【課題】オレフィン重合性能に優れた重合触媒用の遷移金属化合物を提供する。
【解決手段】 下記一般式（1）で表される構造をもつ新規な遷移金属化合物。


〔一般式（1）において、Ｌは上記一般式(2)で表され、ここでR¹〜R⁴は、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基等を示し、R⁵およびR⁶は、R¹〜R⁴と同様の原子または基を示し、Ｑは４配位のホウ素、アルミニウム等を示す。Ｄは、カルベン、またはヘテロ原子を表すＶを介してＭに配位する、上記一般式（3）で表される基であり、Ｖはカルベン、窒素、酸素、硫黄、リン原子を示し、R^aおよびR^bは、炭素数1〜20の炭化水素基等を示す。Ｍは周期律表第4〜6族から選ばれる遷移金属原子を示し、Ｘは、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基等基を示し、Ｙは電子供与性基を有する中性配位子を示し、mはＭの価数を満たす数であり、nは、0〜3の整数を示す。〕 （もっと読む）

【課題】 屈折率およびアッベ数の高い光学製品の原料として有用な金属含有チオール化合物、およびそれを効率よく製造する方法を提供すること。
【解決手段】 下記一般式（１）で表される金属含有チオール化合物
Ｍ(Ｒ₁)_n(Ｓ-Ｒ₂-ＳＨ)_4-n （１）
（式中、Ｍは、ケイ素、ゲルマニウム、スズ、ジルコニウムまたはチタン原子を示し、Ｒ₁およびＲ₂は、それぞれ独立に、炭素数１〜６のアルカン残基、炭素数４〜７のシクロアルカン残基、ヘテロ原子が酸素、窒素もしくは硫黄原子である炭素数３〜７のヘテロ環式化合物残基または炭素数６〜１０の芳香族化合物残基を示し、各残基は置換基を有していてもよい。ｎは０〜３の整数である。）、並びに一般式Ｍ(Ｒ₁)_nＸ_4-n（Ｘはハロゲン原子を示す。）で表されるハロゲン化金属化合物と一般式Ｒ₂(ＳＨ)₂で表されるジチオール化合物を反応させる一般式（１）で表される金属含有チオール化合物の製造方法である。 （もっと読む）

本発明は癌を治療する時の薬剤として用いるための式（１）
【化１】


で表されるメタロセン化合物を提供する。式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、Ｈ、アルキル、アリールまたはトリメチルシリルの組み合わせを表し、Ｌは、側鎖置換基を表すが、これらの少なくとも１つは、この化合物が水に溶解するようになるのを可能にする基を含有し、Ｘは、ハロ、アルコキシ、アセテートまたはＨ_２Ｏであり、Ｙは、対イオンであり、そしてＭは、金属である。本発明は、また、Ｌ基の中の少なくとも１つが第四級テトラアルキルアンモニウム基を含んで成る式（１）で表される新規な化合物も提供する。本化合物は従来技術で公知の化合物に比べて癌の治療で有意に高い活性を示すことが分かった。
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重合触媒であって、（１）式Ａの窒素含有遷移金属化合物、及び（２）有機アルミニウム又はヒドロカルビルホウ素活性剤からなり、ここにおいて（ａ）Ｒ^１及びＲ^２は一価の基であるか又は（ｂ）Ｒ^１及びＲ^２は炭素原子を介してトリアゼンユニットの末端窒素原子を架橋して二価の基Ｒ^３を完全に形成するかの何れかであり；Ｒ^１及びＲ^２並びに二価の基Ｒ^３は（ｉ）脂肪族炭化水素、（ｉｉ）脂環式炭化水素、（ｉｉｉ）芳香族炭化水素、（ｉｖ）アルキル置換芳香族炭化水素、（ｖ）複素環基、及び（ｖｉ）前記（ｉ）乃至（ｖ）の基のへテロ置換誘導体であり；Ｍは周期律表の３乃至１１族の金属又はランタニド金属であり；Ｘは陰性基であり、Ｌは中性供与体基であり；ｎは１又は２であり、ｙ及びｚはＸ及びＬ基の数が金属Ｍの酸化状態及び価数を満たす独立した整数又はゼロである。触媒は１−オレフィン、特にエチレン及びプロピレンを重合するために使用される。高分子量単独−及び共−ポリプロピレンが開示されている。
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アイソタクチックポリプロピレンホモポリマーまたは多分散度が低いセグメントがＮ−ペンタフルオロフェニル基を含むフェノキシケチミン触媒を使用して製造される。 （もっと読む）

【課題】 遷移金属化合物の精製方法を提供すること。
【解決手段】 反応させて得られた下記式（１）で示される遷移金属化合物を含む反応溶液の溶媒の一部を貧溶媒で置換して溶媒組成を調整した後、不溶物を濾別して得られた濾液を濃縮し、次いで貧溶媒を加え溶媒組成を調整して得られた溶液から該遷移金属化合物を析出させる式（１）で示される遷移金属化合物の精製方法。
式（１）


［式中、Ｍ^１は第４族遷移金属を表し、Ａは第１６族元素を表し、Ｂは第１４族元素を表し、ｎは０又は１を表し、Ｃｐは置換されていてもよいシクロペンタジエン骨格を有する基を表し、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９及びＲ^１０は、同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基等を表し、Ｘ^１及びＸ^２は、同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原子等を表す。］で示される遷移金属化合物。 （もっと読む）

下記式（１）


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は同一又は異なっていてもよく、下記式（２）


（式（２）中、Ｑ^３は置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいシクロアルキレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基又は置換基を有していてもよい二価の複素環基を表わし、Ｒ^５は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよい複素環基を表わし、Ｒ^６は金属原子と配位又は結合可能な置換基を表すか、又はＲ^５とＲ^６とが一緒になって環を形成していてもよい）で示される基を表し、Ｑ^１及びＱ^２は同一又は異なっていてもよく、置換基を有していてもよいアルキレン基又は単結合を表し、Ｘは二価のスペーサーを表す）で示されることを特徴とする配位子。
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【課題】 気相化学反応（ＣＶＤ）により薄膜を形成させるための原料として有用な、気化性、安定性に優れた含フッ素金属錯体の合成方法を提供する。
【解決手段】 Ｚｒ、Ｈｆ、またはＴｉの含フッ素β−ジケトン錯体を合成するに際し、Ｚｒ、Ｈｆ、またはＴｉの無水金属塩化物を非プロトン性溶媒中に溶解または懸濁・分散させ、超強酸と無水金属塩化物とを反応させ、さらに含フッ素β−ジケトンを反応させた後、６０〜１４０℃の温度範囲で還流しながら、１〜５０Ｐａの不活性ガス加圧下で反応させ、遊離する超強酸、塩化水素を除去した後、二層分離した溶液から上層溶媒を除去したのち、再度非プロトン性溶媒を添加し、６０〜１４０℃の温度範囲て還流した後、−２０〜１５℃の温度範囲で冷却して結晶を析出させ、結晶を濾別後、再度非プロトン性溶媒を添加して６０〜１４０℃の温度範囲て還流した後、−２０〜１５℃の温度範囲で冷却して結晶を析出させる。 （もっと読む）

本発明は、周期律表の第15又は16族から選ばれる少なくとも1以上の環原子を有する5員多原子環に縮合するシクロペンタジエニル環を有してなる多環状へテロ原子含有縮合環化合物を含有してなる金属錯体、重合触媒及びそれらを用いるオレフィン重合方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 シクロペンタジエン骨格を有する有機化合物が固体、液体のいずれの状態であっても、簡便に該有機化合物を含む粗シクロペンタジエン化合物から該有機化合物を主成分とする精シクロペンタジエン化合物を製造する方法を提供する。
【解決手段】 シクロペンタジエン骨格を有する有機化合物を含む粗シクロペンタジエン化合物を融解させた溶液又は該粗シクロペンタジエン化合物を有機溶媒に溶解させた溶液に、水を含有させ、水及び不純物を共沸、留去させて、該有機化合物を主成分とする精シクロペンタジエン化合物を調製することを特徴とする精シクロペンタジエン化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 アンサ−メタロセン誘導体を、高いジアステレオ選択性及び／又は高いエナンチオ選択性で製造することができ、アンサ−メタロセン誘導体を得ることのできる製造方法を提供すること。
【解決手段】 本発明の製造方法は、下記一般式（１）で示される、アンサ−メタロセン誘導体の製造方法であって、チタン、ジルコニウム又はハフニウム原子と複合体を形成し得るエーテル類又はアミン類と、チタン、ジルコニウム又はハフニウムのハロゲン化物との複合体を用いることを特徴とする。
【化１】
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【課題】 メタロセン化合物の製造方法を提供すること。
【解決手段】 式（１）


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基等を表し、Ｒ^５−Ｒ^９は水素原子、ハロゲン原子、C１-２０のアルキル基等を表し、Ｒ^１０はハロゲン原子、アルキル基等を表し、Ｒ^１１は炭化水素基又は三置換シリル基を表し、Ｒ^１２、Ｒ^１３及びＲ^１４は、ハロゲン原子、炭化水素基等を表す。）で示されるケイ素置換シクロペンタジエン化合物と式（２）


（式中、Ｍは元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を示し、Ｘ^１、Ｘ^２、Ｘ^３及びＸ^４は、同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原子等を表し、ｎは０又は１を表す。）
で示される遷移金属化合物とを芳香族炭化水素溶媒を含む溶媒中で反応させることを特徴とする式（３）


（式中、Ｘ^５及びＸ^６は同一又は相異なり、水素原子、ハロゲン原子等を表す。）
で示されるメタロセン化合物の製造方法。 （もっと読む）

銅(Ｉ)Ｎ,Ｎ’−ジイソプロピルアセトアミジネートの蒸気と水素ガスとを交互に投与する複数回分の投与量を順次反応させて、加熱基板上に銅の金属薄膜を析出させる。コバルト(ＩＩ)ビス(Ｎ,Ｎ’−ジイソプロピルアセトアミジネート)の蒸気と水素ガスとを交互に投与する複数回分の投与量を順次反応させて、加熱基板上にコバルトの金属薄膜を析出させる。これら金属の窒化物及び酸化物の薄膜は、前記水素をそれぞれアンモニア又は水蒸気に代えることによって形成することができる。これらの薄膜は、均一な厚さを有しかつ細孔での優れたステップカバレッジを有する。好適な応用には、マイクロエレクトロニクスにおける電子的連結及び磁気情報記録装置における磁気抵抗が含まれる。
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【課題】 フェニルアゾメチンデンデリマーの有する金属錯体との高い錯形成能に着目した、新しい金属酸化物クラスターとその製造方法を提供する。
【解決手段】 次式（Ｉ）
【化１】


（式中のＲ¹は有機分子基を示し、Ｒ²は１以上の置換基を有していてもよいフェニル基を示し、Ｍはチタン（ＩＶ）化合物と２座配位子とからなる５座のＴｉ錯体を示し、ｍはデンドリマーの世代数を表す１以上の整数を示し、ｎは前記Ｒ¹に対するデンドロン部位の結合数を示す。）で表されることを特徴とするフェニルアゾメチンデンドリマー金属錯体とする。 （もっと読む）

【課題】有機溶媒と単量体との溶解性に優れ、かつ高誘電率を有する新たな有機／無機金属ハイブリッド物質及びこれを含む有機絶縁体組成物を提供する。
【解決手段】下記式で表される有機／無機金属ハイブリッド物質及びこれを含む有機絶縁体組成物。


式中、Ｒ^１〜Ｒ^６はアルキル基、アクリロイルオキシ基等を表わし、Ｍはチタン、ジルコニウム、ハフニウム、アルミニウム等の金属原子を表わす。 （もっと読む）

【課題】 メタロセン化合物の製造方法を提供すること。
【解決手段】 式（１）


（式中、Ｍは元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を示し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換されていてもよい炭素数６〜２０のアリール基、置換されていてもよい炭素数７〜２０のアラルキル基を表し、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９及びＲ^１０は水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基等を表し、Ｒ^１１は置換されていてもよい炭化水素基又は３置換シリル基を表し、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３は、同一又は相異なり、ハロゲン原子を表す。）
で示されるメタロセン化合物にルイス酸を作用させることを特徴とする式（２）


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｍ、Ｘ^１及びＸ^２は前記と同じ意味を表す。）
で示されるメタロセン化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】従来のチタンアルコキシドは架橋剤、接着改良剤、薄膜原料などに利用価値があったが、空気中の水分で加水分解をおこし取り扱いなどの作業性に問題があり、また有機溶媒を使用するため作業環境の面からも問題があった。本発明者等は、水と任意の割合で混ぜる事ができ、電解質水溶液に対しても安定な水性チタン組成物を鋭意検討してきた。
【解決手段】その結果、チタンアルコキシド、限定されたグリコール、脂肪族アミンおよびオキシカルボン酸を接触、混合する事により、水と任意の割合で混ぜる事ができ、電解質水溶液に対しても安定な水性チタン組成物を見出すに至った。 （もっと読む）

ケトイミナト配位子とのグループ(IV)および(Ｘ)金属錯体を、ケトイミン配位子を脱プロトン化し、続いて適切な金属ハロゲン化物と反応させることによって製造する。好ましい場合において、該化合物は、(アリールイミノ-アルキル)-スピロ[４,５]デカン-６-オン配位子との、チタン(IV)、ジルコニウム(IV)およびハフニウム(IV)錯体である。該化合物は、エチレン、Ｃ_３〜Ｃ_１０-αオレフィンおよびＣ_４〜Ｃ_１０環状アルケンの重合用触媒、およびエチレンとコモノマーとの共重合用触媒として有用である。 （もっと読む）

本発明は、式RO-M(L¹)_x(L²)_y(L³)_z〔式中、Mは、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、鉄(III)、コバルト(III)、またはアルミニウムから選択される金属であり；L¹とL²が、ジケトナート、アセト酢酸のエステルもしくはアミド、ヒドロキシカルボン酸もしくはそのエステル、R¹COO-(式中、R¹は、置換もしくは未置換のC₅-C₃₀分岐鎖アルキルまたは直鎖アルキル、あるいはナフチルやアントラシル等の多環構造体を含めた置換もしくは未置換のアリールである)、ホスファート、ホスフィナート、ホスホナート、シロキシ、またはスルホナートから互いに独立的に選択され；但し、L¹が、金属原子と2つの共有結合を形成するリガンドであって、x=1であるとき、y=0であり；L³は、置換もしくは未置換のアリールオキシ基、R²COO-(式中、R²は、直鎖もしくは分岐鎖のC₆-C₃₀アルキル、または置換もしくは未置換のアリールである)、ポリオキシアルコキシ基、またはヒドロキシアルコキシアルキル基から選択され；Rは、アルキル基であるか、またはヒドロキシ-アルキル基、ヒドロキシアルコキシアルキル基、もしくは(ヒドロキシ)ポリオキシアルキル基であり；x、y、およびZは互いに0または1であって、(x+y+z)≦V−1(式中、Vは金属Mの原子価である)である〕で示される有機金属化合物に関する。本発明はさらに、組成物、および市販の水銀ベース触媒を使用して製造される硬化物品と同等の性能を有する硬化物品が得られるよう、有機金属化合物を触媒として使用してポリウレタン物品を製造する方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 パーティクル汚染を防止しながら、良好な成膜効率で薄膜を形成することができ、特に特にＡＬＤ法を含むＣＶＤ法等の気化工程を有する薄膜製造方法に好適な薄膜形成用原料を提供すること。
【解決手段】 下記一般式（I）で表される金属化合物を含有してなる薄膜形成用原料。
【化１】
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