【課題】基板からフォトレジスト及びエッチング残渣を選択的に除去できる組成物であって、上記組成物に対して同様に露出している可能性のある金属に破壊的化学作用を及ぼさない組成物を提供することを課題とする、また、極微量の酸化シリコンを呈し、一般的に絶縁体に対するエッチング速度の低い組成物を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、フォトレジスト及びエッチング残渣を除去するのに適切な組成物であって、ａ）少なくとも約５０重量％の、テトラフルフリルアルコール、ジアセトンアルコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール及びアルキレングリコールエーテルからなる群より選択される溶媒；ｂ）約０．００５〜約０．８重量％のフッ素ソース；ｃ）上限約４９．９重量％の水；及び、ｄ）上限約２０重量％の腐食抑制剤を含むことを特徴とする組成物を含む。また、本発明は、基板からフォトレジスト及び／又はエッチング残渣を除去する方法であって、上記の組成物と基板を接触させることを含むことを特徴とする方法にも関する。 （もっと読む）

【課題】本発明は糠の除去ができる洗浄剤と黄変がなく、ふっくら美味しい米飯を得る洗浄剤と濯ぎ剤に関する組成物および方法を提供することを課題とする。更には、上記組成物及び方法によって得られる米飯、焼飯等食品の提供を課題とする。
【解決手段】米糠を洗浄する洗浄工程と、黄変を脱色する二工程からなる洗米方法を発見し発明を完成した。生物由来焼成カルシウムを洗浄剤組成物に特定し、黄変防止剤として広く使用される亜硫酸ナトリウムなど化学物質を一切使用することなく、食品または食品添加物からなる任意の酸性物質を適用し、不快臭／不快味／黄変のないふっくらと美味しい米飯焼飯食品を提供する。 （もっと読む）

【課題】ゲート絶縁膜や基板などの損傷を抑制ないし防止し、半導体基板表面に付着した不純物、特に、イオン注入されたレジストなどの付着物を効率よく剥離でき、安全性に優れた多剤型半導体基板用洗浄剤、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板の洗浄時に少なくとも発泡剤と発泡助剤とを混合して使用する多剤型洗浄剤であって、前記発泡剤が炭酸アルキレンと炭酸塩とを含有し、前記発泡助剤が酸性化合物を含有し、さらに酸化剤を組み合わせて用いる半導体基板用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】界面活性剤を全く含まず、アルカリ源として石灰を使用していない組成物であって、洗浄力に優れ、周辺環境への影響も少ない洗濯槽クリーナー組成物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】界面活性剤やアルカリビルダーを用いない、特定成分でコーティングした過炭酸ナトリウム粉粒体と、貝殻焼成カルシウムを含む無機粉体及び水溶性バインダーを含む無機粉粒体との混合物組成物が、貝殻焼成カルシウムの汚れに対する研磨、剥離作用とアルカリ度の適正な維持作用によって洗濯槽の洗浄能力を高め、また周辺環境への影響も改善できる。 （もっと読む）

本発明は、消費者製品組成物で使用するのに適しているジアミドゲル化剤に関する。
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【課題】露光下での漂白剤組成物の安定性を改善し、容器の膨れや凹みを引き起こすことの無い、透明又は半透明の容器入り液体漂白剤物品を提供する。
【解決手段】（ａ）過酸化水素、（ｂ）特定の非イオン界面活性剤、（ｃ）ホスホン酸系金属イオン封鎖剤、（ｄ）特定のフェノール系ラジカルトラップ剤及び（ｅ）水を含有し、（ａ）と（ｂ）の質量比（ｂ）／（ａ）が１〜１００、（ａ）と（ｄ）の質量比（ｄ）／（ａ）が０．００２〜１、２０℃におけるｐＨ（ＪＩＳ Ｋ ３３６２：１９９８記載）が２〜７である液体漂白剤組成物を、透明又は半透明の材料からなる前記組成物の収容部を有するボトル型容器に充填してなる、容器入り液体漂白剤物品。 （もっと読む）

例えば、消毒剤および／または漂白用途での使用に好適なペルオキシカルボン酸の水溶液を酵素的に生成するための多成分調合物が本明細書に開示される。多成分ペルオキシカルボン酸調合物は、過加水分解活性を有する少なくとも１つの炭水化物エステラーゼ族７酵素を含む。 （もっと読む）

【課題】例えば、ニッケルを含むめっき処理が施された青銅、黄銅等の銅合金製の水道用バルブ、給水給湯用バルブ、管継手、ストレーナ、水栓金具、ポンプ用品、水道メーター、浄水器、給水給湯器、或いはその他の接液器材において、水道水などの流体が接液しても、ニッケルが溶出することのない銅合金製接液器材のニッケル溶出防止方法及びニッケル溶出防止用保護膜形成剤並びにニッケル溶出防止用洗浄剤を提供すること。
【解決手段】銅合金製接液器材にニッケルを含むめっき処理を施したニッケルの溶出防止方法において、接液器材の少なくとも接液面に、ワックスを含有する保護膜形成成分とこの保護膜形成成分を水に溶解させる溶剤成分を含んで成る保護膜形成剤を施して保護膜を形成し、この保護膜により、ニッケルの溶出を抑制するようにした銅合金製接液器材のニッケル溶出防止方法である。 （もっと読む）

封入体、組成物、パッケージ化製品及びこのような封入体を含むディスプレイ、並びに、このような封入体、組成物、パッケージ化製品及びディスプレイの製造及び使用プロセス。このような組成物は、組成物及び／又は部位に、向上した有益特性を付与できる向上した付着及び保持特性を有している。 （もっと読む）

【課題】ステンレス製の加熱殺菌装置等の鉄系装置或いは鉄系の部材に生成した除去困難な錆びを容易に洗浄除去することが可能な洗浄方法を提供する。
【解決手段】シュウ酸とシュウ酸アルカリ金属塩もしくはシュウ酸アンモニウムとを含み且つｐＨが１乃至４の範囲に調整された混合水溶液を用いて、鉄系装置乃至鉄系装置部材の洗浄を行なう。 （もっと読む）

【課題】衣料の材質や汚れの範囲に使用が制限されることなく、漂白、除菌、消臭性能に優れた液体漂白剤組成物、並びにその使用方法を提供する。
【解決手段】（ａ）過酸化水素、及び（ｂ）一般式（１）で表される特定の漂白活性化剤を含むＡ剤と、（ｃ）緩衝作用を有する化合物を含むＢ剤とを、それぞれ分離して保持する容器に充填してなり、Ａ剤とＢ剤とを（ｃ）成分が０．５〜４０重量％の含有量となるように混合して用いられる２剤型液体漂白剤であって、Ａ剤とＢ剤とを（ｃ）成分が０．５〜４０重量％の含有量となるように混合した組成物１０ｍｌを２０℃のイオン交換水１Ｌに溶解した溶液が特定の（Ｉ）〜（IV）を満たす２剤型液体漂白剤。 （もっと読む）

【課題】洗濯後にも長期にわたって抗菌作用を保持する洗剤組成物の提供。
【解決手段】SiO₂、B₂O₃、Na₂Oなどの金属酸化物にＡｇイオンを抗菌性成分としてAg₂Oの形態で含む水溶性ガラス微粉末とした抗菌性洗剤組成物。
洗剤にこれらの微粉末の形態の抗菌性組成物を添加して洗濯を行なうことにより、水溶性ガラス微粒子は、洗濯中にすべて溶解することなく衣類繊維中に付着して残留し、洗濯後において乾燥条件下ではその形態で長期間抗菌性を維持し、着用時などの水分の存在する条件下でその水溶性により徐々に溶解して微量Ａｇイオンを放出して抗菌性を発揮する。 （もっと読む）

【課題】無機酸でpHを１以下に調整した酸性硬質表面用洗浄剤であって、香りが経時的に安定な洗浄剤を提供する。
【解決手段】特定の香料化合物群から選ばれる１種以上の香料化合物を含む香料組成物、無機酸、並びに水を含有し、20℃におけるpHが１以下である硬質表面用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】牛のひづめの洗浄と消毒効果が同時に得られるようにし、牛のひづめの汚染部位が清潔に洗浄された状態で消毒されるようにすることによって、牛のひづめ障害の予防を通じて、産乳量及び繁殖率などの生産性の低下を未然に防止し、かつ、淘汰のような極端な状況を避けることができる他、牛の健康と快適性の向上にも大きく寄与することができる牛のひづめ障害予防用の洗足剤及びその使用方法とその製造方法を提供する。
【解決手段】牛のひづめ障害予防用の洗足剤を、牛ひづめについている異物を牛のひづめから除去するためにスズ酸とクエン酸と硫酸亜鉛とモリブデン酸ソーダと硝酸カリウムの各固形分の混合物に水を混合して用意する洗浄液と、異物の除去された牛のひづめを殺菌するための次亜塩素酸ソーダとを混合して製造する。 （もっと読む）

【課題】 ゲル状の油性成分を皮膚等に塗布し、マッサージした時の伸びが非常に軽く、経時的な安定性にも優れた、使用感のよい透明〜半透明のゲル組成物、及びその調製方法を提供すること。
【解決手段】 長鎖疎水基と親水基とを分子内に２個以上ずつ有する多鎖多親水基型化合物を１種または２種以上、分子内に水酸基を２個以上有するポリヒドロキシル化合物の１種または２種以上、および油性成分の１種または２種以上を含有することを特徴とするゲル組成物であって、この中に含まれる多鎖多親水基型界面活性剤の酸価に対する中和度が０．１以上〜０．９未満であることを特徴とするゲル組成物、及び有機酸、無機酸、有機塩基、無機塩基よりなる群から選ばれる少なくとも１種の中和度調整剤を混合し、多鎖多親水基型化合物の酸価に対する中和度を０．１以上〜０．９未満に調整することを特徴とするゲル組成物の調製方法。 （もっと読む）

【課題】シリコーン処理具上のシリコーンおよびその混合物に対して優れた溶解性、除去性を示し、特に今まで律速となっていたすすぎ性を大きく改善でき、しかも環境への負荷を低減でき、安全性の高いシリコーン処理具用洗浄剤組成物ならびに該洗浄剤組成物を用いるシリコーン処理具の洗浄方法を提供すること。
【解決手段】アルキルグリコシド、グリセリルエーテル、炭化水素および水を含有するシリコーン処理具用洗浄剤組成物、ならびに該洗浄剤組成物を用いてシリコーン処理具を洗浄する方法。 （もっと読む）

コンタクトレンズを取り扱うためのキチン誘導体を含有する組成物の使用が記載されている。該組成物はコンタクトレンズからタンパク付着物を除去するのに特に有効であるが、レンズの表面を潤滑にさせるのに且つ装用したときのレンズの快適性を向上させるのにも役立つ。キチン誘導体は好ましくは非イオン性（たとえば、エチレングリコールキチン）であり、そしてコンタクトレンズからのタンパク付着物の除去を、それら付着物の中に含有されているリゾチームのための基質として機能することによって、促進する。 （もっと読む）

本出願は、ａ）０．０１〜７０重量％の少なくとも１つの水溶性金属塩；ｂ）０．０１〜２５重量％の酸；ｃ）０．０１〜６０重量％の非イオン性界面活性剤；ｄ）分散剤ポリマー及び／又は香料のうちの少なくとも１つを含むすすぎ補助組成物であって；前記すすぎ補助組成物が、水溶液中において１０％の濃度であると測定されたとき、５未満のｐＨを有する、すすぎ補助組成物を開示する。 （もっと読む）

本発明は、改良された洗浄性能を提供するエンド-グルカナーゼを含んでなる洗剤組成物に関する。本発明は、また、エンド-グルカナーゼと他の酵素との組み合わせを含んでなる洗剤組成物に関する。本発明の1つの面は、エンド-グルカナーゼ洗剤で布帛または硬質表面を洗浄する方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 シリコン基板およびガラス基板をエッチングせずに、アルミナ粒子、シリカ粒子又は窒化ケイ素粒子からなる粒子の除去能力が高く、金属汚染についても除去することができる洗浄液を開発する。
【解決手段】 １分子中にスルホン酸基を少なくとも２以上有する化合物、フィチン酸および縮合リン酸化合物からなる群から選択される１種または２種以上と、無機酸と、水とを含有してなる、半導体基板浄液組成物。
スルホン酸基を有する高分子化合物、フィチン酸および縮合リン酸化合物からなる群から選択される１種または２種以上と、無機酸と、水とを含有してなる半導体基板浄液組成物で半導体基板を洗浄する第一の工程と、第一の工程に引き続いて、純水あるいはオゾンガスを溶解したオゾン水または過酸化水素水にて、当該半導体基板を洗浄する第二の工程とからなる、半導体基板の洗浄方法。 （もっと読む）