【課題】生乾き臭の発生を抑制し、かつ香りの保存安定性に優れ、香り立ちもよい繊維製品用液体洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】成分(A)〜(D)を含有する繊維製品用液体洗浄剤組成物。
(A) 一般式(1)で表される非イオン界面活性剤 30〜70質量％
Ｒ(ＣＯ)_pＯ−[(Ｃ₂Ｈ₄Ｏ)_q／(ＡＯ)_r]Ｒ' (1)
(B) 過酸化水素 0.3〜10質量％
(C) カチオン界面活性剤 0.1〜５質量％
(D) 成分(d1)を20〜100質量％含有し、成分(d2)の許容含有量が10質量％である香料組成物
(d1) ジヒドロミルセノール、γ-ウンデカラクトン、クマリン等から選ばれる１又は２以上の香料
(d2) ジメチルベンジルカルビニルアセテート、フェニルヘキサノール、酢酸シトロネリル及びヘリオトロピンから選ばれる１又は２以上の香料 （もっと読む）

【課題】ポンプの羽根車を主軸から取り外す際に、カジリ傷の発生を抑制できるポンプの羽根車取り外し方法を提供することである。
【解決手段】ポンプを駆動するモータを取り外した後に、ポンプを収納したバレルからポンプを吊り上げ、バレルの外部でポンプの羽根車を主軸から取り外すにあたり、ポンプをバレルから所定位置だけ吊り上げた状態でバレル内の水を排水し、バレル内の排水後に水と弱アルカリ性の洗浄剤とを注入しポンプの羽根車の取付部を洗浄剤溶液で浸漬させ温水循環をし、バレル内の洗浄剤溶液を所定温度範囲で所定時間以上加温した後にポンプを吊り上げてバレルの外部の所定場所に横置きし、羽根車の取付部に洗浄剤溶液をジェット噴射しながら羽根車を取り外す。 （もっと読む）

【課題】ゲート絶縁膜や基板などの損傷を抑制ないし防止し、半導体基板表面に付着した不純物、特に、イオン注入されたレジストなどの付着物を効率よく剥離でき、安全性に優れた多剤型半導体基板用洗浄剤、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体基板の洗浄時に少なくとも発泡剤と発泡助剤とを混合して使用する多剤型洗浄剤であって、前記発泡剤が炭酸アルキレンと炭酸塩とを含有し、前記発泡助剤が酸性化合物を含有し、さらに酸化剤を組み合わせて用いる半導体基板用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】比較的安価で、優れた殺菌効果を示す殺菌剤、殺菌剤調製液、洗剤組成物、漂白剤組成物及び殺菌方法。
【解決手段】本発明の殺菌剤は、（Ａ）成分：炭化水素鎖に２つ以上の不飽和結合を有する脂肪酸及び／又はその塩と、（Ｂ）成分：遷移金属及び／又はその化合物と、（Ｃ）成分：過酸化水素及び／又は無機過酸化物とを有し、（Ａ）成分の含有量は、０．２〜１０質量％とする。殺菌剤の調製に用いる殺菌剤調製液は、（Ｂ）成分を含有し（Ｃ）成分を含有しない含金属水性液と、（Ｃ）成分を含有し（Ｂ）成分を含有しない含過酸化水素水性液とを少なくとも備える。 （もっと読む）

【課題】洗浄液の液温が６０℃未満の低温の場合でも良好な洗浄力を示し、かつ洗浄液を低温化できることで、製鉄所から排出される二酸化炭素の量を削減することができる鉄板用洗浄剤の提供を目的とする。
【解決手段】半導体の粒子と、過酸化物および／または炭酸塩と、ナトリウム化合物、無機酸、有機酸からなる群から選ばれた少なくとも一種である活性促進剤とを少なくとも予め混合して得られた組成物と、アルカリ性物質と、ノニオン系またはアニオン系界面活性剤とが含有されていることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】えり汚れ、靴下汚れなど、多様な汚れに対して優れた漂白、洗浄効果を発揮する、洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）無機過酸化物及び（ｂ）下記一般式（１）で表される化合物を、それぞれ特定範囲の比率で含有する洗浄剤組成物。
ＲＯ−［（ＰＯ）_m／（ＥＯ）_n］ＳＯ₃Ｍ （１）
（式中、Ｒは炭素数８〜１８の直鎖アルキル基、ＰＯとＥＯは夫々プロピレンオキシ基とエチレンオキシ基、ｍ及びｎは平均付加モル数であり、それぞれ独立して０＜ｍ＜５、０≦ｎ＜１０の数である。Ｍは陽イオンである。） （もっと読む）

【課題】ヌメリに対する充分な洗浄力を得ることができるパイプ用洗浄剤を目的とする。さらに、洗浄実感を付与することができる、パイプ用洗浄剤を目的とする。
【解決手段】本発明のパイプ用洗浄剤組成物は、（ａ）成分：マンガンおよび／または銅化合物と、（ｂ）成分：キレート剤および／またはポリカルボン酸高分子化合物と、（ｃ）成分：過酸化水素を発生する無機化合物と、（ｄ）成分：界面活性剤と、を含有することを特徴とし、前記（ｂ）成分には、（ｂ’）酸型キレート剤が含まれることが好ましく、前記（ｂ）成分には、１−ヒドロキシエチリデン−１，１−ジホスホン酸ナトリウムを含むことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】溶解性に優れた漂白活性化剤造粒物を提供する。
【解決手段】（ａ）漂白活性化剤、及び（ｂ）下記一般式（１）で表される化合物を含む漂白活性化剤造粒物。
Ｒ^1aＯ−［（ＰＯ）_m／（ＥＯ）_n］ＳＯ₃Ｍ （１）
（式中、Ｒ^1aは炭素数８〜１８のアルキル基であり、ＰＯとＥＯは夫々プロピレンオキシ基とエチレンオキシ基であり、ｍ及びｎは平均付加モル数であり、それぞれ独立して０＜ｍ＜２０、０≦ｎ＜２０の数である。ＰＯとＥＯはランダムでもブロックでもよい。Ｍは陽イオンである。） （もっと読む）

金属被覆するための準備においてプラスチック表面の表面前処理のための酸洗溶液であって、溶液はＭｎ（VII）イオン源；および無機酸を含み；ここで、酸洗溶液はクロム（VI）イオン、アルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンを実質的に含まない。 （もっと読む）

【課題】安価な装置によって過硫酸水溶液を製造することができるウェハ洗浄液の製造方法及び装置を提供する。
【解決手段】陰極２に最も近接してバイポーラ膜５が配置され、陰極２とこのバイポーラ膜５との間に陰極室６が形成されている。このバイポーラ膜５から陽極に向ってカチオン交換膜４とバイポーラ膜５とがこの順に交互に配列されている。陽極５に最も近接してバイポーラ膜５が配置されている。１対のバイポーラ膜５の間に配置されたカチオン交換膜４の陰極２側にカチオン移動室７が配置され、該カチオン交換膜４の陽極３側に処理室８が形成されている。循環用タンク１５内の過硫酸塩水溶液は、ポンプ１６及び配管１１を介して各処理室８に供給される。 （もっと読む）

【課題】保管時や運搬時においても、水中でのオゾンの安定性を向上させ、オゾンの気散を抑制するオゾン安定化剤、およびこれを含有するオゾン安定化水溶液とその製造方法を実現する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される四級アンモニウム塩型界面活性剤を含有することを特徴とするオゾン安定化剤。
［化１］


Ｒ^１はアルキル基、アルケニル基、ヒドロキシアルキル基、またはエステル基、アミド基、エーテル基よりなる群から選ばれる少なくとも１種により分断された分断基を含有するアルキル基であり、Ｒ^２はアルキル基またはアルケニル基であり、ＸはＣＨ_３ＳＯ_４、Ｃ_２Ｈ_５ＳＯ_４、ＣＨ_３ＣＯＯ、Ｃ_２Ｈ_５ＣＯＯ、ＯＨ、またはハロゲンである。 （もっと読む）

【課題】硫酸と過酸化水素水とを混合させた際に、基板からのレジストの剥離等に有効なカロ酸を十分に生成させることができる薬液混合方法および薬液混合装置を提供する。
【解決手段】まず内槽１０を硫酸で満杯にするとともに外槽１２にも内槽１０からあふれた硫酸が流入するようにする。次に内槽１０に過酸化水素水を供給して外槽１２に過酸化水素水を流入させてこの外槽１２内に過酸化水素水および硫酸の２種類の液体を貯留させる。過酸化水素水を流入させると同時に戻しポンプ１６を作動させる。 （もっと読む）

【課題】次亜塩素酸ナトリウムのような含ハロゲン物質を使用すること無く、蛋白質等の有機汚染物質を除去すると共に殺菌効果を併せ持ち、更には水へ溶解した際に析出物の生成が無く保存安定性に優れた、人工透析装置用洗浄剤を提供する。
【解決手段】過炭酸ナトリウム及び珪酸ナトリウムからなり、過炭酸ナトリウムの配合重量比率が珪酸ナトリウムに対し、０．１〜１．３であることを特徴とする人工透析装置用洗浄剤であり、これを０．０５〜１７重量％の水溶液として人工透析装置を洗浄する。 （もっと読む）

本件特許出願は、表面を処理するための、特に化学戦略剤及び/又は生物戦略剤によって汚染された表面を処理するための、相安定性マイクロエマルション型の汚染除去処方物に関するものである。 （もっと読む）

【課題】 シリコン基板及びガラス基板をエッチングせずに、シリカ粒子、アルミナ粒子、窒化ケイ素粒子のような種々の粒子の除去能力が高く、金属汚染についても除去することができる洗浄方法を提供する。
【解決手段】 １分子中にスルホン酸基を少なくとも２以上有する化合物、フィチン酸および縮合リン酸化合物からなる群から選択される１種または２種以上と、無機酸と、水とを含有してなる半導体基板洗浄液組成物を用いて、物理力を併用して半導体基板を洗浄することを特徴とする、半導体基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】ＣＶＤ又はスパッタ装置のシールド基材であるアルミニウム又はステンレンスにダメージを与えることなく、シールドに付着した金属チタン、酸化チタン、窒化チタン、金属銅、酸化銅等を除去する。
【解決手段】フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化リチウム及びフッ化アンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種のフッ素化合物を０．１〜１０重量％、リン酸及び／又はリン酸塩を１〜５０重量％、過酸化水素を０．５〜３５重量％、並びにフッ酸を５重量％以下含有し、残部は水であり、かつ系中のフッ素成分中のフッ素量に対する過酸化水素の重量比（過酸化水素／フッ素）が４以上である半導体製造装置洗浄用組成物を用いて、金属チタン、酸化チタン、窒化チタン、金属銅、酸化銅からなる付着物の少なくとも一種が付着してなる半導体製造装置を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】安全で環境負荷物質を使用しない洗浄液を用いて効率的に有機物質を除去することができ、被洗浄物に変色やダメージを与えずに、被洗浄物から有機物質を除去する洗浄方法および超音波洗浄用洗浄剤を提供する。
【解決手段】被洗浄物を電解質水溶液に接触させつつ超音波を印加することにより被洗浄物から有機物質を除去する。その電解質水溶液はイオン強度が0.0025ｍｏｌ／ｌ乃至1.0ｍｏｌ／ｌであって溶存酸素濃度が4ｍｇ／ｌ乃至飽和濃度の無機酸塩水溶液またはホウ酸水溶液から成る。印加する超音波の周波数は100乃至400ｋHzである。 （もっと読む）

多孔性ポリマーの限外濾過膜または精密濾過膜（例えば、ＰＶｄＦまたはヘイラー）の洗浄方法。かかる洗浄方法は、モノ過硫酸塩のアニオンを含んで成る水溶液に膜を接触させることを含んで成る。緩衝剤、キレート剤、触媒およびそれらの組合せを添加してもよい。モノ過硫酸塩のアニオンは、最も好ましくは、Ｈ_２ＳＯ_５、ＨＳＯ_５⁻、ＳＯ_５^２−のカリウム３重塩の形態である。モノ過硫酸塩のアニオンを含んで成る溶液を、膜の供給側へと供給して膜を溶液内にて静置および浸漬させてもよく、あるいは、膜逆洗に先立って濾液側へと注入することができる。通気および／または紫外光照射を行ってもよい。 （もっと読む）

【課題】安全かつ簡便に効率良く使用することができ、かつ、有機物の分解作用、微生物の殺菌作用及び膜状物の剥離作用に優れた風呂釜洗浄剤を提供すること。また、風呂釜内における炭酸カルシウム等のスケールを除去する作用に優れた風呂釜洗浄剤を提供すること。
【解決手段】少なくとも風呂水出入穴が水没する水位まで風呂水を浴槽内に張った状態で、風呂釜に連通し浴槽の壁面に開口された風呂水出入穴の浴槽内部側の周囲を一定の容積に区画するように浴槽の壁面に当接された風呂釜洗浄用具に投入して使用することを特徴とする、発泡性過炭酸ナトリウムを含有する風呂釜洗浄剤である。また、前記風呂釜洗浄用具に投入して使用することを特徴とする酸性物質を含有する風呂釜洗浄剤である。 （もっと読む）

【課題】洗浄作用に加え、洗濯後の衣類のしわ発生防止性や仕上がり性に優れた衣料用洗浄剤を提供する。
【解決手段】（ａ）非イオン性界面活性剤又は陰イオン性界面活性剤、（ｂ）ポリエーテル変性シリコーン及びアルコール変性シリコーンからなる群から選ばれる一種以上のシリコーン及び（ｃ）アミノ変性シリコーンを含有する衣料用洗浄剤。アルコール変性シリコーンとしてはポリグリセリン変性シリコーンが好ましい。また、非イオン性界面活性剤と陰イオン性界面活性剤の両者を含むのが好ましい。 （もっと読む）