【課題】殺菌性を有する、安価で量産可能な界面活性剤組成物を実現する。
【解決手段】界面活性剤組成物は、陽イオン界面活性剤と、解離により陽イオン界面活性剤に対して対イオンとなる陰イオンを生成可能な、イオン性界面活性剤とは異なる塩とを含むものであり、通常、水溶液状で用いられる。ここで用いられる陽イオン界面活性剤は、例えば、脂肪族アミン塩、脂肪族四級アンモニウム塩、芳香族四級アンモニウム塩および複素環四級アンモニウム塩のうちの少なくとも一つである。また、ここで用いられる塩は、例えば、陰イオンとして塩素イオン、硫酸イオン、硝酸イオン、リン酸水素イオン、炭酸イオン、炭酸水素イオン、ギ酸イオンおよび酢酸イオンのうちの一つを生成可能な塩の群から選択された少なくとも一つのものである。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、高濃度酸などによる過酷な酸洗条件下であっても、鉄鋼に対しては勿論、その他の金属に対しても極めて高い腐食抑制効果を示す酸洗浄用腐食抑制剤組成物、当該組成物を含む金属腐食抑制性酸洗浄液、および当該酸洗浄液を用いる金属の洗浄方法を提供することにある。
【解決手段】本発明に係る金属腐食抑制剤組成物は、ロジンアミン、および、無機リン酸塩または有機ホスホン酸塩の少なくとも１種を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高い温度安定性を示し、使用時に良好な泡立ち感および洗浄後に良好な肌状態を与える半固体状洗浄剤を提供すること。
【解決手段】（Ａ）Ｎ−アシルグリシン塩、（Ｂ）２０℃で液体の高級アルコール、（Ｃ）グリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステルおよびポリオキシエチレンアルキルエーテルからなる群より選ばれた少なくとも１種の非イオン界面活性剤ならびに（Ｄ）（アルキル変性）カルボキシビニルポリマーを含有してなる半固体状洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】ゲート絶縁膜や基板などの損傷を抑制ないし防止し、半導体基板表面に付着した不純物、特に、イオン注入されたレジストなどの付着物を効率よく剥離でき、安全性に優れた多剤型半導体基板用洗浄剤、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板の洗浄時に少なくとも発泡剤と発泡助剤とを混合して使用する多剤型洗浄剤であって、前記発泡剤が炭酸アルキレンと炭酸塩とを含有し、前記発泡助剤が酸性化合物を含有し、さらに酸化剤を組み合わせて用いる半導体基板用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】実質的に中性に調整されたヒドロキシルアミン化合物を含有する洗浄組成物に特有の課題を解決し、半導体基板の金属層、特に窒化チタンの腐食を防止し、しかもその製造工程で生じるプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去することができる洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】水と、洗浄剤と、塩基性有機化合物と、酸性有機化合物と、特定の含窒素非芳香族環状化合物とを含有し、実質的に中性に調整された半導体基板用洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】実質的に中性に調整された特定の洗浄剤を含有する洗浄組成物に特有の課題を解決し、半導体基板の金属層、特に窒化チタンの腐食を防止し、しかもその製造工程で生じるプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去することができる洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】水と、洗浄剤と、塩基性有機化合物と、酸性有機化合物と、特定の含窒素芳香族環状化合物とを含有させ、実質的に中性に調整された、半導体用基板用の洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】本発明の解決すべき課題は、均一な気泡混入量の枠練り石鹸及びその製造方法を提供することにある。
【解決手段】 ナトリウムを必須とし有機アミンおよびカリウムを任意とする対イオンで調製された脂肪酸塩ないしアシルグルタミン酸塩を含む高温石鹸液を筒状冷却枠で冷却・固化して製造される、平均粒径１００μm以下の気泡が１０容量％以上均一に混入された枠練り石鹸。 （もっと読む）

【課題】セリア、シリカ微粒子を容易に洗浄除去できる洗浄剤及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】一般式(I)及び(II)
【化１】


（式中、R^１は炭素数６〜１６のアルキル基であり、R^２、R^３は同一又は異なって炭素数１〜４のアルキル基もしくは、炭素数1〜４のヒドロキシアルキル基である。R^４は炭素数１〜６のアルキル基、R^５はエチレン基またはプロピレン基、nは１〜３の整数である。）で表される化合物群から選択される少なくとも１種の化合物、有機酸および水を含む洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】配線構造や層間絶縁構造を損傷することなく、半導体基板上のプラズマエッチング残渣を十分に除去しうる洗浄組成物、及び前記洗浄組成物を用いた半導体装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】（成分ａ）水、（成分ｂ）ヒドロキシルアミン及び／又はその塩、（成分ｃ）塩基性化合物、（成分ｄ）有機酸、並びに、０．１重量％以上、０．５重量％未満の（成分ｅ）無機酸及び／又はその塩、を含み、ｐＨが６〜８であることを特徴とする、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣除去用の洗浄組成物、並びに、前記洗浄組成物により、半導体基板上に形成されたプラズマエッチング残渣を洗浄する工程を含む、半導体装置の製造方法。 （もっと読む）

便器表面を洗浄するための水性洗浄用組成物及び方法であって、洗浄用組成物は４未満のｐＨを有し、少なくとも１００センチポアズの粘度を有するように、塩酸のような１つの酸及び少なくとも１つの抗菌活性ジアミン界面活性剤を含む。 （もっと読む）

【課題】オゾン曝気を利用して被処理物を高い殺菌力で殺菌洗浄でき、かつ野菜などの生鮮野菜を殺菌洗浄しても処理後の食品の味や鮮度の低下を抑制できる、低コストなオゾン殺菌用の殺菌助剤、及び該殺菌助剤を用いたオゾン殺菌洗浄方法の提供を目的とする。
【解決手段】成分（Ａ）１０ｍｇ／Ｌ以上１００ｍｇ／Ｌ以下のモノカプリリン、及び成分（Ｂ）水溶性の酸を含み、ｐＨが３．０〜５．０である殺菌助剤。また該殺菌助剤中に被処理物を浸漬し、該被処理物が浸漬された殺菌助剤中にオゾン曝気する工程を有するオゾン殺菌洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】洗浄力に優れ洗浄作業の際に水素ガスの発生がなく、洗浄廃液の処理も容易で作業性に優れ、ＧＬ熱交換器の内壁の構成素材を損傷せず、ガラス層の剥離もなく、付着したスケールの除去作業能力に優れ、さらに防食性にも優れるGL熱交換器用洗浄液及び、付着したスケールの除去作業能力に優れ、GL熱交換器を含むプラントを休止してスケール除去する回数を減らすことができるGL熱交換器の洗浄方法を提供する。
【解決手段】リン酸８０ｇ／Ｌ〜７００ｇ／Ｌと非イオン性界面活性剤０．５ｇ／Ｌ〜１００ｇ／Ｌとを含むことと、ｐH０．５〜３．０であることと、を備える。 （もっと読む）

制御雰囲気鑞付けアルミニウム熱交換器を含む自動車冷却系の急速洗浄および保護のための方法および処理システムを開示する。該方法および処理システムは、任意にコンディショニング（不動態化）段階を含みうる。該処理システムは３つの異なる部分からなりうる。それは、（１）洗浄剤または洗浄液、（２）コンディショナーまたはコンディショナー溶液、および（３）相溶性ＣＡＢアルミニウム保護熱媒液である。
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【課題】職人が巧みに作ったような外見を有する、多相の身体洗浄用棒状体を提供する。
【解決手段】このような棒状体において、不連続相の硬度は、連続相の硬度の２倍超である。高処理能力押出し方法によるこれらの製造方法（例えば少なくとも約２００バール／分、好ましくは３００バール／分を超える）であって、これらの棒状体は、クレンジングベースを含有する連続相中に分散された、その最大寸法約３から約７５ｍｍを有する不連続相を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】 フラットパネルディスプレイ基板及びフォトマスク基板等の電子材料基板の表面の平坦性を損ねることなく適度なエッチング性を付与し、また界面活性剤を用いて基板表面から脱離したパーティクルの分散性を高めることで、優れたパーティクルの除去性を実現し、これにより、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にするフラットパネルディスプレイ基板及びフォトマスク基板等の電子材料用洗浄剤を提供する。
【解決手段】 界面活性剤（Ａ）を含有してなる電子材料用洗浄剤であって、有効成分濃度０．０１〜１５重量％における２５℃でのｐＨ及び酸化還元電位（Ｖ）［単位はｍＶ、ｖｓＳＨＥ］が下記数式（１）を満たすことを特徴とする電子材料用洗浄剤。
Ｖ ≦ −３８．７×ｐＨ＋５５０ （１） （もっと読む）

例えば、消毒剤および／または漂白用途での使用に好適なペルオキシカルボン酸の水溶液を酵素的に生成するための多成分調合物が本明細書に開示される。多成分ペルオキシカルボン酸調合物は、過加水分解活性を有する少なくとも１つの炭水化物エステラーゼ族７酵素を含む。 （もっと読む）

例えば、消毒剤および／または漂白用途での使用に好適なペルオキシカルボン酸の水性調合物を酵素的に生成するための多成分ペルオキシカルボン酸発生システムが本明細書に開示される。多成分ペルオキシカルボン酸発生システムは、過加水分解活性を有する少なくとも１つの炭水化物エステラーゼ族７酵素を含む。 （もっと読む）

【課題】ｐＨ５以下の酸性領域で使用することができるアルミニウム系金属の変色防止処理法を提供する。
【解決手段】アルミニウム系金属の変色防止処理法は、２５℃のｐＨが５以下の酸性環境において、配合量が、０．０５質量％以上、好ましくは０．０５〜１０質量％、更に好ましくは０．０５〜５質量％の範囲内であり、炭素数１〜３０の範囲内にあり、１個以上のカルボキシル基と、１個以上のヒドロキシル基を有するヒドロキシカルボン酸化合物で、アルミニウム系金属を処理する。 （もっと読む）

【課題】除菌性能と硬質表面に対する優れた洗浄力を有し、更に、使用時に即座に微生物の存在を判断できる硬質表面用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）過酸化水素、（ｂ）リン酸、ホスホン酸類及び分子中にカルボキシル基を２〜５個有する有機カルボン酸から選ばれる少なくとも１種の酸剤、（ｃ）アミンオキシド及び非イオン界面活性剤から選ばれる少なくとも１種の界面活性剤を、それぞれ特定範囲の比率で含有し、２５℃におけるｐＨが２〜５である硬質表面用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】剥離溶液の酸濃度および極性に応じて異なる色を呈し得る着色指示薬であって、その色の変化がｐＨ０〜３の範囲、とりわけ０〜２の範囲、有利には０〜１の範囲において観察されるものとを含んでなる、液体剥離剤を提供する。
【解決手段】１種以上の強酸と、特に測定不能なｐＨ（すなわち１未満）で視覚的な用量指示薬を含んでなる強酸系剥離剤であって、該指示薬が水洗検査として、すなわち中性化検査としての機能も果たす剥離剤。 （もっと読む）