説明

Fターム[4H049VS48]の内容

Fターム[4H049VS48]に分類される特許

1 - 18 / 18


【課題】表面親水化剤、帯電防止剤、抗菌剤などに適用できる修飾金属酸化物ゾルの製造方法を提供。
【解決手段】金属酸化物ゾルに、化学的にスルホン酸基に変換できる官能基を有するシランカップリング剤を反応させ、その後、酸化して得られる式(1)で表される官能基を有する修飾金属酸化物ゾルを塩基で中和することを特徴とする式(2)で表される官能基を有する修飾金属酸化物ゾルの製造方法。HOS(=O)−R−Si(CH(−O−)3−n(1)、MOS(=O)−R−Si(CH(−O−)3−n(2)。{式中、Mは金属イオン又はアンモニウム(NR)基、Rは炭素数1〜10のアルキレン基(本アルキレン鎖中に、ウレタン結合又はウレア結合を含有していても良い)であり、Rは同一或いは異なってもよい炭素数1〜5のアルキル基、アルカノール基又は水素原子であり、nは0又は1を表す。} (もっと読む)


【課題】簡便な反応で、作業性を大幅に向上させることが可能であり、副生成物が少ないチオエステル基含有有機ケイ素化合物の新規製造方法、及びゴム組成物の硬化物のヒステリシスロスを大幅に低下させる、加水分解性シリル基とチオエステル基とカルボキシル基を同一分子内に有する有機ケイ素化合物、該有機ケイ素化合物を含むゴム用配合剤、該ゴム用配合剤を配合してなるゴム組成物、並びに該ゴム組成物の硬化物を用いたタイヤを提供する。
【解決手段】加水分解性シリル基、チオエステル基及びカルボキシル基を同一分子内に有する有機ケイ素化合物、及び加水分解性シリル基及びメルカプト基を有する有機ケイ素化合物とカルボン酸無水物との反応による、チオエステル基含有有機ケイ素化合物の新規製造方法。 (もっと読む)


【課題】ゴム組成物の硬化物のヒステリシスロスを大幅に低下させると共に、作業性を大幅に向上させることが可能な含硫黄有機ケイ素化合物及びその製造方法、該含硫黄有機ケイ素化合物を含むゴム用配合剤、該ゴム用配合剤を配合してなるゴム組成物並びに該ゴム組成物の硬化物を用いたタイヤを提供する。
【解決手段】1個以上のメルカプト基を有する有機ケイ素化合物とクロロシランとを含窒素複素環化合物の存在下に反応させて、硫黄−ケイ素結合を形成することを特徴とする有機ケイ素化合物の製造方法。 (もっと読む)


【課題】製造過程に要する時間を短縮することが可能なシランカップリング剤の製造方法を提供する。
【解決手段】シラン化合物(A)と、ヒドロキシル基を有し且つ該ヒドロキシル基由来の酸素原子以外の非共有電子対を有する原子を含む化合物(B)とを、金属含有触媒(m)の存在下で反応させて、該ヒドロキシル基由来の酸素原子以外の非共有電子対を有する原子を含むアルコキシル基を有するシラン化合物(C)を得る工程を含むことを特徴とするシランカップリング剤の製造方法である。 (もっと読む)


本発明は、一般式(I)のオルガノシランの製造方法において、
a) 式(II)の(ハロオルガニル)アルコキシシランを、アルカリ金属硫化水素、金属硫化物M2S、金属多硫化物M2g、およびそれらの任意の所望の組み合わせの群から選択される硫化試薬と、および随意に追加的に硫黄と、および/またはH2Sと、有機溶剤中で反応させ、
b1) 引き続き、形成する懸濁液から有機溶剤を除去し、且つ、式(I)のオルガノシランを含む液相、およびMXと式(I)の残留オルガノシランとを含む固相を、残留懸濁液から分離するか、または
b2) 引き続き、式(I)のオルガノシランと有機溶剤と含む液相、およびMXと式(I)の残留オルガノシランとを含む固相を、形成する懸濁液から分離し、且つ、有機溶剤を液相から除去し、
c) MXと式(I)の残留オルガノシランとを含む固相を、水と混合し、且つ、
d) 一般式(I)のオルガノシランを含む、形成する有機相を除去する、オルガノシランの製造方法である。
(もっと読む)


【課題】レーザー光により画像記録が可能であり、機上現像性またはガム現像性、および耐刷性に優れ、特に汚れ性が良化した平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】アルミニウム支持体上に、中間層および画像記録層をこの順に有し、一分子内にアルミニウム支持体と相互作用する官能基を少なくとも一つ有し、且つ重合禁止能を有する化合物を中間層または画像記録層に含有することを特徴とする平版印刷版原版。 (もっと読む)


フルオロケミカルウレタン化合物及びフルオロケミカルウレタン化合物に由来するコーティング組成物が記載される。この化合物及び組成物は、特に、セラミックス又はガラスのような硬質表面を有する基材の処理に使用されてよく、基材に親水性、疎油性をもたらし、洗浄しやすくする。 (もっと読む)


フルオロケミカルウレタン化合物及びこれから得られるコーティング組成物が記載される。本化合物及び組成物は、基材、特にセラミックス又はガラスなどの硬質表面を有する基材に、撥水性、撥油性、防汚性及び/又は防塵性を付与するために処理するのに使用してもよい。本化合物は、式(R−R(Rを有し、式中、Rはフッ素含有基であり、Rはポリイソシアネートの残基である。Rは式−NH−CO−X−R(CHCH−S−R−Si(Y)(R3pを有し、式中、Xは−O−又は−NR−であり、式中、RはH又はC〜Cアルキルであり、Rは多価のアルキレン基若しくはアリーレン基又はこれらの組み合わせであり、このアルキレン基は所望により1個以上のカテナリー酸素原子を含有し、Rは二価のアルキレン基であり、このアルキレン(alkyiene)基は所望により1個以上のカテナリー酸素原子を含有し、Yは加水分解性基であり、Rは一価のアルキル基又はアリール基であり、pは1、2、又は3であり、qは1〜5であり、x及びyはそれぞれ独立して少なくとも1であり、zは1又は2である。 (もっと読む)


シラノール基含有の(メルカプトオルガニル)アルキルポリエーテルシランとシラノール基不含の(メルカプトオルガニル)アルキルポリエーテルシランとを、5:95〜95:5の質量比で含有するケイ素含有のカップリング試薬からなる混合物。該混合物は、エステル交換と加水分解によって製造することができる。該混合物は、ゴム混合物中で使用することができる。 (もっと読む)


【課題】成形時に優れた触媒作用を発現して、硬化性、流動性及び保存性が良好な樹脂組成物を与えることができる潜伏性触媒を、短時間、高収率でイオン性不純物の混入なく提供する。
【解決手段】一般式(1)で表されるプロトン供与体とトリアルコキシシラン化合物とホスホニウム塩化合物とを反応させてホスホニウムシリケート潜伏性触媒を製造する方法であって、金属アルコキシド化合物の共存下で反応させることを特徴とするホスホニウムシリケート潜伏性触媒の製造方法。


[式中、Y1及びY2は、プロトン供与性置換基がプロトンを1個放出してなる基を表す。Z1は、プロトン供与性置換基であるY1H及びY2Hと結合する有機基を表す。] (もっと読む)


【課題】充填剤への結合の際に揮発性アルコールを放出することがなく、同時に充填剤およびポリマーに対して高い反応性を有し、ゴム混合物における改善された加工可能性を生じさせる有機珪素化合物を準備する。
【解決手段】一般式(I)
Q−[S−G−Si(−OCX12−CX13−)3N] (I)
で示される有機珪素化合物。 (もっと読む)


【課題】 ω−[2−(ポリアルキレンオキシ)エチルチオ]アルキルアルコキシシラン誘導体とその製造方法の提供。
【解決手段】(ω−メルカプトアルキル)アルコキシシラン化合物を金属性塩基で処理してω−(アルコキシシリル)アルキルチオレート金属塩に転換し、ポリ(アルキレンオキシ)アルキルエーテルハロゲン化物またはポリ(アルキレンオキシ)ビス(ハロアルキル)エーテルと低い反応温度で脱ハロゲン金属化反応にさせ炭素−硫黄結合させて目的新規化合物を得る。該新規化合物は、分子構造内にSi−OR結合以外にも硫黄元素を含んでいるため親水性機能を向上できる機能性シリコン高分子合成用単量体またはシリコン系界面活性剤原料、有機/無機材料の表面改質剤として有用である。 (もっと読む)


【課題】新規なシラン化合物、及びその製造方法、並びに親水性、耐久性に優れた表面改質剤を提供する。
【解決手段】構造式(1)であわされるシラン化合物。


前記構造式(1)において、R1は、アルキル基を表す。R2は、直鎖又は分岐のアルキレン基を表す。Xは、酸素原子、及びNR3のいずれかを表す。R3は、水素原子、及びアルキル基のいずれかを表す。Yは、アニオン性官能基、及びその塩を表す。nの値は、1〜6を表す。mの値は、0〜1を表す。 (もっと読む)


【課題】経済的に認容可能である短い混合時間及び保証された加工であっても、高い増幅比、低いヒステリシス損失及び高い耐摩擦性、及び同時に、トリメトキシ−及びトリエトキシ−置換メルカプトシランと比較して低減されたアルコールの放出をもたらすメルカプトシランを提供する。
【解決手段】一般式Iのメルカプトシラン。


[式中、Rはアルキルポリエーテル基−O−(R−O)−R(もっと読む)


【課題】 優れた紫外線吸収性を示し、アルコキシシリル基を有する新規な紫外線吸収性基含有有機ケイ素化合物及びその製造方法、並びに耐熱性及び耐水性に優れ、該化合物を安定にコーティング膜中に保持することが可能なコーティング組成物、及びこの組成物の硬化皮膜にて被覆してなる被覆物品を提供する。
【解決手段】 式(1)又は(2)の紫外線吸収性基含有有機ケイ素化合物。
【化1】


[R1はアルキル基又はアリール基、R2はアルキル基、R31は水素原子、ハロゲン原子、水酸基、アルキル基、アリール基又はアシロキシ基、R32〜R34は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基又はアルコキシ基、R35はエステル結合含有二価有機基、R36は二価炭化水素基、aは0〜2、Zは式(3)
【化2】


の基、Rは水素原子又は一価炭化水素基、R2はアルキル基、0<m≦1、0≦n≦2、0≦p<3、0≦q≦3、0<m+n+p+q<4] (もっと読む)


【課題】両末端ビニル基のジエン系化合物とハイドロジェンハロシランをヒドロシリル化反応させて末端ハロシリル化鎖状炭化水素を収率よく迅速に製造する方法、および、末端以外の位置でシリル化された鎖状炭化水素と二重結合の内部転移異性体の副生が抑制されたヒドロシリル化反応を提供する。
【解決手段】両末端にビニル基を有するジエン系化合物とハイドロジェンハロシランを脂肪族三重結合を有しないエーテル化合物存在下でヒドロシリル化反応させる。 (もっと読む)


[(RO)(R(3−X)−Si−M−L−[(RAr−(CR=CRからなる一般式のシラン組成物及びゴム組成物の調製方法を提供する。上式において、RとRは1から約20の炭素原子の炭化水素基であり、Rは水素、1から約20の炭素原子の炭化水素基であり、Mは1から20の2価の炭化水素からなる連結基であり、ケイ素原子と基Lを連結し、Lは1から約20の炭素原子からなる共有結合の連結基、或いは、−O−、−S−、NR−からなる群から選ばれたヘテロ原子の連結基であって、Rは水素又は1から約20の炭素原子の炭化水素基であり、Rは1から12の炭素原子のアルキル基であり、Arは芳香族基であり、qは1から4の整数であり、tとcはそれぞれ独立して0或いは1であり、又、x、y及びzはそれぞれ独立して1から3の整数であり、Lがヘテロ原子の基である場合、tは1である。 (もっと読む)


少なくとも一つの複素環を有し、プロトン交換膜(PEM)の製造に使用できるポリマー、ポリマー先駆体及び他の材料を記載する。代表的な例において、該複素環はフッ素化されたイミダゾール環である。該複素環は低い値のpKaを有するために選択でき、及びトリアゾール環、他の窒素含有複素環又はこれらの誘導体であってもよい。ポリマー及び複合物が優秀なプロトンで伝導性をもって調製された。これら材料の適用は、燃料電池及び他のイオン伝導性用途を含む。 (もっと読む)


1 - 18 / 18