【課題】表面疎水化方法によって、表面疎水化処理が施された層を含む半導体装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板１０の上方に絶縁膜２０が形成され、絶縁膜２０に反応性イオンエッチングなどにより凹部２２が設けられる。凹部２２の内壁２２ａにはダメージが生じるため、凹部２２の内壁２２ａには疎水性膜２４が形成される。表面疎水化方法は、（Ａ）ジアセトキシメチルシランを層の表面に接触させた後、（Ｂ）非プロトン系溶媒を前記表面に接触させる工程と、前記層を加熱する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】撥水性固体表面における液滴の転落の際の加速度を液滴の大きさに合わせて制御することが可能な方法と、その方法により制御された撥水性固体表面を有する構造体を提供する。
【解決手段】撥水性固体表面を、液滴滑落性が異なる複数の撥水剤の混合形態で形成することを特徴とする、撥水性固体表面での液滴の転落加速度の制御方法、およびその方法により制御された撥水性固体表面を有する構造体。 （もっと読む）

【課題】優れた水滴滑落性と耐摩耗性を有し、長期間の視界確保に優れた撥水層を形成できる撥水性組成物の提供。
【解決手段】Ｒ^ｆＣＯＮ（Ｒ^１）−Ａ−Ｓｉ（Ｒ^２）_ｐ（Ｘ^１）_３−ｐ（化合物１）および／またはＲ^ｆＳＯ_２Ｎ（Ｒ^３）−Ｂ−Ｓｉ（Ｒ^４）_ｑ（Ｘ^２）_３−ｑ（化合物２）と（Ｒ^５）_ｒＳｉ（Ｘ^３）_４−ｒ（化合物３）とを、（化合物１および／または化合物２の合計）／化合物３が２／１００〜１００／１００の質量比で部分共加水分解して得た部分共加水分解体を含む撥水性組成物（Ｒ^ｆ：酸素原子を含んでもよい炭素数３〜１７のポリフルオロアルキル基。Ａ、Ｂ：窒素原子を含んでもよい炭素数１〜４の２価有機基。Ｒ^１、Ｒ^３：水素原子または炭素数１〜３の１価炭化水素基。Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５：フッ素原子を含まない炭素数１〜６の１価炭化水素基。Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３：アルコキシ基等。ｐ、ｑ、ｒ：０、１、２。）。 （もっと読む）

式：


で示される含フッ素単量体から誘導された繰り返し単位を有して成る含フッ素重合体を含んで成る表面処理剤であって、
（ａ）含フッ素重合体がケイ素原子を有してなるか、および／または（ｂ）表面処理剤が含フッ素重合体と異なる非フッ素重合体を含んでなり、この非フッ素重合体がケイ素原子を有してなる含ケイ素重合体である表面処理剤は、
α位がフッ素、塩素等で置換されている含フッ素アクリレート系ポリマーを含有していても、風合いを維持しつつ優れた撥水撥油性および防汚性を繊維製品に与える。
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【課題】表面の疎水性／疎油性仕上げのための高性能なコーティング原料を提供する。
【解決手段】新規フルオロシラン縮合生成物、それらの製造方法および表面改質のための使用方法。 R_F-CH₂-CH₂-SiX₃ (A)で表され、そしてこの式の中で、 R_Fが完全にまたは部分的にフッ素化されたアルキルラジカルであり、 XがClまたはO-C_nH_2n+1であり、そして nが1から20までの整数である、含フッ素（fluorous）シラン (A) を、 式 (B) 、 R(OH)_m(NH₂)_p (B)で表され、そしてこの式の中で、 RがC-およびH-含有有機ラジカルであり、mおよびpが 条件a) m > 2かつp = 0、または 条件b) m > 1かつp > 1、のどちらか一方の条件に付される1種または2種以上のアルコールと反応させることによって製造することができる化合物。 （もっと読む）

【課題】 表面疎水化用組成物、表面疎水化方法、ならびに半導体装置およびその製造方法に関する。
【解決手段】 本発明の表面疎水化用組成物は、（Ａ）官能基を有するシラン化合物と、（Ｂ）炭素数４〜８のアルコール系溶媒とを含む。 （もっと読む）

【課題】 表面疎水化用組成物、表面疎水化方法、ならびに半導体装置およびその製造方法に関する。
【解決手段】 本発明の表面疎水化用組成物は、（Ａ）下記一般式（１）で表される化合物と、（Ｂ）沸点が５０〜３５０℃である溶媒とを含む。
Ｓｉ（Ｒ^１）_２（Ｒ^２）_２ ・・・・（１）
（式中、Ｒ^１はアシルオキシ基、アルコキシ基またはヒドロキシ基を示し、Ｒ^２はアルキル基を示す。） （もっと読む）

【課題】 表面疎水化用組成物、表面疎水化方法、ならびに半導体装置およびその製造方法に関する。
【解決手段】 本発明の表面疎水化用組成物は、（Ａ）下記一般式（１）で表される化合物と、（Ｂ）沸点が５０〜３５０℃である溶媒とを含む。
ＨＳｉ（Ｒ^１）_ｎ（Ｒ^２）_３−ｎ ・・・・（１）
（式中、Ｒ^１はアシルオキシ基、アルコキシ基またはヒドロキシ基を示し、Ｒ^２はアルキル基を示し、nは１〜３の数を示す。） （もっと読む）

【課題】 半導体装置等の電子デバイスに用いられるエッチング／アッシング後のシロキサン系絶縁層のダメージを修復することを目的とした表面疎水化用組成物、表面疎水化方法、ならびに半導体装置およびその製造方法を得る。
【解決手段】 マロン酸ビス（トリメチルシリル）、１，２−ビス（トリメチルシロキシ）エタン、テトラキス(トリメチルシロキシ)チタニウムなどのシラン化合物と有機溶媒とからなる組成物。 （もっと読む）

【課題】 半導体装置等の電子デバイスに用いられる絶縁層の表面疎水化用組成物、表面疎水化方法、ならびに半導体装置およびその製造方法を得る。
【解決手段】 １，１，３，３−テトラメトキシジシラシクロブタン、ビス(ジメチルメトキシシリル)メタン、１，３−ジメトキシ−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンなどのシラン化合物と有機溶媒とからなる組成物。 （もっと読む）

【課題】 半導体装置等の電子デバイスに用いられるエッチング／アッシング後のシロキサン系絶縁層のダメージを修復することを目的とした表面疎水化用組成物、表面疎水化方法、ならびに半導体装置およびその製造方法を得る。
【解決手段】 環状シランモノマーと有機溶剤とからなる組成物。 （もっと読む）

本発明の組成物には、１種または複数のフルオロケミカルウレタン化合物と１種または複数のシルセスキオキサン化合物とを含む。このフルオロケミカルウレタン化合物には、（ａ）１種または複数の多官能イソシアネート化合物；（ｂ）１種または複数のフルオロケミカル単官能化合物；および場合によっては（ｃ）１種または複数の親水性ポリオキシアルキレン化合物；および／または（ｄ）１種または複数のシラン化合物；の反応生成物を含む。 （もっと読む）

基体表面を覆って撥水性被覆を適用する方法が与えられている。表面を、少なくとも一種類のペルフルオロアルキルアルキルシラン、少なくとも一種類の加水分解可能な下塗り剤、例えば、シラン及び／又はシロキサン、及び少なくとも一種類の非ハロゲン化、例えば、非フッ素化アルキルシランを含む少なくとも一種類の被覆組成物と接触させる。ペルフルオロアルキルアルキルシラン及び非フッ素化アルキルシランは、その非フッ素化アルキルシランの有効鎖長が、前記ペルフルオロアルキルアルキルシランの有効鎖長に等しいか又はそれより長くなるように選択することができる。
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有機シリケートガラス誘電体膜の疎水性を、この膜に塗布したときに増大させるための処理剤組成物。これは、シリル化によって有機シリケートガラス誘電体膜のシラノール成分をアルキル化またはアリール化することのできる成分、および酸、塩基、オニウム化合物、脱水剤、およびこれらの組合せであってもよい活性化剤、および場合によって用いられる溶媒または主溶媒と補助溶媒の混合物を含む。 （もっと読む）

本発明によるエネルギーフリー冷却庫扉は、低放射率コーティングを施したガラス板を有する扉に断熱性能を与えることにより、冷凍庫扉が開放されたときの結露を制御する方法を提供する。この扉は、扉枠と、内側、中間および外側ガラス板を備える断熱ガラスユニットを含む。内側および中間ガラス板の外周に延在する第１のシーリングアセンブリは、内側および中間ガラス板の間に第１の空間を形成する。中間および外側ガラス板の外周に延在する第２のシーリングアセンブリは、中間および外側ガラス板の間に第２の空間を形成する。クリプトン、空気またはアルゴン等のガスが、第１および第２の空間内に収容されている。外側ガラス板および内側ガラス板は、それぞれ中間ガラス板と向かい合う非露出面を有する。外側および内側ガラス板の非露出面には低放射率コーティングが施されており、これによってガラス扉が扉を加熱する電気を使用せずに、全体としてガラス扉の外側ガラス板の外面での結露の形成を防ぎ、同時に、ガラス扉の内側ガラス板の内側からの結露の所望蒸発速度を実現するＵ値を有する。これらの中で１枚ガラス板の表面に防曇または霜除けコーティングを含む場合がある。
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フロントガラスにウインター・プレシピテーション・バリヤー組成物を塗布することを含む、フロントガラスに対する霜の形成を防止し、フロントガラスに対してウインター・プレシピテーションの除去を容易にする方法が開示されている。
1つの実施態様において、本発明のバリヤー組成物は、溶媒とケイ素含有化合物を含み、前記ケイ素含有化合物は、反応性シラン、ポリアルキレンオキシドポリシロキサン、または前記化合物の少なくとも1種の組み合わせ物、のうちの少なくとも1種を含み、このとき前記反応性シランは、式(I)を有するハロシラン；式(II)を有するアルコキシシランもしくはアミノシラン；式(III)の化合物；または前記反応性シランの1種以上を含んだ組み合わせ物；のうちの少なくとも1種である。
他の実施態様においては、本発明のウインター・プレシピテーション・バリヤー組成物が反応性シランと溶媒を含み、このとき前記反応性シランは上記したとおりである。

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【課題】従来、基体に撥水撥油性を持たせるのに、その表面にアルキル基もしくはフルオロアルキル基を有するシロキサン膜を設けていたが、高温の基体上でのこの膜の安定性、すなわち高温でのこの膜の耐久性すなわち耐熱性に課題があった。
【解決手段】本発明は、表面上に少なくともシロキサン結合を有する膜が形成された熱膨張係数が７×１０^−７／Ｋ以下の基体である。この構成により、高温時にこの膜の熱膨張率と基体の熱膨張率の差、すなわちこの基体表面上のシロキサン結合を有する膜に蓄積される内部応力が小さいため、この膜の耐熱性を向上できる。 （もっと読む）

基材上に改良された被膜を形成させる方法を提供しようとするものであり、特に、基材上に、１．２８〜１．３８の屈折率と９０〜１１５度の水接触角を示し、かつ当該基材の表面に密着して形成された被膜を提供する。
Ｓｉ（ＯＲ）₄で示される珪素化合物（Ａ）と、（Ｒ¹Ｏ）₃ＳｉＣＨ₂ＣＨ₂（ＣＦ₂）_nＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＲ¹）₃で示される珪素化合物（Ｂ）と、Ｒ²ＣＨ₂ＯＨで示されるアルコール（Ｃ）と、蓚酸（Ｄ）とを特定比率に含有する反応混合物を水の不存在下に５０〜１８０℃で加熱することにより、ポリシロキサンの溶液を生成させ、当該溶液を含有する塗布液を基材表面に塗布し、その塗膜を８０〜４５０℃で熱硬化させることにより当該基材表面に密着して形成され、１．２８〜１．３８の屈折率と９０〜１１５度の水接触角を示す被膜、その被膜の形成方法及びその塗布液の製造方法。 （もっと読む）

連続する液相として基材上にコーティングされるシリカ前駆体処方物を形成することによって、シリカコーティングを製造する方法。シリカ前駆体処方物は、その後、アンモニア性雰囲気中で硬化し、連続的に相互連結したナノ多孔性シリカ網状構造を生成する。 （もっと読む）

本発明は、耐久性に優れた凹凸構造を有し、撥水性、親水性等の機能に優れたガラス物品を提供する。この機能性ガラス物品は、本発明は、ガラス物品と；前記ガラス物品の表面の５０％以上９０％以下を覆うように前記表面に形成された、平均高さが１０ｎｍ以上４００ｎｍ以下である金属酸化物粒子群と；前記金属酸化物粒子群を覆い、かつ前記ガラス物品の表面に接するように形成された、撥水性膜、親水性膜および防汚性膜から選ばれる少なくとも１種である機能性皮膜と、を含む。金属酸化物粒子群は、例えば、化学気相成長法により形成された酸化錫粒子群である。 （もっと読む）