【課題】例えば半導体基板のような基板から望ましくない有機及び無機残留物及び汚染物質を除去するのに使用される水性清浄用組成物を提供すること。
【解決手段】清浄用組成物が、約０．０１〜約４０重量％の、グリアニジウム塩、アセトアミジニウム塩、ホルムアミジニウム塩及びその混合物；水；そして任意には水溶性有機溶媒を含むように構成する。本発明による組成物は、酸化剤及び研磨粒子を含まず、基板特にケイ素含有ＢＡＲＣ及び／又はフォトレジスト残留物を有する基板から残留物を除去する能力をもつ。 （もっと読む）

【課題】最初のすすぎ後及びその後のすすぎ後の両方における水の痕跡、汚れ又は染みを防止することができる、家周りの表面を洗浄するための噴霧装置を提供する。
【解決手段】家周りの表面を洗浄するための噴霧装置であって、（ｉ）表面を親水性にするポリマーを含む洗浄性組成物を含む容器、（ｉｉ）直径１．０ｍｍ未満の樹脂ビーズを含むイオン交換樹脂である精製装置であって、前記噴霧装置内に収容されている精製装置、及び（ｉｉｉ）従来の庭用ホースに取り付けるためのアダプターを含むホース末端システムである噴霧装置とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、優れた洗浄力を有し、スケールの発生が抑制され、被洗物に対し低腐食性の、安全で環境に優しく、特に、業務用自動食器洗浄機において優れた性能を示す、自動食器洗浄機用洗浄剤組成物を提供するものである。
【解決手段】本発明の自動食器洗浄機用洗浄剤組成物は、下記の（Ａ）〜（Ｃ）成分を含有し、（Ａ）成分１００質量部に対して、（Ｂ）成分の比率が０．０１２５〜１００００質量部であり、（Ｃ）成分の比率が０．０１２５〜１００００質量部であることを特徴とする：
（Ａ）ケイ酸塩；
（Ｂ）オレフィン単量体と不飽和カルボン酸単量体とのコポリマー及び／またはその塩；（Ｃ）不飽和カルボン酸単量体を主体とするポリマー及び／またはその塩。 （もっと読む）

アルカリ液中において腐食感受性である表面を洗浄するための組成物であって少なくとも１種のアルカリ源、元素周期表の第２または第３の主族の元素から選択される少なくとも１種のカチオンを含む少なくとも１種の無機塩を含み、これにより組成物がいずれのトリアゾールおよび／またはいずれのアルカリ金属ホウ酸塩も含まない組成物、該組成物を含む水性濃厚物、該組成物または該水性濃厚物を含む使用溶液、ならびに、上記の水性濃厚物または任意の上記の使用溶液を用いて、アルカリ液中において腐食感受性である表面を洗浄する方法である。 （もっと読む）

【課題】 例えば、アルミニウムやマグネシウム等が蒸着したマスク、液晶ディスプレイ基板、金属ミラー等のように、被洗浄物の洗浄面にダメージを与えることなく平滑的に、しかも、付着金属の除去したい厚さによって洗浄速度をコントロールできる洗浄剤を提供する。
【解決手段】 ＳＣＮ⁻、Ｉ⁻、ＣｌＯ₄⁻、ＮＯ₃⁻およびＢｒ⁻のようなカオトロピックイオンを含有する、ｐＨが１０以上の水溶液からなる洗浄剤。該カオトロピックイオンの濃度が０．１モル／ｌ以上、最も好ましくは０．８〜１．５モル／ｌである場合に特に効果に優れる。 （もっと読む）

少なくとも４級アンモニウム水酸化物と、水溶性有機溶剤と、水と、防食剤と、全量に対し１質量％以下の水酸化カリウムとを含むように剥離洗浄液。半導体基板から、単独でレジスト膜、埋め込み材、金属の残渣物等を有効に除去することができる。 （もっと読む）

【解決手段】基板をH₂SiF₆またはHBF₄；有機溶媒；アミン；腐食防止剤；および水を含有する組成物と接触させる工程を含む低誘電率（Low-k）の誘電体を含有する基板からエッチング残留物をクリーニングする方法であって、ここで前記組成物はエッチング後の残留物を剥離し、酸化物の損失を最小にでき、該組成物のpHが7未満である方法。 （もっと読む）

【課題】粘度変動の減少、安定性の改善、接触酸化の改善を示す高塩基価カルシウムスルホネート清浄剤の提供。
【解決手段】０.０５３０〜０.０５８５の全石けん/ＢＮ比と、ＡＳＴＭ Ｄ ２８９６-９８で測定した場合に３５０ｍｇ ＫＯＨ/ｇを超える全塩基価を有する高塩基価カルシウムスルホネート清浄剤を調製する。 （もっと読む）

本発明は、マイクロエレクトロニクス基板を洗浄するための洗浄組成物を提供し、これは、本質的に完全にかかる基板を洗浄し、金属腐食を防止し、または本質的にそのような基板の金属元素の腐食をもたらさず、先行技術のアルカリ含有洗浄組成物で必要とされる洗浄時間と比較して、比較的短い洗浄時間および比較的低い温度でこれらを行うことができる。本発明は、マイクロエレクトロニクス基板を洗浄するための、マイクロエレクトロニクス基板の金属元素の有意な腐食をもたらさない、そのような洗浄組成物の使用方法も提供する。本発明の洗浄組成物は、（ａ）少なくとも１種の有機溶媒、（ｂ）少なくとも１種の中和されていない無機リン含有酸、および（ｃ）水を含む。本発明の洗浄組成物には、場合により、例えば界面活性剤、金属錯体化またはキレート化剤、腐食阻害剤などの他の成分が組成物中に存在してもよい。本発明の洗浄組成物は、無機リン含有酸成分を中和する有機アミン類、ヒドロキシルアミン類またはアンモニウム塩基などの他の強塩基が存在しないことを特徴とする。本発明の洗浄および残渣除去組成物は、アルミニウム、チタンおよびタングステンを含有するマイクロエレクトロニクスの基板の洗浄に特に適する。 （もっと読む）

【課題】残留物、例えば灰化されたフォトレジスト及び／又は加工処理残留物などを選択的に除去するための組成物及び方法を提供する。
【解決手段】１つの側面においては、残留物を除去する構成ための、約２〜約９の範囲にわたるｐＨを有する組成物であって、有機酸及び当該有機酸の共役塩基を１０：１から１：１０までの範囲にわたる酸対塩基のモル比で緩衝溶液、フッ化物、及び水を含むが、添加された有機溶媒は実質的に含まない残留物除去組成物である。別の側面においては、組成物は更に、腐食防止剤及び／又は界面活性剤を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】家庭環境において変色したナイロンおよび／またはライクラ・ファブリックの白さを元の状態に回復させる製品を提供する。
【解決手段】ナイロンおよび／またはライクラ（ポリウレタン合成繊維）成分を含む家庭用のファブリック製品を漂白するための組成物であって、二酸化チオ尿素およびアルカリを有する。 （もっと読む）

本発明のフォトレジスト剥離剤および洗浄組成物は、電子デバイスの表面の異なるタイプの金属の重層構造に使用したときに電気化学的腐食に耐性である、非水性かつ非腐食性の洗浄組成物により提供される。そのような非水性フォトレジスト剥離剤および洗浄組成物は、（ａ）少なくとも１種の極性有機溶媒、（ｂ）少なくとも１個の第一級アミン基および１個またはそれ以上の第二級および／または第三級アミン基の両方を有し、下式［式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_４およびＲ_５は、Ｈ、ＯＨ、ヒドロキシアルキルおよびアミノアルキル基から独立して選択されてよく；Ｒ_６およびＲ_７は、各々独立してＨまたはアルキル基であり、ｍおよびｎは、各々独立して１またはそれ以上の整数であり、但し、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_４およびＲ_５は、少なくとも１個の第一級アミン基および少なくとも１個の第二級または第三級アミン基が化合物中に存在するように選択される］を有する少なくとも１種のジまたはポリアミン、および、（ｃ）８−ヒドロキシキノリンおよびその異性体、ベンゾトリアゾール、カテコール、単糖、並びに、マンニトール、ソルビトール、アラビトール、キシリトール、エリスリトール、アルカンジオールおよびシクロアルカンジオールから選択される多価アルコールから選択される少なくとも１種の腐食阻害剤を含む。
【化１】

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【課題】 液晶が付着した液晶セル等の物品を洗浄するための洗浄剤であって、洗浄力に優れ、被洗浄物がアルミニウム端子を有する場合でもこれを腐食させることなく、しかも人体や環境への悪影響も少ない洗浄剤を提供する。
【解決手段】 ε−カプロラクトンのような下記式（１）で示される環状化合物を洗浄成分として含有する洗浄剤。
【化１】


（式中、ＲはＣＨ_２またはＯであり、Ｒ’は置換基を有していてもよいアルキレン基である。） （もっと読む）

【課題】自動食器洗浄機、特に洗浄時間の短い、業務用自動食器洗浄機における洗浄において、被洗物（特にグラス、クリスタルグラス）を腐食することなく、さらに石灰被膜やウォータースポットを形成することなく、優れた洗浄性能を有する自動食器洗浄機用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカリ金属炭酸塩を２０〜８０質量％、（Ｂ）キレート剤を１〜４０質量％、（Ｃ）ノニオン界面活性剤を０．１〜１０質量％、（Ｄ）酵素を０．１〜５質量％、及び（Ｅ）ポリカルボン酸またはその塩を０．１〜１０質量％を含有する自動食器洗浄機用洗浄剤組成物であって、前記（Ｂ）成分のキレート剤の、ｐＨ８．０〜１１．０の範囲内いずれかのｐＨにおける、Ｐｂ（ＩＩ）に対する安定度定数が１０．０以下および／またはＣａ（ＩＩ）に対する安定度定数が６．０以下であり、かつＣａ（ＩＩ）に対する安定度定数が２．５以上であることを特徴とする前記組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた洗浄力を有し、被洗物に対し低腐食性の、安全で環境に優しい自動食器洗浄機用洗浄剤組成物を提供することを目的とする。特に業務用自動食器洗浄機において優れた性能を示す、自動食器洗浄機用洗浄剤組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ）ノニオン界面活性剤、（Ｂ）酵素、（Ｃ）ヒドロキシカルボン酸塩および（Ｄ）硫酸塩を含有することを特徴とする自動食器洗浄機用洗浄剤組成物を提供することにより前記目的を達成する。 （もっと読む）

本発明は洗剤生成物および洗濯物後処理剤への染料を定着するおよび／または染料の移行を防止する添加剤としてのカチオン性重縮合生成物の使用に関する。前記カチオン性重縮合生成物は、（Ａ１ａ）モノ（Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノアルキル）アミンと、（Ａ１ｂ）尿素、チオ尿素、ジアルキルカーボネート、脂肪族および芳香族ジカルボン酸、および脂肪族および芳香族ジイソシアネートを含有する群から選択される二官能性化合物との、１.２：１〜２.１：１のモル比での反応により得られた（Ａ１）非環状アミン、または非環状アミン（Ａ１）と環状アミン（Ａ３）の１０：１〜１：１０のモル比の混合物（Ａ２）と、アルキレンジハロゲニド、ジハロゲンアルキルエーテル、ハロメチルオキシラン、およびビスエポキシドを含有する群から選択される二官能性化合物合物（Ｂ）の、（Ｂ）：（Ａ１）または（Ｂ）：（Ａ２）が０.６：１〜１.３：１のモル比での縮合により製造できる。 （もっと読む）

自動食器洗浄機における、ステンレス鋼、炭素鋼およびクロムメッキ食器類のような金属の腐食を、自動食器洗浄用洗剤組成物における腐食防止剤の使用を通じて防止する方法。 （もっと読む）

【課題】 従来のアルカリ洗浄剤はアルミなどの非鉄金属を容易に腐蝕させることから、アルミが部品の少なくとも一部に使用されている電子部品等の洗浄には使用できなかったため、アルミ非腐蝕性に優れたアルカリ洗浄剤を提供する。
【解決手段】 有機アルカリ（Ａ）、水、並びに分子量３２〜数平均分子量５００のモノオール（Ｂ１）、分子量６２〜数平均分子量２５０のジオール（Ｂ２）、分子量９２〜数平均分子量４００の３〜９価のポリオール（Ｂ３）、および（Ｂ１）もしくは（Ｂ３）のアルキルエーテル（Ｂ４）からなる群から選ばれる１種または２種以上の親水性有機溶剤（Ｂ）を含有し、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の含有率が１，０００ｐｐｍ以下であるアルカリ洗浄剤。 （もっと読む）

歯科用器具及び医療用器具を洗浄するための新規の方法が記載され、ここで、低残渣腐食抑制剤を含む洗浄溶液は、クリーニングサイクルの洗浄段階においてのみだけでなく、少なくとも１つの後続のすすぎサイクルにおいても使用され、洗浄及びさび止めの両方を最適化する。この方法に特に適した新規のクリーニング溶液は、中性〜アルカリ性ｐＨを有し、そして低起泡性界面活性剤と、Ｃ４〜Ｃ１６アルキルピロリドン及びＣ１〜Ｃ１８アルキルアミンから成る群から選択される腐食抑制剤とを水溶液中に含む。 （もっと読む）

【課題】 アルミニウム及びその合金は、アルカリ領域においては、腐食・変色を受け易い素材であり、アルカリ領域でも良好な変色防止性を示すと共に、油剤や洗浄剤への良好な溶解性を示し、製品安定性のよい変色防止剤を提供する。
【解決手段】 分子量５００〜２０００のポリブチレングリコールと酸無水物のジアシル化反応物のアルカリ金属塩、アンモニウム塩、又は、アミン塩、炭素数１８以上の不飽和アルコールと酸無水物とのモノアシル化反応物のアルカリ金属塩、アンモニウム塩、又は、アミン塩並びにＨＬＢが８以下のポリオキシアルキレンアルキルエーテルと酸無水物とのモノアシル化反応物のアルカリ金属塩、アンモニウム塩、又は、アミン塩を含有するアルミニウム及びその合金用変色防止剤。
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