法」におけるpHが6〜9であることを特徴とするカーペット用洗浄剤組成物。また、これを用いたカーペットの維持管理方法。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、簡易にかつ安全に、更に自動現像機内のパーツを損傷することなく、自動現像機の現像槽の付着物を除去することのできる洗浄液を提供することにある。
【解決手段】エチレン性不飽和化合物と光重合開始剤として少なくとも有機ホウ素塩および前記有機ホウ素塩を380nm〜1300nmの波長領域に増感させる増感色素を含有する光重合系平版印刷版用の自動現像機の現像槽の洗浄液であって、該洗浄液にアルカノールアミンを0.4モル/L以上6モル/L以下含有することを特徴とする自動現像機の現像槽の洗浄液。 (もっと読む)


【課題】金属配線および低誘電率絶縁膜を有する半導体基板を化学機械研磨した後にその基板表面の汚染を除去する際、金属配線を腐食させず、かつ低誘電率絶縁膜の電気特性を低下させず、また低誘電率絶縁膜に機械的損傷を与えることなく、金属配線上および低誘電率絶縁膜上の残存砥粒、残存研磨くず、金属イオン等の不純物の除去能力が高い洗浄用組成物、これを用いた半導体基板の洗浄方法、およびこの洗浄方法を含む半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の洗浄用組成物は、化学機械研磨後に使用され、架橋構造を有し、平均分散粒径が10nm以上100nm未満である有機重合体粒子(A)および錯化剤(B)を含有することを特徴とする。 (もっと読む)


綿からなるかまたは綿を含んでなる布地を洗濯する際に、洗濯洗剤の洗浄効果を改善する。これは、実質上、無水グリコースモノマー単位あたり平均して0.4〜2.7個のアルキル基および0.001〜0.3個のカルボキシアルキル基を含んでなるセルロース誘導体を配合することにより達成された。 (もっと読む)


【課題】グリース除去性能利益を示す液体組成物をグリースに接触させることによって、機械作用を用いずに硬質面をクリーニングする方法を提供すること。
【解決手段】(i)0.005重量%〜20重量%のポリマー、及び(ii)0.005重量%〜20重量%の硫酸化またはスルホン化陰イオン界面活性剤と、0.005重量%〜30重量%の、アミンオキシド界面活性剤、ベタイン界面活性剤、スルホベタイン界面活性剤及びそれらの混合物から成る群から選択される補助界面活性剤と、0.005重量%〜30重量%のアルコキシル化非イオン界面活性剤とを含む界面活性剤系を含む酸性液体組成物を、傾斜しているか又は垂直である硬質面に噴霧する工程を含み、傾斜しているか又は垂直である前記硬質面に機械的作用を加えない硬質面クリーニング方法である。 (もっと読む)


本発明は、アリールスルホネート基、スペーサーおよび基Yを含み、ここでYが、CF−(CH−O−、SF−、CF−(CH−S−、CFCFS−、[CF−(CHN−もしくは[CF−(CH]NH−(式中、aは0〜5の範囲から選択される整数を表す)、または式(I)(式中RfがCF−(CH−、CF−(CH−O−、CF-(CH−S−、CFCF−S−、SF−(CH−もしくは[CF−(CHN−、[CF−(CH]NH−もしくは(CFN−(CH−を表し、Bが単結合、O、NH、NR、CH、C(O)−O、C(O)、S、CH−O、O−C(O)、N−C(O)、C(O)−N、O−C(O)−N、N−C(O)−N、O−SOもしくはSO−Oを表し、Rが1〜4個のC原子を有するアルキルを表し、bが0もしくは1を表し、cが0もしくは1を表し、qが0もしくは1を表し、ここでbおよびqからの少なくとも1つのラジカルが1を表し、rが0、1、2、3、4もしくは5を表す)を表す化合物、これらの化合物の製造方法、ならびにこれらの界面活性化合物の使用に関する。


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【課題】 実質的にアルカリ金属原子を含有せず、洗浄時において微細化したパーティクルの再付着防止性に優れ、効率的な高度洗浄を可能にするエレクトロニクス材料用洗浄剤を提供することにある。
【解決手段】 有機酸(A)の第4級アンモニウム塩(B)を含有してなるエレクトロニクス材料用洗浄剤であって、アルカリ金属原子およびアルカリ土類金属原子の合計含有量が洗浄剤の重量に基づいて0.01重量%以下あり、第4級アンモニウム塩(B)が、pKaが11〜40の第3級アミン(C)と炭酸ジメチルとの反応で得られた第4級アンモニウム炭酸塩と、有機酸(A)とのアニオン交換反応によって得られた第4級アンモニウム塩であることが好ましい。また、第4級アンモニウム塩(B)の重量平均分子量は1,000〜1,000,000であることが好ましい。 (もっと読む)


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