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Fターム[4H049VQ79]の内容

第4族元素を含む化合物及びその製造 (22,055) | 第4族元素含有化合物上の結合又は基(目的化合物) (4,225) | M含有基 (331) | M*−O−M(例;シロキサン) (260) | M*−O−M(*)−O−M結合(例;ポリシロキサン) (155)

Fターム[4H049VQ79]に分類される特許

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【課題】本発明は、シラン化合物の提供、あるいは液晶セル用ガラス部材に貼着するための光学用接着フィルムであって、剥離性フィルムの剥離安定性に優れ、液晶セル用ガラス部材からの再剥離性や被着体汚染性に優れ、貼着後の耐久性に優れる光学用感圧式接着フィルムを形成し得る新規なシラン化合物を有する感圧式接着剤の提供を目的とする。
【解決手段】一般式(1)で表されるシラン化合物、および活性水素基含有α,β−不飽和単量体(B)と、α,β−不飽和単量体(C)と、下記一般式(2)で表される化合物(2)とを反応させ、単量体(B)と単量体(C)との重合体(D);単量体(B)と化合物(2)との反応生成物であるシラン化合物(E);および、単量体(C)と化合物(2)との反応生成物であるシラン化合物(F);の混合物を得ることを特徴とする、接着剤用樹脂組成物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】高い表面張力低下能を有し、かつ種々の溶剤に対し優れた溶解性を有する含フッ素有機ケイ素化合物及び含フッ素界面活性剤を提供する。
【解決手段】下記一般式(1):


(式中、Rfは1価のパーフルオロアルキル基等であり、Zは2価の有機基であり、Qはポリエーテル基であり、Rは互いに独立に、水素原子又は、炭化水素基であり、Rは水素原子又は水酸基であり、aは1〜2、bは1〜3、cは0〜2)で表される化合物。 (もっと読む)


【課題】 耐熱耐光性に優れ、硬化物の内部応力に起因するクラック、剥離の発生、基材の反り等の問題を解決し、かつ接着性に優れた各種光学材料のコーティング剤、LEDの封止剤やダイボンド剤に有用な硬化性組成物および硬化物を提供する。
【解決手段】 (A)炭素−炭素二重結合を有する有機系化合物、(B)SiH基を有する化合物、(C)ヒドロシリル化触媒 を必須成分として含有する硬化性組成物であって、(B)成分中に(B1)SiH基を1分子中に少なくとも2個有し、Si−O−Si−ORで表される構造を有する化合物を含有することを特徴とする硬化性組成物。ただしRは炭化水素基もしくは、芳香族置換基である。 (もっと読む)


一般式(I):L[(R1an-1(SiO1,5n2ak[(R1bn-1(SiO1,5n2bl[(R1cn-1(SiO1,5n2cm、[式中(R1a,b,cn-1(SiO1,5nは、n=4、6、8、10、12、14、16又は18である多面体オリゴマーシルセスキオキサン(POSS)であり、かつR1a、R1b、R1cは、それぞれ独立して、同様又は異なる分枝鎖又は直鎖のC1〜C20アルキル鎖、シクロアルキル基、C1〜C20アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、ヘテロアリール基及びアリールアルキル基からなる群から選択され、k、l、mは、0又は1(但しk+l+m≧1)であり、R2a、R2b、R2cは、多面体オリゴマーシルセスキオキサン(POSS)をリガンドLに結合するスペーサーであり、リガンドLは、荷電していない電子ドナーである]の多面体オリゴマーシルセスキオキサン(POSS)結合リガンド。 (もっと読む)


【課題】シリコーン含量が大きく、(メタ)アクリル系モノマー等の重合性モノマーと共重合したとき、高い透明度及び酸素透過率が想定できる、眼に適用するのに好適なシリコーンモノマーを提供すること。
【解決手段】 式(1)で表されるシリコーンモノマー。
【化1】


(R1;H、CH3、R2;C1〜6の1価の炭化水素基、n=1〜7、X;-CH2-CH(OH)CH2-又は-CH(CH2OH)CH2-。) (もっと読む)


本発明は、有枝鎖であって機能化したシロキサン、ならびにそのような化合物を製造するための方法を記載する。上記化合物は、種々の用途をもつ。ある好ましい用途は、リソグラフィーのための新規平坦化材料としての用途であり、この場合、機能化した有枝鎖シロキサン(例えば、エポキシ改変された有枝鎖シロキサン)が特に有用である。一実施形態では、本発明は、パターン化した基板の上に機能化した有枝鎖シロキサンを含むスピンコーティング調合物を想定している。
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【課題】超高品質のシラン類および/またはオルガノポリシロキサン類を高空時収量で製造する方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、ヒドロシリル化によってシラン類および/またはオルガノポリシロキサン類を連続して調製するための方法に関し、少なくとも1つの炭素−炭素多重結合を含む少なくとも1つの化合物(A)が、少なくとも1つSi−Hの官能基を含む少なくとも1つの化合物(B)と反応し、反応は反応混合ポンプで行われる。 (もっと読む)


【課題】新規なSi含有膜形成材料、殊にPECVD装置に適したアルキルシラン化合物を含んでなるSi含有膜形成材料を提供する。
【解決手段】少なくとも一つのシクロプロピル基がケイ素原子に直結した構造を有する有機シラン化合物(具体的例示:2,4,6−トリシクロプロピル−2,4,6−トリメチルシクロトリシロキサン)を含有するSi含有膜形成材料を用いてPECVD法によりSi含有膜を製造し、それを半導体デバイスの絶縁膜として使用する。 (もっと読む)


【課題】ハイドロシリレーション(付加反応)の特徴を生かした硬化物を与えることができ、光半導体用封止材などに好適に用いられるイソシアヌル環含有オルガノポリシロキサンを提供する。
【解決手段】下記式(1)で示される、分子中に少なくとも1つのイソシアヌル環を有し、両末端にビニルシロキシ基を有するオルガノポリシロキサン。


(Xは互いに独立に不飽和結合を含まない一価の有機基であり、R、Rは互いに独立にメチル基またはフェニル基であり、Pは1〜30の整数である。) (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、低い誘電率を有する機械強度に優れた電気絶縁膜を作製するためのプレカーサーとして有用なスピロ型シクロトリシロキサン誘導体を提供することにある。
【解決手段】一般式(1)
【化1】


(式中、R、R、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数が1乃至3のアルキル基を表す。但し、R、R、R及びRは同時に水素原子ではない。また破線を伴う実線は単結合又は二重結合を表す。)で表されるシクロトリシロキサン化合物を用いて形成させた膜は、所望の低い誘電率を有し、機械強度に優れた電気絶縁膜となる。 (もっと読む)


【課題】
有機ケイ素化合物及びその製造方法を提供する。
【解決手段】
入手容易なSiH基含ケイ素化合物とトリアリルイソシアヌレートをヒドロシリル化触媒存在下で反応させることによりイソシアヌレート誘導体を製造する。 (もっと読む)


【課題】紫外線(UV)ナノインプリント用のパターン形成材料、あるいは層間絶縁膜形成材料として有用な光硬化性組成物を提供する。
【解決手段】分子内に、M−O−Si(Mはタンタルまたはタングステン原子を表し、Siは珪素原子を表す)結合及び、炭素-炭素不飽和結合を有する有機基を各々少なくとも1つ有する化合物を含む光硬化性組成物。前記化合物が、下記一般式(1)で表される。


(式中、R1、R2、R3は各々独立に有機基または水素原子であり、かつR1、R2、R3の少なくとも一つは炭素-炭素不飽和結合を有する有機基を表し、R4は炭素数1〜4のアルキル基、炭素数4〜6のシクロアルキル基、フェニル基を表す。Mはタンタルまたはタングステンを示す。また、xは一般式(1)で表される化合物のタンタルまたはタングステンの価数であり、mは0〜(x−1)の整数を表す。) (もっと読む)


【課題】副生成物の生成を抑制して目的物であるシルセスキオキサン化合物の含有量が高い(高純度な)生成物が得られ、さらに生成物の純度のばらつきを低減できる、Si−H基含有ケイ素化合物とカルボン酸アリルエステルとを原料としたヒドロシリル化合物の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のヒドロシリル化合物の製造方法は、Si−H基含有ケイ素化合物とカルボン酸アリルエステル化合物とをヒドロシリル化反応させるヒドロシリル化合物の製造方法であって、前記Si−H基含有ケイ素化合物と、前記Si−H基含有ケイ素化合物のSi−H基1モルに対して、アリル基換算で2〜100モル相当の前記カルボン酸アリルエステル化合物とを接触させる接触工程を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】耐候性および耐熱性が良く、高温条件下においても長期にわたり光学的透明性を維持することが可能な硬化物を与える有機・無機ハイブリッド組成物の製造方法を提供すること。
【解決手段】(工程1)(A)化学改質されていない周期律表第5族の金属アルコキシドと(B)前記(A)成分と反応可能なケイ素原子に直接結合する水酸基を有する有機ケイ素化合物との混合物〔成分(A)中のアルコキシ基に対する成分(B)中の水酸基が0.03〜0.50(モル比)〕を無水条件下、かつ、加熱条件下で反応させる工程、
(工程2)前記工程1で得られた反応生成物と(C)オルガノアルコキシシラン〔成分(C)中のアルコキシ基/前記成分(A)中のアルコキシ基が0.5〜5.0(モル比)〕
を水〔成分(A)、(C)中の全アルコキシ基に対して0.15(モル比)以上〕で加水分解して縮合反応させる工程、
(工程3)前記工程2で得られた反応生成物を加熱して低沸物を留去または還流させながら、加水分解と縮合反応を促進させる工程を含むことを特徴とする有機・無機ハイブリッド組成物の製造方法、その製造方法により得られた組成物、および、その組成物により半導体素子を被覆してなる半導体装置である。 (もっと読む)


【解決手段】式(1)で示される遷移金属錯体化合物からなる脂肪族又は脂環式不飽和結合を有するシロキサンの不飽和炭素へのケイ素導入反応用触媒。
t−M−R1s(Yu) (1)
(Mは遷移金属原子、R1はH、アルキル基、アリール基、又はSiR3基。RはH、1価炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又はシロキサン残基。Xは脂肪族不飽和基を有する環状体、トリスピラゾリルボレート、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ポルフィン、又はフタロシアニン。Yはアンモニア分子、カルボニル分子、酸素原子、酸素分子、アミン分子、ホスフィン分子、又はホスファイト分子。0<s≦3、0≦t<2、0≦u≦12、s、tは遷移金属原子の酸化数がII価又はIV価となるような数。)
【効果】本発明の触媒を用いて不飽和結合含有シロキサンと≡Si−H基を反応させると、炭素炭素二重結合を有する有機ケイ素化合物が合成できる。 (もっと読む)


【課題】フッ素化合物の優れた特性を有すると共に、非フッ素系有機化合物との相溶性に優れ、さらに、光硬化可能なフッ素化合物を提供する。
【解決手段】下記式(1)で表わされる、パーフルオロポリエーテル基を有するアクリレート化合物。X−[Z−Rf−Z−X−Z−Rf−Z−X(1)式中、Rfは2価の分子量500〜30000のパーフルオロポリエーテル基であり、Xは互いに独立に、下記式(2)で表わされる基である。
(もっと読む)


本発明は、TTX合成に及びその調製に有用な中間体合成に関する。 (もっと読む)


【課題】
酸無水物変性オルガノポリシロキサンと一級又は二級のアミノ基を有する糖アミンとの反応でアミド結合を介して糖類とオルガノポリシロキサンが結合した、新規のオルガノポリシロキサンを提供し、さらに水を含有する極性溶剤中で前記の反応を行うことにより、糖類に対するオルガノポリシロキサンの導入率を高められる製造方法を提供する。
【解決手段】
一級、又は二級のアミノ基を有する糖アミン化合物と酸無水物変性オルガノポリシロキサンとの酸無水物開環反応によって、アミド結合を介して糖残基とオルガノポリシロキサンが結合していることを特徴とする糖残基を含有するオルガノポリシロキサン。 (もっと読む)


【課題】未反応のアルコキシ基残存量の少ない、分子鎖両末端に水酸基を有する低重合度の直鎖状ジオルガノポリシロキサンを製造する方法を提供する。
【解決手段】(a)一般式(1):
Si(R1)(R2)(OR3)2 (1)
〔式中、R1及びR2は、おのおの独立に、置換もしくは非置換の、アルキル基、アルケニル基、アリール基又はアラルキル基であり、R3は、メチル基又はエチル基である〕
で表されるジアルコキシシランを、該ジアルコキシシランが有するアルコキシ基に対して1.0倍モル以上の量の水を含有するpH1.0〜6.0の酸水溶液と混合し、生成するアルコールを除去しながら加水分解及び縮合を行う工程と、
(b)工程(a)で得られた反応混合物に金属酸化物を添加する工程と
を有することを特徴とする、両末端に水酸基を有する低重合度直鎖状ジオルガノシロキサンの製造方法 (もっと読む)


【課題】 ノルボルナン環を有するテトラカルボン酸二無水物において、エポキシ樹脂硬化剤及びポリイミド用素材として純度管理が可能で工業的に使用することができる、精製されたテトラカルボン酸二無水物のメソ体、ラセミ体を提供するとともに、その分離精製法を提供する。
【解決手段】
5-ノルボルネン-エンド-2,3-ジカルボン酸無水物のヒドロシリル化反応で得られる,メソ体とラセミ体が混合した5,5’-エキソ-(1,1,3,3,5,5-ヘキサメチルトリシロキサン-1,5-ジイル)ビスビシクロ[2.2.1]ヘプタン-2,3-エンド-ジカルボン酸無水物に対して、初めに良溶媒を用いてメソ体を結晶化させて取り出し、次いで良溶媒と貧溶媒の混合溶媒を用いてラセミ体を結晶として取り出す。このように、それぞれを分離して取り出すことによって、ポリイミド用素材として使用可能な融点幅を有するテトラカルボン酸二無水物を得ることができる。 (もっと読む)


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