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Fターム[4H049VR54]の内容

Fターム[4H049VR54]に分類される特許

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【課題】有機金属化合物を精製する方法の提供。
【解決手段】有機金属化合物をトリアルキルアルミニウム化合物および触媒の存在下で加熱することにより有機金属化合物を精製する方法。 (もっと読む)


【課題】金属窒化ケイ素ベース膜、金属酸化ケイ素又は金属酸窒化ケイ素ベース膜を形成させるために好適な前駆体の提供。
【解決手段】次の構造により表される有機金属錯体。


(式中、Mは、元素周期表の4族から選択される金属であり、そしてR1〜4は、同一又は異なって、ジアルキルアミド、ジフルオロアルキルアミド、水素、アルキル、アルコキシ、フルオロアルキル及びアルコキシ、脂環式、並びにアリールから成る群から選択されることができるが、但しR1及びR2が、ジアルキルアミド、ジフルオロアルキルアミド、アルコキシ、フルオロアルキル及びアルコキシである場合には、それらは連結して環を形成することができる。)。関連化合物もまた、開示されている。上記錯体を用いるCVD及びALD堆積法がまた、含まれる。 (もっと読む)


【課題】酸素ガス雰囲気下で粗生成物を処理することにより、粗生成物中に含まれる副生成物を低減でき、MOCVD法で原料として使用したときに、高い成長速度が得られ、優れた気化安定性及び長期成膜安定性を有し、成膜室への汚染を抑えることができ、形成する膜の段差被覆性に優れた、純度の高い有機金属化合物を製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明の有機金属化合物の製造方法は、金属含有物と配位子前駆体とを有機溶媒の存在下で反応させて有機金属化合物、副生成物及び残渣分を含む粗生成物を得る工程と、得られた粗生成物から残渣分及び有機溶媒を除去して濃縮する工程と、濃縮物を酸素ガス雰囲気下、130〜150℃で処理する工程とを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 半導体製造における成膜原料として有用な有機金属アミド錯体の精製方法を提供する。
【解決手段】 一般式:M[N(R)(R)]で示される有機金属アミド錯体の製造において、該有機金属アミド錯体中に含有する塩素を精製除去するに際し、該有機金属アミド錯体中に含有する塩素1当量に対し、1〜100当量のリチウムアルキルアミドを添加し、減圧蒸留を行う(但し、Mは、Hf、Zr、Ti、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Ga、Ge、Sn、またはSbであり、R及びRはメチル基又はエチル基であり、nはMの価数である。)。 (もっと読む)


【課題】気化安定性を向上し得る、有機金属化学気相成長法用原料を提供する。
【解決手段】Hf又はSiのいずれか一方又はその双方を含有するゲート絶縁膜用の酸化膜を形成するためのMOCVD法用原料であって、化合物の一般式がM[(R1)2N]4(但し、MはHf又はSiであり、R1はメチル基又はエチル基である。)で示され、化合物中に不純物として含まれる塩素量が200ppm以下、かつ不純物として含まれる水分量が30ppm以下である有機金属化合物からなる有機金属化学気相成長法用原料。有機金属化学気相成長法用溶液原料を製造することができ、この溶液原料を用いて蒸着法により金属含有薄膜を作製することができる。 (もっと読む)


【課題】ゲルマニウム前駆体、これを利用して形成されたGST薄膜、該薄膜の製造方法及び相変化メモリ素子を提供する。
【解決手段】ゲルマニウム、窒素及びシリコンを含有した低温蒸着用のゲルマニウム前駆体、これを利用して形成された窒素及びシリコンでドーピングされたGST薄膜、該薄膜の製造方法及び相変化メモリ素子である。これにより、低温蒸着用のゲルマニウム前駆体は、窒素及びシリコンを含有しているところ、薄膜、より具体的には、窒素及びシリコンでドーピングされたGST薄膜形成時に低温蒸着が可能である。特に、低温蒸着時、水素プラズマを利用できる。低温蒸着用のゲルマニウム前駆体を利用して形成された窒素及びシリコンでドーピングされたGST相変化膜は、減少したリセット電流を有するところ、これを備えたメモリ素子は、集積化が可能になり、高容量及び高速作動が可能である。 (もっと読む)


【課題】 特にCVD用原料として合致する熱及び/又は酸化による分解特性、熱安定性、蒸気圧等の性質を有するチタニウム、ジルコニウム又はハフニウムプレカーサを含有する薄膜形成用原料を提供すること。
【解決手段】 下記一般式(I)で表される金属化合物を含有してなる薄膜形成用原料。
【化1】
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本発明は、式(H)M(R)[式中、Mは金属又はメタロイドであり、Rは、同じか又は異なり、置換又は非置換、飽和又は不飽和の、少なくとも1個の窒素原子を含む複素環基であり、mは0からMの酸化状態未満の値であり、nは1からMの酸化状態に等しい値であり、m+nはMの酸化状態に等しい値である]で表される有機金属前駆体化合物、この有機金属前駆体化合物を製造する方法、及びこの有機金属前駆体化合物から被膜又はコーティングを製造する方法に関する。 (もっと読む)


【課題】 ポルフィリンの特性を活かした光機能性材料として有用な物質を提供する。
【解決手段】 ポルフィリンが三次元的に広がったデンドリマー構造から成る化合物、例えば下記の式で表わされる車輪状マルチポルフィリンデンドリマー化合物による。下記式中、nは1〜10の整数(好ましくは1〜3の整数)、Xは例えばエステル結合、Zは例えばベンジルエーテル基、Yは例えば水素原子、Mは例えば亜鉛を表わす。この化合物は、可視光領域の光吸収能がきわめて大きく有機溶媒にも優れた溶解性を示す。
【化1】
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本発明は、ホウ素の同位体である11B又は10Bを有する群の少なくとも一つを、金属フタロシアニン核の軸位置に共有結合で支持する金属フタロシアニンに係り;さらに、その調製方法、これを有する医薬組成物及びPDT及び/又はBNCTにおける新生物及び異形成病態の処置への使用に関する。 (もっと読む)


ジルコニウム2-メチル-8-ヒドロキシキノラートを製造する改善された方法は、ジルコニウム塩と2-メチル-8-ヒドロキシキノリンを反応させるステップと、その後、混合塩をベータジケトンと反応させるステップを含む2段階プロセスである。
なし (もっと読む)


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