【課題】高い洗浄力を得るためには、実用液のアルカリ度を上げる必要があり、そのためには実用液以上に液体洗浄剤組成物のｐＨを上げる必要がある。そのため、ｐＨ上昇に影響を受けやすい酵素、消毒剤、界面活性剤、キレート剤、色素、香料の有効成分の安定性が保存中に失われ、高い洗浄力と有効成分による性能を液体洗浄剤組成物中で両立させることは困難であった。
【解決手段】（ａ）アルカリ剤と（ｂ）カルボキシル基とアミノ基を１：１で持つ化合物を併用することで、アルカリ度を下げずに原液ｐＨを下げられることを見出し、高い洗浄力を持ちつつ、アルカリ性環境下で失活しやすい酵素、および変性しやすい消毒剤、界面活性剤、キレート剤、色素、香料の有効成分を安定的に配合できる液体洗浄剤組成物を開発することができた。 （もっと読む）

【課題】高濃度の界面活性剤を含有する濃縮タイプの組成において、被洗物への除菌性付与効果と外観安定性のいずれも優れた液体洗浄剤を提供すること。
【解決手段】非イオン界面活性剤（Ａ）と、一般式（ｂ１）で表される化合物（Ｂ）と、酵素（Ｃ）と、水（Ｄ）５０質量％以下と、を含有することを特徴とする液体洗浄剤。式（ｂ１）中、ｎは２〜６の整数である。Ｒ^１は炭素数８〜１８のアルキル基であり、Ｒ^２は水素原子、炭素数８〜１８のアルキル基、又は（ＣＨ_２）_ｍＮＨ_２である。ｍは２〜６の整数である。
［化１］
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【課題】有機物を含む硬度塩（尿石）の除去効果に優れる中性洗浄剤を提供する
【解決手段】ポリエチレンイミン、キレート剤及び界面活性剤を含有することを特徴とする液状洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】広範囲な環境でバイオフィルムを効率的に除去する方法および液状バイオフィルム除去剤組成物を提供する
【解決手段】ポリエチレンイミンをバイオフィルムに接触させることを特徴とするバイオフィルム除去方法およびポリエチレンイミンを含有することを特徴とする液状バイオフィルム除去剤組成物。 （もっと読む）

【課題】弱酸性乃至中性領域で大腸菌及び黄色ブドウ球菌に対する殺菌力に優れ、更に泡立ち、泡のクリーミー性、及びすすぎ性に優れ、皮膚刺激性の少ない液体洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸カリウム６質量％〜２０質量％、（Ｂ）ノニオン性殺菌剤、及び（Ｃ）キレート剤のカリウム塩を含有し、前記（Ａ）成分の含有量と、前記（Ｃ）成分の含有量との質量比（Ａ／Ｃ）が、３〜２００である液体洗浄剤組成物である。２５℃でのｐＨが４〜７である態様、更に（Ｄ）多価アルコールを含有する態様、などが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、金属層表面の微小な凹みの少ない銅被覆ポリイミドフィルム基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 ポリイミドフィルムの表面に乾式めっき法により形成した１次金属層上に湿式めっき法で銅層を積層した銅被覆ポリイミドフィルム基板の製造方法において、湿式めっき法を用いて銅層を積層する前に、ポリイミドフィルム或いは乾式めっき法により形成された１次金属層を有するポリイミドフィルムを、グリコール酸および硫酸を含有する水溶液中に浸漬する浸漬処理を施すことを特徴とする銅被覆ポリイミドフィルムの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】金属部材表面に付着したシリカ及びシランカップリング剤等を除去することが可能な金属部材の洗浄方法を提供する。
【解決手段】塩化水素とフッ化アンモニウムと水とを含む洗浄剤によって金属部材の表面を洗浄する工程を含む金属部材の洗浄方法である。 （もっと読む）

【課題】食品で、特に酪農製品で汚れたポリオレフィン系材料の表面を洗浄する方法に関する。より詳細には、食品で、特に酪農製品で汚れた１種または複数のハロゲン化または非ハロゲン化ポリオレフィンをベースとする材料を洗浄する方法であり、特に、環境に対してだけでなく、汚れたポリオレフィン系材料に対しても損耗および断裂を最小にして安全である方法を提供する。
【解決手段】汚れた材料を１から４個の間の炭素原子を有するアルカンスルホン酸をベースとする水性組成物と接触する。 （もっと読む）

【課題】人体や環境への影響が小さくしつつも、有機酸を高濃度に溶解でき、且つ、さびとの反応速度が速いさび除去剤水溶液を提供する。
【解決手段】水溶液全体を基準（１００重量％）として、有機酸（Ａ）を０．５重量％以上２５重量％以下含有し、有機酸（Ａ）に対する中和率が１００％以上１５０％以下となるようにアミンを含有し、さらに、アミンに対する中和率が８０％以上となるように有機酸（Ｂ）及び／又は無機酸を含有し、有機酸（Ａ）が、蓚酸、スルファミン酸、グリシン、マロン酸、コハク酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、グルコン酸、グリコール酸及びグリオキシル酸のうちの少なくとも１種であり、有機酸（Ｂ）が、酢酸、ギ酸、プロピオン酸、ブチル酸及びメタンスルホン酸のうちの少なくとも１種であり、無機酸が、塩酸、硝酸、硫酸及び燐酸のうちの少なくとも１種である、さび除去剤水溶液とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、高濃度酸などによる過酷な酸洗条件下であっても、鉄鋼に対しては勿論、その他の金属に対しても極めて高い腐食抑制効果を示す酸洗浄用腐食抑制剤組成物、当該組成物を含む金属腐食抑制性酸洗浄液、および当該酸洗浄液を用いる金属の洗浄方法を提供することにある。
【解決手段】本発明に係る金属腐食抑制剤組成物は、ロジンアミン、および、無機リン酸塩または有機ホスホン酸塩の少なくとも１種を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】茶渋汚れ、油汚れ、ガラス製食器の仕上がり性、魚臭のマスキング効果に優れ、さらに高温保存時の安定性に優れる自動食器洗い乾燥機用液体洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】非架橋型高分子ポリカルボン酸（塩）、下記一般式で示される化合物群から選択される少なくとも１種の化合物、特定ノニオン界面活性剤、及びＣｌｏｇＰが２．５〜６の香料成分を７０％以上含む香料組成物を含有する自動食器洗い乾燥機用液体洗浄剤組成物。
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【課題】皮脂汚れ等の有機化合物からなる汚れ、及びそのような汚れが複合化している汚れに対して、さらに優れた洗浄力を有する硬質表面用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）下記一般式（１）で表される非イオン界面活性剤、（ｂ）下記一般式（２）で表される非イオン界面活性剤、（ｃ）無機酸、及び水を、特定条件で配合する硬質表面用洗浄剤組成物。
Ｒ¹−Ｏ−〔（ＰＯ）_m／（ＥＯ）_n〕−Ｈ （１）
〔式中、Ｒ¹は炭素数８〜２２の炭化水素基、ＰＯはプロピレンオキシ基、ＥＯはエチレンオキシ基、ｍはＰＯ又はＥＯの平均付加モル数を示し、０．１〜２０、ｎは０．１〜４０の数である。〕
Ｒ²−Ｏ（Ｃ₂Ｈ₄Ｏ）_p−Ｈ （２）
〔式中、Ｒ²は炭素数８〜２２の炭化水素基、ｐは平均付加モル数を示し、０．１〜２０の数である。〕 （もっと読む）

【課題】製造時又は使用時の環境負荷を低減することができる、高嵩密度洗剤組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】工程（Ａ）：陰イオン界面活性剤の酸前駆体と該酸前駆体を中和するのに必要な量以上の水溶性アルカリ無機物質とを、混合して該酸前駆体を中和する工程、及び工程（Ｂ）：工程（Ａ）で得られた中和混合物に、平均粒径１２５〜３００μｍの水溶性無機物質を中和混合物１００質量部に対して１００〜３００質量部を添加して混合する工程、を含んでなる、高嵩密度洗剤組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】人体への影響が小さく、環境負荷が小さく、且つ、さびとの反応速度が速いさび除去剤水溶液を提供する。
【解決手段】水溶液全体を基準（１００重量％）として、有機酸を０．３重量％以上５０重量％以下含有し、塩化第一鉄を０．０１重量％以上３０重量％以下含有するさび除去剤水溶液とする。 （もっと読む）

【課題】酸素遮断性保護層、とりわけ無機微粒子を含む酸素遮断性保護層が設けられた光重合型平版印刷版原版から製版して得られた平版印刷版において、ブラインディングを発生させずに、良好に版面処理することができる版面洗浄剤を提供する。
【解決手段】酸素遮断性保護層が設けられた光重合型平版印刷版原版から製版して得られた平版印刷版に用いる平版印刷版用乳化型版面洗浄剤であって、該版面洗浄剤の全質量に基づいて含まれる塩の全カチオンの含有量が０．５質量％以上であって、該全カチオンの質量に基づいて３０質量％以上がカリウム、セシウム及びルビジウムから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする、平版印刷版用乳化型版面洗浄剤；酸素遮断性保護層が設けられた光重合型平版印刷版原版から製版して得られた平版印刷版を、上記平版印刷版用乳化型版面洗浄剤にて洗浄することを含む、平版印刷版の版面処理方法。 （もっと読む）

【課題】デリケート繊維に対する浸透力、風合い感に優れる液体洗浄剤組成物を提供。
【解決手段】式（１）で表される非イオン界面活性剤Ａ、及び、アルキル鎖長の異なる二種のアミドアミンＢ、Ｃを含有し（Ｂのアルキル鎖長７〜21、Ｃのアルキル鎖長１５〜１７）、Ｃ／Ａの質量比が０．０１〜０．２０であり、Ｃ／Ｂの質量比が０．７〜５．０である衣料用液体洗剤組成物。


（Ｒ^１は炭素数７〜２１の炭化水素基であり、Ｒ^２は−Ｘ−が−Ｏ−の場合は水素であり、−Ｘ−が−ＣＯＯ−の場合は炭素数１〜６のアルキル基又はアルケニル基。） （もっと読む）

【課題】ゲート絶縁膜や基板などの損傷を抑制ないし防止し、半導体基板表面に付着した不純物、特に、イオン注入されたレジストなどの付着物を効率よく剥離でき、安全性に優れた多剤型半導体基板用洗浄剤、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板の洗浄時に少なくとも発泡剤と発泡助剤とを混合して使用する多剤型洗浄剤であって、前記発泡剤が炭酸アルキレンと炭酸塩とを含有し、前記発泡助剤が酸性化合物を含有し、さらに酸化剤を組み合わせて用いる半導体基板用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】硫酸又は硫酸主体の酸を用いる鋼材の酸洗において、短時間での脱スケールを可能にし、管理幅を広く、酸洗液寿命の長い酸洗剤及びこれを用いた脱スケール方法を提供する。
【解決手段】脱スケール促進剤としてチオ尿素と、チオ尿素ならびにチオ尿素誘導体以外の有機硫黄化合物及び／又はノニオン系界面活性剤を含有する硫酸又は硫酸主体の酸からなる鋼材の脱スケール酸洗剤。 （もっと読む）

【課題】バイオフィルムを効果的に除去することができるバイオフィルム除去剤、および、バイオフィルム除去用組成物を提供する。
【解決手段】α−オレフィンスルホン酸塩からなるバイオフィルム除去剤、および、このバイオフィルム除去剤を含有するバイオフィルム除去用組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】ＳＰＭ洗浄剤に匹敵する洗浄力を発揮し、かつ、ＳＰＭ洗浄剤による半導体基板の損傷を大幅に改善し、半導体基板表面に付着した不純物、特にイオン注入されたレジストなどの付着物を効率よく剥離除去しうる半導体基板用洗浄剤、これを利用した洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】硫酸と、過酸化水素と、炭酸アルキレンとを組み合わせて用いることを特徴とする半導体基板用洗浄剤、並びに、硫酸と過酸化水素と炭酸アルキレンとを組み合わせて、半導体基板に適用して洗浄する半導体基板の洗浄方法。 （もっと読む）