本発明は、下記成分を下記の体積分率で分散して成る水を含むベース液相を含む表面活性成分組成物であって、ベース液相には塩化ナトリウム及びアルキルエーテル硫酸ナトリウムが溶解され、ベース液相と塩化ナトリウム及びアルキルエーテル硫酸ナトリウムとの比が、1:1:1.5〜1:1:5の範囲内である、表面活性成分組成物を提供する。
塩化ナトリウム：1〜3%、マグネシウム：1〜2%、カルシウム：1〜2%、カリウム：1〜2%、サルファート：1〜2%、炭素：0.5〜1%、ニトラート：1〜2%、ホスファート：1〜2%。更に、本発明は該組成物を製造するプロセスと該組成物の使用を提供する。 （もっと読む）

【課題】接触或いは混合により対象物に含まれる遊離塩素と呼ばれている酸化活性の強い塩素を捕捉し、対象物から取り除く効果を有する塩素捕捉剤を提供する。
【解決手段】一般式（１）


［但し、式中、Ｒ^１は炭素数６〜２０のアルキル基、Ｒ^２はメチル基、エチル基またはヒドロキシエチル基を表し、Ｒ^３はメチル基またはエチル基を表し、ｎは１または２の整数を表す。］
で表される両性界面活性剤からなることを特徴とする塩素捕捉剤。 （もっと読む）

【課題】 高酸濃度および高温という過酷な金属酸洗条件下でも、金属素地の腐食を大幅に抑制し、酸洗速度を遅らせることが非常に少ない腐食防止剤を提供する。
【解決手段】 イミダゾリウム系４級アンモニウム塩１００重量部、ポリアミン化合物１０〜１００重量部および有機硫黄化合物１０〜１００重量部を含む腐食抑制剤を金属酸洗液に添加することによって、たとえば、硫酸を高濃度で含み、９０℃以上の高温下での酸洗処理においても顕著な腐食防止効果が得られる。 （もっと読む）

本発明は、底部から分与する容器に入った濃縮洗剤組成物に関する。組成物及び／又は容器は透明若しくは半透明、かつ紫外線吸収材料を含む。
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清浄化組成物濃縮物を収容する容器、および清浄化組成物濃縮物を含むパッケージされた清浄化組成物濃縮物。清浄化組成物濃縮物は、その重量を基準にして少なくとも約１重量％の固形分を有する。清浄化組成物濃縮物は、界面活性剤成分、分散剤成分、およびシーティング剤又は保湿剤の少なくとも１つを含む。用途組成物を形成する方法も提供される。
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【課題】銅配線の腐食抑制効果（銅腐食抑制効果）が優れ、かつ接触抵抗に影響を及ぼさない銅配線用洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】銅腐食抑制剤（ＲＥ）及び水（Ｗ）を含有してなり、２５℃でのｐＨが３〜１４であり、かつ式（１）を満たしてなることを特徴とする銅配線用洗浄剤を用いる。

【数１】


｛式中、Ｅは２５℃での酸化還元電位（Ｖ、ｖｓＳＨＥ）、ｐＨは２５℃でのｐＨを表す。｝

また、上記の銅配線用洗浄剤を半導体基板又は半導体素子に連続的又は断続的に供給して、銅配線を有する半導体基板又は半導体素子を洗浄することを特徴とする半導体基板又は半導体素子の洗浄方法を用いる。
なし （もっと読む）

ジアシルペルオキシド、テトラアシルペルオキシドおよびそれらの混合物の群から選択される漂白剤を含む漂白剤顆粒を製造するプロセスであって、ジアシルペルオキシドは、次の一般式：
Ｒ¹−Ｃ（Ｏ）−ＯＯ−（Ｏ）Ｃ−Ｒ²
（式中、Ｒ¹は、Ｃ₆〜Ｃ₁₈アルキル基を表わし、およびＲ²は、ペルオキシド部分と相溶性がある脂肪族基を表わし、Ｒ¹およびＲ²は、両方の合計で８〜３０個の炭素原子を含有するようにする）を有するジアシルペルオキシドから選択され、テトラアシルペルオキシドは、次の一般式：
Ｒ³−Ｃ（Ｏ）−ＯＯ−Ｃ（Ｏ）−（ＣＨ₂）ｎ−Ｃ（Ｏ）−ＯＯ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ³
（式中、Ｒ³は、Ｃ₁〜Ｃ₉アルキル基を表わし、ｎは、２〜１２の整数を表わす）を有するテトラアシルペルオキシドから選択され、製造プロセスはジアシルペルオキシドおよび／またはテトラアシルペルオキシドを乾式造粒する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、印刷作業を行うにあたり、印刷版面の親水性非画線部への濡れ性が良好となる等、ＩＰＡを添加した際と同様な効果が得られ、泡立ちが少なくて供給量の調節を容易に行うことができ、インキの過剰乳化や給水ローラー汚れを防止することができる平版印刷用湿し水濃縮組成物を提供することを課題とする。
さらに、比較的画線部が湿し水により侵食されやすいＣＴＰ用印刷版においても、印刷中に画線部が脱落する等の印刷物品質上の問題が起こらない平版印刷用湿し水濃縮組成物を提供することを課題とする。
【解決手段】 一般式（１）で示される化合物の少なくとも一種類を０．１〜１５質量％含有することを特徴とする平版印刷用湿し水濃縮組成物。


（式（１）において、Ｒ^１は水素、炭素数が１〜４のアルキル基を示し、式中のａ及びｃは１〜１５の整数であって２≦ａ＋ｃ≦３０であり、ｂは１≦ｂ≦１０の整数である。） （もっと読む）

本発明は、感受性洗濯-または洗浄剤を含有する材料の顆粒物であって、下記の成分：（a）感受性洗濯-または洗浄剤を含有する材料；（b）個別支持材料（吸着剤）；（c）（b）と異なる、結合剤としての成分；および、（d）（b）および（c）と異なる、任意の付加的成分；を含有し、24時間後に少なくとも50%の崩壊指数を示す顆粒物に関する。このような顆粒物は、液体-またはゲル-形成水性洗濯-または洗浄剤における使用に特に適している。本発明は、洗濯-および洗浄剤に関するそのような顆粒物の製造法、ならびにそのような顆粒物の製造のための、適切な成分（a）、（b）、（c）および（d）の使用にも関する。 （もっと読む）

【課題】ポリオキシエチレンアルキル（Ｃ₈〜₂₂）エーテル硫酸塩を用いた、安全で抗菌性を持ち、コンタクトレンズに対して高い洗浄力を持つコンタクトレンズ用抗菌洗浄剤を提供することにある。
【解決手段】オキシエチレンの平均付加モル数が１〜２．５であるポリオキシエチレンアルキル（Ｃ₈〜₂₂）エーテル硫酸塩を０．０１〜３重量％と水を含むコンタクトレンズ用抗菌洗浄剤であって、更に、グリセリンまたはプロピレングリコール１０〜５０重量％と、ホウ酸またはその塩０．０５〜３重量％を加えたコンタクトレンズ用抗菌洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】様々な有機材料からなる部材が用いられているので、洗浄剤には有機材料との適合性に優れることが求められる。また、梱包材として有機材料、たとえば樹脂相性の向上が要求される。
【解決手段】１５℃における密度が０．７〜０．８ｇ／ｃｍ^３であり、ｎ−パラフィン分が１０〜９０％、芳香族分が０〜３％、ナフテン分が０〜２０％である炭化水素油を含有する洗浄剤組成物が提供される。 （もっと読む）

【課題】 同一水系内で水と接触するアルミニウム材と鉄材及び／又は銅材とを構成要素として含む装置・設備において、それぞれの金属材の表面に付着したスケールを、同時に除去することができるスケール洗浄剤及びそれを用いた金属材表面のスケール除去方法を提供すること。
【解決手段】 乳酸又は乳酸とその塩を含んでなることを特徴とするスケール洗浄剤、及びそれを用いたスケール除去方法。前記スケール洗浄剤には還元剤、スケール再付着防止剤を含んでいてもよい。
なし （もっと読む）

分散される相が分散させる相に1〜500nmの直径を有する液滴の形態で分布している油中水滴又は水中油滴ナノエマルジョンの調製方法であって:1) 1mN/m未満の界面張力を特徴とする均一な水/油ブレンド(1)の調製工程、これは30〜70質量%の量の水を含み、非イオン性、アニオン性、ポリマー性の界面活性剤から選択される少なくとも2種の界面活性剤は異なるHLBを有し、該界面活性剤は該ブレンドを均一にするような量で存在する;2) 油又は水からなる分散させる相において、非イオン性、アニオン性、ポリマー性の界面活性剤から選択される界面活性剤を添加して該ブレンド(1)を希釈する工程、該分散させる相及び界面活性剤の量は、該ブレンド(1)とは異なるHLBを有するナノエマルジョンが得られるような量である、を含む方法。 （もっと読む）

【課題】 洗浄性、低泡性および貯蔵安定性に優れ、特に各種飲食料品の製造設備に付着したフレーバー臭に対する優れた脱臭効果を有し、製造機器類へのダメージや配管のパッキン等の重量減少が小さく、膨潤や劣化のないＣＩＰ用脱臭剤組成物およびそれを用いた洗浄脱臭方法。
【解決手段】 （Ａ）特定の群から選ばれる非イオン界面活性剤であって、且つＨＬＢ値が８〜１８である少なくとも一種の非イオン界面活性剤、（Ｂ）ＨＬＢ値が８未満である非イオン界面活性剤、（Ｃ）２５℃におけるＳＰ値が９を超える水溶性溶剤、および（Ｄ）水、さらに（Ｅ）アルキルグルコシド、アルキルポリグルコシドを含有することを特徴とするＣＩＰ用脱臭剤組成物と、それを用いた洗浄脱臭方法。 （もっと読む）

【課題】
洗浄力が優れており、金属膜質の腐蝕を防止し、引火性物質であるアルコール類化学物質に代わって使用でき、効果的に基板上の有機異物及び埃などの無機異物を洗浄することができるレジストッパー洗浄用ケミカルリンス組成物。
【解決手段】
ａ）有機アミン系化合物０．０５乃至１０重量部、ｂ）有機溶剤０．０５乃至３０重量部、ｃ）トリアゾール系腐蝕防止剤０．００５乃至５重量部、ｄ）ヒドロキシフェノール類、アルキルガレート類、及び還元剤類からなる群より選択される腐蝕防止剤０．００５乃至５重量部、及びｅ）残量の水を含むケミカルリンス組成物。 （もっと読む）

有機アミン及び/又は４級アンモニウム水酸化物を含む少なくとも２つの塩基性化合物、少なくとも１つの有機酸化合物、及び材料の腐食を防止する腐食剤化合物を含むアルカリ性のＣＭＰ後洗浄溶液が提供される。防止剤化合物は、好ましくは、メルカプタン化合物である。１つの具体例では、洗浄溶液は、少なくとも２つの有機アミンを含むが、４級アンモニウム水酸化物は含まない。洗浄溶液は、好ましくは、約７〜約１２の範囲のｐＨを有する。 （もっと読む）

有機酸化合物を含む少なくとも１つの洗浄剤、洗浄溶液中での微生物の生育を実質的に最小化し若しくは防止する少なくとも１つの防腐剤化合物、及び少なくとも１つのアミン化合物を含むＣＭＰ後洗浄溶液が提供される。防腐剤化合物は、洗浄溶液を微生物の生育に対して洗浄溶液を保護する別の有機酸化合物であり得る。洗浄溶液は、好ましくは、約２〜約７の範囲のｐＨを有する。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れ、変色や色調の低下及び香質の変化が認められず、しかも消臭機能および抗酸化機能が保持される固形製剤を提供すること。
【解決手段】香粧品にポリフェノール類を封入したロックイン型粉末を配合する。さらに、塩基性物質や酵素を香粧品に配合してもよい。香粧品の中でも、とくに粉末あるいは錠剤入浴剤、粉末あるいは錠剤洗剤などが好ましい。工場から香粧品が出荷された後、消費者が製品を使用するときから使い終わるまでの標準的な期間が経過しても、当該製品の変色や色調の低下及び香質の変化、及び消臭機能や抗酸化機能の低下がない。 （もっと読む）

【課題】 本発明に使用されているジクロロイソシアヌル酸塩は、保存安定性が低いとともに、金属に対する腐食性が高いことや、水溶液濃度を高くした場合に強い刺激臭を発生する等の理由で、特定用途のみに利用範囲が限定されているのが現状である。
本発明は、漬け置き型で洗浄と除菌が同時に行えるとともに、保存安定性に優れ、水溶液にして使用した場合に各種金属や樹脂に対する腐食性が低く、しかも高濃度水溶液にしても刺激臭を発生しない哺乳瓶用洗浄剤組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】 ジクロロイソシアヌル酸塩と粒子表面のみを低水和化処理したメタケイ酸ナトリウム五水和物とを必須成分として含有する哺乳瓶用洗浄剤組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は半導体基材から不要な有機及び無機の残渣及び汚染物質を除去するために使用する、水系洗浄組成物に関する。
【解決手段】洗浄組成物は、基材からの有機残渣除去を主に担う成分として、例えばジメチル尿素のような尿素誘導体を含む。本発明の洗浄組成物にはフッ化物イオン源も含まれ、基材からの無機残渣除去を主に担う。本発明の洗浄組成物は毒性が低く、環境に許容されうるものである。 （もっと読む）