【解決手段】 下記一般式（１）で示されることを特徴とする含フッ素オルガノポリシロキサン。


（但し、式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴は、同一又は異種の、水素原子又は置換もしくは非置換の一価炭化水素基、Ｒ⁵及びＲ⁶は、同一又は異種の置換もしくは非置換の二価炭化水素基であり、結合途中に酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を含んでもよい。Ｒｆは炭素数３以上の一価パーフルオロアルキル基又は一価パーフルオロアルキルエーテル基、ｋは１〜１００の整数、ｍは０〜５００の整数、ｎは１〜１００の整数である。）
【効果】 脂肪族不飽和基を有する含フッ素ポリマーをＵＶ光で硬化させる際の架橋剤として有用である。 （もっと読む）

【解決手段】 酸存在下、極性溶媒を含む溶媒中で、下記一般式（１）で表されるアルコキシシランと水を反応させることを特徴とする下記一般式（２）で表されるかご状オリゴシロキサンを製造する方法。
Ｒ¹Ｓｉ（ＯＲ²）₃ （１）
（Ｒ¹ＳｉＯ_3/2）_n（Ｒ¹ＳｉＯ₂Ｈ）₃ （２）
（一般式（１）及び（２）において、Ｒ¹は水素原子、炭素原子数１〜２０の置換又は非置換の炭化水素基又はケイ素原子数１〜１０のケイ素原子含有基から選ばれる。ＯＲ²は炭素原子１〜６のアルコキシル基である。ｎは２〜１０の整数である。）
【効果】 本発明によれば、酸存在下極性溶媒を含む溶媒中でアルコキシシランを水と反応させることで、高純度かつ容易に目的とするシラノール基を有するかご状オリゴシロキサンを製造できる。また、本発明で製造したかご状オリゴシロキサンは、新規な電子材料、光学材料、電子光学材料、触媒担体、又は樹脂改質剤の反応中間原料として極めて有用である。 （もっと読む）

オキサホスフォリン化合物の性能が付与された、新規なリン含有有機ケイ素化合物、その製造方法およびそれを含有する樹脂組成物、特にポリエステル樹脂またはポリカーボネート樹脂組成物や、コーティング用組成物であって、分子中に、ケイ素原子に結合した下記一般式（１）で表されるリン含有基（Ｘ基）を有することを特徴とするリン含有有機ケイ素化合物、その製造方法およびそれを含有する樹脂組成物やコーティング用組成物などが提供される。
一般式（１）：

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【課題】 α−ハロエステル基を官能基として有するシルセスキオキサン誘導体を得るための従来の製造方法は、末端が水酸基である有機基を有するシルセスキオキサン誘導体を原料とし、これにα−ハロカルボニルハライドを反応させてエステル化する方法であった。しかしながらこの方法は、末端が水酸基である有機基を有するシルセスキオキサン誘導体を得るのに長い工程が必要であるため効率的でなかった。本発明の目的は、このシルセスキオキサン誘導体を効率的に製造する方法を提供することである。
【解決手段】 化合物（３）又は化合物（４）に化合物（５）を反応させることを特徴とする式（１）で示されるケイ素化合物の製造方法。Ｒ^１は水素、アルキル、アリール又はアリールアルキルであり、Ａ^１はα−ハロエステル基を有する基であり、Ｍは１価のアルカリ金属原子である。







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【化１】


式（Ｉ）のヒドロカルビルシリル不飽和カルボン酸エステルの製造方法が記載されており、ここでｎは０〜１０００のジヒドロカルビルシロキサン単位の数を表す。この方法は式（ＩＩ）の不飽和カルボン酸と式（ＩＩＩ）のヒドロカルビルシリル化合物との反応を包含し、該反応は親珪素性触媒の存在下で行われる。
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【課題】水の排除下に貯蔵可能で、水が進入した場合に室温で架橋してエラストマーになるコンパウンドであって、簡単な様式及び方法で製造でき、そして容易に入手可能な出発物質から出発でき、良好に加工可能であり、非常に高い貯蔵安定性及び高い架橋速度に優れ、引張応力を調節可能なシールコンパウンドを製造できる架橋可能なコンパウンドを提供する。
【解決手段】架橋可能なコンパウンドを、式
（ＨＯ）_ａＲ_ｂＳｉＯ_{（４−ａ−ｂ）／２} （Ｉ）
［式中、Ｒは同一又は異なってよく、かつ置換又は非置換の一価の炭化水素基を意味し、前記基はヘテロ原子によって中断されていてよく、ａは０又は１であり、かつｂは０、１、２又は３であるが、但し、該有機ケイ素化合物はａ＝１の単位を１つ有し、かつ２５℃で５〜１０００ｍＰａ・ｓの粘度を有する］の単位から製造する。 （もっと読む）

【課題】耐酸化性に優れると共に、高い性能を発揮できる電解質材料を提供すること。
【解決手段】一般式：（ＸＳｉＯ_1.5）_n…（１）：｛ｎは６以上の整数；Ｘはアルキル基、スルホ基、フェニル基、カルボキシ基、アルコキシ基、−（ＯＣ_mＨ_2m）_p−ＯＣ_mＨ_2m+1（ｍは自然数、Ｐは０以上の整数）並びにこれら置換基の一部水素がイオン交換基で置換された置換基から任意に選択される；Ｘは互いに独立して選択可能であり、少なくとも分子全体で一以上のイオン交換基を含む｝で表される構造をもつポリシロキサン化合物を含有することを特徴とする。シルセスキオキサン骨格をもつ有機−無機のハイブリッド型の化合物は高い耐酸化性を示すことが判明し本発明を完成した。 （もっと読む）

本発明は、新規なシラン、シロキサン、またはポリシロキサンメロシアニンスルホン誘導体、並びにそれらの長期のUVフィルターとしての化粧品的な使用に関する。本発明は、有効量の少なくとも1つのシラン、シロキサン、若しくはポリシロキサンメロシアニンスルホン誘導体またはそれらの誘導体の混合物を含む、局所的な使用、特に皮膚及び/または毛髪の光保護のための化粧品組成物にも関する。
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【化１】


式（ＩＩ）のカルボン酸と式（ＩＩＩ）のヒドロカルビルシリル化合物との反応による式（Ｉ）のヒドロカルビルシリルカルボン酸エステルの製造方法が記載されており、ここでｎは０〜１０００のジヒドロカルビルシロキサン単位の数を表す。反応は親珪素性触媒の存在下で行われる。
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【課題】トリスおよびビス(トリメチルシリルオキシ)シリルアルキルグリセロールメタクリレート(SiAGMA)は、酸素透過性が改善されたソフトコンタクトレンズなどの生産における出発材料として有用性が認められている。その生成法は、大量の望ましくない副産物を生じ、コンタクトレンズなどの原料としてのアクリレートの利用能に影響を与える可能性がある。よって、SiAGMAタイプ化合物などのシリコーン置換グリセリルアクリレートの生成には、当技術分野で、方法の改良の余地がある。
【解決手段】本発明は、ヒドロシリル化触媒の存在下で、フリーラジカル反応性化合物とケイ素含有化合物を含む第一反応混合物を反応させ、ケイ素置換グリセリル(メト)アクリレートを形成する工程を含む方法に関する。 （もっと読む）

【解決手段】 一般式（１）又は（２）
【化１】


〔Ｘは式（ｉ）又は（ｉｉ）
−ＳｉＲ₃ （ｉ）
【化２】


（Ｒはアルキル基、ｑは整数である。）
で示される基であり、Ｒ¹はアルキル基、アリール基、アラルキル基又はアルカリール基、ＱはＸ又はＲ¹と同様の基であり、ｍ，ｎは整数である。〕
で表されるビニル基含有シロキサン化合物とシクロペンタジエンとを反応させることを特徴とする一般式（３）又は（４）
【化３】


（Ｘ，Ｒ，Ｒ¹，Ｑ，ｍ及びｎは上記と同様。）
で表されるノルボルネニル基含有シロキサン化合物の製造方法。
【効果】 工程数が少なく、操作が簡便で、工業的規模で大量に入手可能かつ安価な原料を使用でき、高純度及び高収率であり、単位体積当たりの収量が高く、除去工程の導入や多大な廃棄費用が掛かる反応副生物の発生がない等の利点を有するノルボルネニル基含有シロキサン化合物の製造方法が提供される。 （もっと読む）

本発明はパラジウム化合物を一般式Ｉ、ＩＩもしくはＩＩＩの１個以上の化合物と塩基の存在で反応させることからなるパラジウム（０）含有化合物の製造方法に関する。パラジウム（０）含有化合物は均一触媒として、均一触媒を製造するための前駆物質として、均一触媒をその場で製造するための前駆物質として、または不均一触媒を製造するための前駆物質として使用するために適している。
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【課題】 ゲル化や固化することなくモノマーの純度を向上することができ、重合性が良好で、ポリマーの品質としても高いポリマーを得ることができるシリコーンモノマーの製造方法を提供する。
【解決手段】 下記一般式（ａ）および／または（ａ’）で表されるシリコーンモノマーを含む溶液を、（１）ブチルカテコールを加えて溶媒の留去を行う工程、（２）その後に吸着剤に接触せしめて前記ブチルカテコールを除去する工程、に通過せしめる。
【化１】


（ここで、Ａはシロキサニル基を表す。Ｒ^１は重合性基を有する炭素数１〜２０の有機基を表す。Ｒ^２〜Ｒ^４はそれぞれ独立に水素、炭素数１〜２０の有機基または−Ｘ−Ａを表す。Ｘは炭素数１〜２０の２価の有機基を表す。） （もっと読む）

アルコキシシラン又はシロキサンとオルガノヒドロシラン又はシロキサンとの新規なシリコーン縮合反応及びそのための触媒が記載され権利請求される。 （もっと読む）

本発明は半導体または電気回路での低いｋ誘電性フィルムの製造方法に関し、前記方法は、一般式［（Ｒ_ａＸ_ｂＳｉＯ_１．５）_ｍ（Ｒ_ｃＹ_ｄＳｉＯ）_ｎ］（式中、ａ、ｂは０〜１であり、ｃ、ｄは１であり、ｍ＋ｎは３以上であり、ａ＋ｂは１であり、ｎ、ｍは１以上であり、Ｒは水素原子またはアルキル、シクロアルキル、アルケニル、シクロアルケニル、アルキニル、シクロアルキニル、アリールまたはヘテロアリール基であり、それぞれ置換されているかまたは置換されてなく、Ｘはオキシ、ヒドロキシル、アルコキシ、カルボキシル、シリル、シリルオキシ、ハロゲン、エポキシ。エステル、フルオロアルキル、イソシアネート、アクリレート、メタクリレート、ニトリル、アミノまたはホスフィン基であり、またはタイプＸの少なくとも１つの前記基を有するタイプＲの置換基であり、Ｙはヒドロキシル、アルコキシまたはタイプＯ−ＳｉＺ_１Ｚ_２Ｚ_３の置換基であり、Ｚ_１、Ｚ_２およびＺ_３はフルオロアルキル、アルコキシ、シリルオキシ、エポキシ、エステル、アクリレート、メタクリレートまたはニトリル基であり、またはタイプＲの置換基であり、同じかまたは異なり、タイプＲの置換基が同じかまたは異なるだけでなく、タイプＸおよびＹの置換基もそれぞれ同じかまたは異なり、タイプＹの置換基として少なくとも１個のヒドロキシル基を有する）の不完全に縮合した多面体のオリゴマーシルセスキオキサンをフィルムの製造のために使用することを特徴とし、更にこの方法により製造される低いｋ誘電性フィルムに関する。 （もっと読む）