Fターム[4H049VP02]の内容
第4族元素を含む化合物及びその製造 (22,055) | 1化合物中に含まれる第4族元素の数(目的化合物) (2,944) | 2 (551)
Fターム[4H049VP02]に分類される特許
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モノシラン誘導体またはジシラン誘導体、および、それを用いたシリコン含有膜の低温蒸着法
本発明は、ULSIデバイスおよびデバイス構造の製造のための低温(例えば<550℃)化学蒸着法によりシリコン含有膜を形成するケイ素前駆体組成物に関する。かかるケイ素前駆体組成物は、少なくとも1個のアルキルヒドラジン官能基と置換され、ハロゲン置換がない、少なくとも1種のシラン誘導体またはジシラン誘導体を含む。 (もっと読む)
9,10−α,α−OH−タキサンアナログおよびその生成のための方法
本発明は、9,10−α,α−OHタキサン化合物およびその生成のためのプロセスに関する。本発明により、癌治療のために使用する新規でありかつ有用な化合物が、提供される。本発明はまた、癌治療に有用な化合物を形成するために使用する中間体を提供する。本発明はまた、癌治療のために用いるタキサンアナログおよびその誘導体を生成するために使用する方法を提供する。本発明は、患者において癌を処置する処方物を企図し、この処方物は、選択された濃度の、タキサンおよびそのための薬学的に受容可能なキャリアを含む。
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4’−チオヌクレオシドおよびオリゴマー化合物
【解決手段】 本発明は、遺伝子調節のRNA干渉経路において使用するための修飾オリゴマー化合物及びオリゴマー化合物の組成物を提供するものである。前記修飾オリゴマー化合物は、少なくとも1つの親和性修飾を有するsiRNA及びasRNAを含むものである。 (もっと読む)
新規4−フェニルアミノ−ベンズアルドオキシム誘導体並びにそのMEK阻害剤としての使用
本発明に係る化合物、その医薬的に許容し得る塩は、下記一般式(1)で表される。〔式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、Q、R8、R9は、明細書中のR1、R2、R3、R4、R5、R6、Q、R8、R9と同意義を示す。〕 (もっと読む)
シリコーンの官能化(エポキシ化)及びこれらのシリコーンの付着防止性被覆としての使用
本発明は、VCMXのようなエチレン性不飽和のエポキシドとMDD’M(ここに、M=R3SiO1/2、D=R2SiO2/2、D’=RH=SiO2/2であり、R=アルキルである。)型の水素化POSとの間の白金触媒ヒドロシリル化方法に従うエポキシ化POSの製造方法に関する。
本発明の目的は、最終生成物の粘度を最適化された態様で制御するのを可能ならしめる、即ち、反応混合物の部分的又は全体的なゲル化を生じさせるような複素環の開環による陽イオン重合の寄生反応を制限するのを可能ならしめる、不均質触媒作用によるエポキシ化POSシリコーンの合成方法を提案することである。
この目的は、ヒドロシリル化を少なくとも1種の無機非求核性塩基(NaHCO3)及び随意の水の存在下に実施することを特徴とする本発明によって達成される。
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新規な感光性二層組成物
構造(I)のモノマーの重合により形成されたモノマー単位を有するポリマーとコポリマー(ここで、R1はエチレン性不飽和の重合性基を含む部分構造であり、R2はC1〜C3のアルキレン基であり、R3は、C1〜10の線状若しくは環状アルキル基、C6〜10の芳香族若しくは置換芳香族基、C1〜8のアルコキシメチル基、又はC1〜8のアルコキシエチル基である)は、感光性組成物のバインダー樹脂として、また、半導体デバイスや材料の製造におけるフォトリソグラフィープロセスに有用である。
【化1】
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新規な1,3−オキサチオラン−2−チオン化合物及びその製造方法と使用
本発明は、一般式(I):
【化1】
(式中、R1及びR2は、同一又は異なって、それぞれ1〜6個の炭素原子を有する直鎖又は分岐アルコキシ基、若しくはアリールオキシ又はアラルキルオキシ基を表す;R3は、R1及びR2と同一又は異なるか、又は脂肪族基、アミノ基、ハロゲン原子、芳香族又は複素芳香族基、若しくは芳香脂肪族又は複素芳香脂肪族基を表す;R4は、脂肪族、複素脂肪族、芳香脂肪族、複素芳香脂肪族、芳香族及び複素芳香族基からなる群から選択される架橋基である;R5は、水素原子、脂肪族、複素脂肪族、芳香脂肪族、複素芳香脂肪族、芳香族、複素芳香族、脂環式又は複素脂環式基である;あるいは、R4及びR5は、ケイ素原子への架橋基として機能する脂肪族又は複素脂肪族基により任意に置換されていてよい脂環式、複素脂環式、芳香族又は複素芳香族基を形成する;X及びYは、異なっており、酸素及び硫黄から選択される。)で示される1,3-オキサチオラン-2-チオン化合物及びそれらの混合物に関する。別の目的は、上記化合物の製造方法、1,3-オキサチオラン-2-チオンから合成される化合物、及び種々の被覆及び結合用途におけるその使用を提供することである。
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有機ケイ素化合物およびその使用
式(I)または式(II)の化合物[:式中、可変部は、特許請求の範囲において記載したとおりである]。
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エポキシドからのエステルの製造法
【課題】従来のエポキシドからの近接エステルの製造法によれば、望みの高純度生成物を得るには、精製を追加する必要がある。従って、近接ジエステルを高収率および高純度で製造できる方法が求められている。
【解決手段】エポキシド開環触媒の存在下で、置換型エポキシド、好ましくはシリコーン含有置換型エポキシドを少なくとも1個のカルボン酸および少なくとも1個の保護剤と反応させることによって、近接ジエステルを高収率および高純度で形成できる。
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新規イミダゾールシラン化合物、その製造方法およびその利用
【課題】表面処理剤または樹脂添加剤として使用した際、無機材料と有機材料の密着性を向上させ、貯蔵安定性や溶剤への溶解性が良好である新規なイミダゾールシラン化合物を提供すること。
【解決手段】下記一般式(1)または(2)で示される新規イミダゾールシラン化合物。
【化1】
(但し、R1は水素、ビニル基または炭素数が1〜5のアルキル基、R2は水素または炭素数が1〜20のアルキル基、R3、R4、R5、R6は炭素数が1〜3のアルキル基、n、mはそれぞれ1〜3の整数、lまたはkは1〜5の整数を表す)
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保護モノマー
本発明はiRNA剤の合成のための保護モノマーに関する。
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