【課題】耐溶剤性、耐吸湿性に優れ、溶剤に触れても基材に対して高い密着性に優れた硬化物を得ることのできる共重合体を提供する。
【解決手段】（１）スチレンのパラ位にエーテル基と結合したエポキシ基を持つモノマー単位と、（２）スチレンのパラ位に−ＣＨ_２−ＣＯＯＨを持つモノマー単位を少なくとも含む共重合体。この共重合体は、下記式（３）で表わされるモノマー単位を含んでいてもよい。
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【課題】ＬＷＲが小さく、かつ、パターン形状に優れたレジストパターンを形成可能である感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のスルホンアミド基を側鎖に有する重合体および
（Ｂ）感放射線性酸発生剤
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】露光ラチチュード、ラインエッジラフネス性能に優れた感活性光線または感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により式（Ｘ）で表される酸を発生する化合物、及び、（Ｂ）式（３）で表される繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、を含有する感活性光線または感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。式中、各記号は所定の原子または置換基を表す。
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【課題】ポストベイク時の硬化膜における結晶の発生を抑制し、ポストベイク時やその後の加熱工程におけるコントラストの低下を十分に抑えることができるカラーフィルター用赤色硬化性樹脂組成物及びこれを用いたカラーフィルター、並びに表示装置を提供する。
【解決手段】多官能エポキシ化合物及び酸発生剤を含む硬化性透明樹脂組成物と、赤色顔料とを配合してなり、酸発生剤が下記式（１）で表されるジアリールヨードニウム塩であるカラーフィルター用赤色硬化性樹脂組成物である。


（式（１）中、Ｒ¹⁰及びＲ¹²はそれぞれ独立に炭素数１〜６のアルキル基等を表し、Ａはアニオンを表し、ｍ及びｎはそれぞれ独立に０〜２の整数であり、ｍ＋ｎは２以下である。）また、上記カラーフィルター用緑色硬化性樹脂組成物を用いて形成された着色層を備えたカラーフィルターである。さらに、上記カラーフィルターを備えた表示装置である。 （もっと読む）

【課題】耐溶剤性および耐水性が共に優れた導電性塗膜を形成できる導電性高分子溶液を提供する。
【解決手段】本発明の導電性高分子溶液は、π共役系導電性高分子と、ポリアニオンと、エポキシエマルジョンと、溶媒とを含有し、エポキシエマルジョンの含有量（固形分換算）が、π共役系導電性高分子とポリアニオンとの合計を１００質量％とした際の１〜５００質量％である。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯ膜に対する接触抵抗が小さい上に耐溶剤性が高い導電性塗膜を形成できる導電性高分子溶液を提供する。
【解決手段】本発明の導電性高分子溶液は、π共役系導電性高分子と、ポリアニオンと、水溶性エポキシ樹脂と、導電性化合物と、溶媒とを含有し、水溶性エポキシ樹脂の含有量が、π共役系導電性高分子とポリアニオンとの合計を１００質量％とした際の１〜５００質量％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】赤外線レーザ露光により高感度で硬化するとともに、プレヒート処理における加熱ラチチュードが広く、低温でプレヒート処理した場合においても、画像形成可能であるとともに、非画像部における残膜の発生が抑制されたネガ型平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】支持体上に、（Ａ）光又は熱により分解して酸を発生する化合物、（Ｂ）下記一般式（Ｉ）で示される架橋剤、（Ｃ）バインダーポリマー、及び、（Ｄ）赤外線吸収剤を含有する画像記録層を備えるネガ型平版印刷版原版である。下記式中、Ｌ^１は、総原子数５０個以下の連結基を表し、Ｒ^１，Ｒ^２はそれぞれ炭化水素基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又は、ニトロ基を表し、Ｒ^３、Ｒ^４はそれぞれ水素原子又は炭化水素基を表す。
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【課題】末端をエテニルベンジル基のような官能基で修飾したポリフェニレンエーテルを含有するポリフェニレンエーテル樹脂組成物において、非ハロゲン系難燃剤を用いて高いＴｇを維持しながら十分な難燃性を備える。
【解決手段】（Ａ）下記式（Ｉ）：


［式中、Ｘはアリール基を示し、(Ｙ)_ｍはポリフェニレンエーテル部分を示し、Ｒ^１〜Ｒ^３は独立して水素原子，アルキル基，アルケニル基またはアルキニル基を示し、ｎは１〜６の整数を示し、ｑは１〜４の整数を示す。］によって表され、且つ数平均分子量が５００〜７０００であるポリフェニレンエーテル樹脂、（Ｂ）架橋型硬化剤、（Ｃ）ホスフィン酸塩系難燃剤、及び（Ｅ）硬化触媒が配合されたことを特徴とするポリフェニレンエーテル樹脂組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、感光性を有するため微細加工が可能であり、希アルカリ水溶液で現像可能であり、低温（２００℃以下）で硬化可能であり、柔軟性に富み、電気絶縁信頼性、ハンダ耐熱性、耐有機溶剤性、難燃性に優れ、硬化後の基板の反りが小さく、封止剤との密着性に優れ、硬化膜からの難燃剤成分のブリードアウトが発生しない感光性樹脂組成物を提供することにある。
【解決手段】 少なくとも（Ａ）分子骨格中にリン原子を含有する末端カルボン酸ウレタンイミドオリゴマー、（Ｂ）ジアミノ化合物及び／又はイソシアネート系化合物、（Ｃ）感光性樹脂、（Ｄ）光重合開始剤を用いることで上記問題点を改善することができる。 （もっと読む）

【課題】良好な耐熱性、耐溶剤性、安定性を備え、且つ光照射および加熱により主鎖および側鎖が同時に分解され、容易に除去可能な分解性硬化樹脂、該樹脂の原料となる硬化性樹脂組成物や、新規なポリヘミアセタールエステル重合体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の分解性硬化樹脂は、本発明のポリヘミアセタールエステル重合体と、重合性ビニル基を分子中に１個以上有するラジカル重合性化合物と、熱又は光酸発生剤とを含む組成物をラジカル開始剤の存在下に硬化させたものであり、接着剤、半導体用の封止剤、プリント配線基板や液晶ディスプレイ用パネル等に有用であり、それら製品のリサイクル性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】アクティブマトリクス駆動用半導体プロセス適合性に優れ、高度な光学性能を有するフィルム状透明複合化基板材料を提供する。
【解決手段】特殊な環状へテロ基構造を樹脂骨格内に有する硬化性透明樹脂（Ａ）と、その他エポキシ化合物（Ｂ）、エポキシ硬化剤（Ｃ）とを熱処理することで得られる硬化樹脂（Ｄ）と、ガラスフィラー（Ｅ）からなるフィルム状複合材料。 （もっと読む）

【課題】表面の平坦性が低い基体であっても、当該基体上に平坦性の高い硬化膜を形成することができ、しかも、透明性が高く、配線電極のパターニング特性が良好なカラーフィルタの保護膜を製造するために好適に用いられる熱硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】熱硬化性樹脂組成物は、〔Ａ〕ビシクロオルトエステル構造を有する重合体、および〔Ｂ〕感熱性酸発生剤を含有する。熱硬化性樹脂組成物は、さらに〔Ｃ〕（ｃ１）不飽和カルボン酸および不飽和カルボン酸無水物よりなる群から選ばれる少なくとも１種と、（ｃ２）オキシラニル基を有する重合性不飽和化合物およびオキセタニル基を有する重合性不飽和化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種を含有してなる重合性不飽和化合物の共重合体を含有することができる。 （もっと読む）

【課題】無機部分の割合が大きく、製造時の安定性および保存安定性が良好であり、オキセタニル基を有する、縮合されたケイ素化合物を含有するカチオン硬化性組成物を提供する。
【解決手段】オキセタニル基を有する特定のケイ素化合物（Ａ）と１個のケイ素原子および４個のシロキサン結合生成基を有するケイ素化合物（Ｂ）とを、ケイ素化合物（Ａ）１モルに対してケイ素化合物（Ｂ）０．３〜２．８モルの割合で、アルカリ性条件において加水分解・縮合反応させて得られるケイ素化合物（Ｃ）、およびカチオン重合開始剤を含有するカチオン硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】電気絶縁性を有し、熱伝導率を高めた高熱伝導性の樹脂材料を提供すること。
【解決手段】側鎖に液晶基を有する二種以上の重合体ブロックから構成されるブロック共重合体であって、重合体ブロックが、スチレン系重合体ブロック、（メタ）アクリレート系重合体ブロック及び共役ジエン系重合体ブロックからなる群から選択されることを特徴とするブロック共重合体である。この液晶基は、安息香酸フェニル、ビフェニル、スチルベン、ジアゾベンゼン、アニリンベンジリデン及びこれらの誘導体からなる群から選択されるメソゲン基と、アルキル基、アルキルエーテル基、アルコシキ基及びアルキルエステル基からなる群から選択されるスペーサーとから構成されることが好ましい。 （もっと読む）

難燃性樹脂組成物は、（Ａ）熱可塑性樹脂１００重量部；（Ｂ）昇華性充填剤（Ｓｕｂｌｉｍａｔｉｏｎａｌ ｆｉｌｌｅｒ）約１〜４０重量部；（Ｃ）難燃剤約１〜３０重量部を含む。前記熱可塑性樹脂組成物は、従来の充填剤の添加による高比重化及び難燃性低下という問題を解消することができる。 （もっと読む）

【解決手段】(A)式(1)の化合物と式(2)の化合物との加水分解縮合で得られる金属酸化物含有化合物、
Ｒ¹_m1Ｒ²_m2Ｒ³_m3Ｓｉ(ＯＲ)_(4-m1-m2-m3) (1)
(Ｒはアルキル基、Ｒ¹〜Ｒ³はＨ又は１価有機基、m1〜m3は０又は１。m1＋m2＋m3は０〜３。)
Ｕ(ＯＲ⁴)_m4(ＯＲ⁵)_m5 (2)
(Ｒ⁴、Ｒ⁵は有機基、m4、m5は０以上の整数、Ｕは周期律表のＩＩＩ〜Ｖ族の元素。)
(B)式(3)又は(4)の化合物、
Ｌ_aＨ_bＸ (3)
(ＬはＬｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ又はＣｓ、Ｘは水酸基又は有機酸基、ａは１以上、ｂは０又は１以上の整数、ａ＋ｂは水酸基又は有機酸基の価数。)
Ｍ_aＨ_bＡ (4)
(Ｍはスルホニウム、ヨードニウム又はアンモニウム、ＡはＸ又は非求核性対向イオン、ａは１以上、ｂは０又は１以上の整数。)
(C)有機酸、
(D)有機溶剤
を含む熱硬化性金属酸化物含有膜形成用組成物。
【効果】本発明組成物で形成された金属酸化物含有中間膜を用いることで、良好なパターン形成ができる。 （もっと読む）

【課題】高い溶媒溶解性を有する芳香族ジアミン含有高分子化合物であって、インクとした時の保存性に優れ、素子に用いた場合に駆動電圧、駆動寿命、発光効率に優れた素子が得られる、芳香族ジアミン含有高分子化合物を提供する。
【解決手段】重量平均分子量が３０００〜１００００００であり、下記式（１）で表される繰り返し単位を有し、かつＳＥＣ（サイズ排除クロマトグラフィー）測定により決定された分子量分布の分散値（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．８０以下であることを特徴とする高分子化合物。


（Ａｒ¹〜Ａｒ⁵は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基、または置換基を有していてもよい芳香族複素環基。Ｘは連結基。） （もっと読む）

【課題】耐熱性、酸素バリア性、透湿性、耐候性、可とう性に優れるポリイソブチレン系光硬化性組成物を提供する。
【解決手段】イソブチレン系重合体、アルケニル基を１つ有する加水分解性シリル基含有化合物、ヒドロシリル基を２つ以上有する化合物をヒドロシリル化反応させることによって新規イソブチレン系重合体組成物を得る。この重合体組成物に光酸発生剤を混合した組成物は、紫外線などの放射光を照射することによって耐熱性、酸素バリア性、透湿性、耐候性、可とう性に優れる硬化物となる。 （もっと読む）

【課題】液浸露光プロセスにおいて、形成するホトレジスト膜の特性に関係なく利用できる保護膜形成用材料、及びこの保護膜形成用材料を用いたホトレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】ホトレジスト膜上に積層される保護膜を形成するための保護膜形成用材料であって、（ａ）アルカリ可溶性ポリマー、及び（ｂ）フッ素系溶剤を含有することを特徴とする保護膜形成用材料。本発明の保護膜形成用材料を用いてホトレジスト膜上に保護膜を形成した場合、保護膜形成用材料中に含まれる成分が各種ホトレジスト膜を溶解することがない。このため、ホトレジスト膜の種類に関係なく、液浸露光プロセスを用いて微細で良好なホトレジストパターンを形成することができる。 （もっと読む）

【課題】
硬化性に優れ、低粘度であり、硬化速度が速く、硬化塗膜の表面硬度及び基材への密着性に優れ、さらに硬化収縮が起こらない硬化性組成物を提供する。
【解決手段】
次の成分（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）
（Ａ）エポキシ樹脂
（Ｂ）下記一般式（１）
【化１】


（式中、Ｒ_１は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｒ_２はエーテル結合
を含んでいても良い炭素数１〜４のアルキレン基を表す）
で示されるビニルエーテル基を有するオキセタン化合物
（Ｃ）カチオン重合開始剤
を含有することを特徴とする液状硬化性組成物。 （もっと読む）