【課題】レジスト材料に好適な、透明性、耐熱耐光性に優れた塗膜を与えうる、感光性の、新規な硬化性組成物を提供する。
【解決手段】Ａ）塩基性化合物、Ｂ）光酸発生剤およびＣ）１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を有する変性ポリオルガノシロキサン化合物を含有することを特徴とする硬化性組成物およびその硬化物。 （もっと読む）

【課題】化学増幅型レジストとして、放射線に対する透明性が高く、かつ解像度が優れるとともに、ドライエッチング耐性、感度、パターン形状等にも優れるのみならず、微細加工時の現像欠陥発生を抑制し、半導体素子の歩留りを著しく向上させることができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸解離性基含有樹脂、
（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、および
（C）分子構造中にシクロデキストリン骨格とフッ素原子とを有し、かつ、¹H NMRから算出した平均分子量が６０００以下である化合物、
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、硬度が高い保護膜を形成することができる保護膜用熱硬化性樹脂組成物を提供することを主目的としている。
【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、バインダー樹脂、多官能性モノマー、および溶剤を少なくとも有し、上記多官能性モノマーが、下記一般式（１）で表されるホスファゼンモノマーを含有するものであることを特徴とする保護膜用熱硬化性樹脂組成物を提供する。

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【課題】導電性及び表面抵抗率に優れる導電膜を形成できるポリチオフェン又はチオフェン共重合体の溶液又は分散液を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）：


で示される構造単位を有するポリチオフェン又はチオフェン共重合体、並びにポリビニルスルホン酸を含んでなる溶液又は分散液、並びに、ポリビニルスルホン酸の存在下、式（ＩＩ）：


で表される３，４−ジオキシチオフェンを重合する工程を含む、前記溶液又は分散液の製造方法。 （もっと読む）

【課題】保護層に対して適度な剥離性と適度な密着性とを発揮するカバーフィルム、およびカバーフィルムと保護層との間に適度な剥離性と適度な密着性とを兼ね備えた凸版印刷用の感光性樹脂構成体を提供すること。
【解決手段】表面に樹脂層４２を有し、該樹脂層が、酸変性成分１〜１０質量％の酸変性ポリオレフィン樹脂と、架橋剤および／またはポリビニルアルコールとを含有し、架橋剤がカルボジイミド化合物および／またはオキサゾリン化合物にて構成され、酸変性ポリオレフィン樹脂１００重量部に対する架橋剤の含有量Ｘ（質量部）と、ポリビニルアルコールの含有量Ｙ（質量部）とが以下の関係式；１≦Ｘ≦５０かつ０≦Ｙ≦１０００；または０≦Ｘ≦５０かつ５≦Ｙ≦１０００；の少なくとも一方を満たすカバーフィルム４。ベースフィルム１、感光性樹脂組成物層２、保護層３、および上記カバーフィルム４の順に積層された構造を有する凸版印刷用感光性樹脂構成体。 （もっと読む）

【課題】フォトレジスト用組成物または反射防止膜用組成物に使用されるのに好適な高分子化合物を強酸性イオン交換性基との反応による化学構造等の変化を生じることなく効率的に金属イオン不純物またはゲル粒子を除去する方法を提供する。
【解決手段】側鎖に架橋剤が付加された高分子化合物を含む溶液を、濾材に強酸性イオン交換基を含まず、かつ、ゼータ電位が生じる電荷調整剤を含む一以上のフィルターを通過させることにより、前記溶液中の金属イオン不純物を除去する方法。 （もっと読む）

【課題】光硬化性と接着性に優れる感光性組成物、それを含むコーティング剤、その塗膜を提供すること。
【解決手段】（Ａ）エポキシ樹脂と、下記一般式（１）の化合物とを共加水分解縮合させた樹脂組成物であって、


（式（１）中、ｎ＝０〜３であり、Ｒ^１は水素原子又は有機基を示す。また、複数のＲ^２は異なってもよい水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を示す。）前記化合物は（Ｂ）ｎ＝１〜２であり、Ｒ^１として、環状エーテル基を有する、少なくとも１種のアルコキシシラン化合物と、（Ｃ）ｎ＝１〜２であり、Ｒ^１として、アリール基を有する、アルコキシシラン化合物とを含み、かつ（２）で表される（Ｂ）及び（Ｃ）の混合指標αが、０．００１〜１９である組成物と、光酸発生剤とを含有する感光性組成物；混合指標α＝（αｃ）／（αｂ）（２）（式（２）中、αｂ：前記（Ｂ）成分の含有量（ｍｏｌ％）、αｃ：前記（Ｃ）成分の含有量（ｍｏｌ％））。 （もっと読む）

【課題】 得られる硬化物に十分なメルト性を得られながら十分な耐熱性が得られる感放射線性組成物、これを用いて形成されるマイクロレンズおよびその形成方法の提供。
【解決手段】 感放射線性組成物は、（Ａ）成分：不飽和二重結合基を有するポリシロキサンと、（Ｂ）成分：上記（Ａ）成分以外のポリシロキサンと、（Ｃ）成分：少なくとも２つ以上のメルカプト基を有する有機化合物と、（Ｄ）成分：感放射線剤と、（Ｅ）成分：溶剤とを含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低熱膨張係数（低ＣＴＥ）、低残留応力、及び強靭性（高伸度）であり、有機溶剤及びアルカリ水溶液に対する溶解性に優れたポリマーを提供する。
【解決手段】下記式（１）の繰り返し単位及び式−［−ＮＨＣＯＺＣＯＮＨＹ（ＯＨ）_２−］−の繰り返し単位を有するポリイミドポリアミド共重合体。
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【課題】多様な環境下においても安定してトナーに摩擦電荷を付与することのできる現像剤担持体に関する。
【解決手段】該現像剤担持体は、基体及び該基体表面に形成された表面層としての樹脂層を有しており、該樹脂層は、結着樹脂としての熱硬化性樹脂、特定の構造を有する２つのユニットを有するアクリル樹脂、及び導電性粒子を含有している。 （もっと読む）

【課題】臭素化亜鉛フタロシアニン緑色顔料を用いた場合に問題となっていた、経時での粘度の上昇やコントラストの低下、及び結晶発生等が改善され、高コントラストで分散安定性に優れ、かつ現像性あるいはインクジェット印刷性能が良好なカラーフィルタ用着色樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）顔料、及び（Ｂ）溶媒を含有し、
（Ａ）顔料が臭素化亜鉛フタロシアニン顔料を含有し、
（Ｂ）溶媒が特定の関係式（０）を満たす、溶媒１〜溶媒ｎのｎ種類の溶媒を含有することを特徴とする着色樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 テント強度に優れ、また、十分な光感度、解像度、密着性、及び剥離特性を有する感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造法を提供する。
【解決手段】 （Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）分子内に少なくとも１つのエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、及び（Ｃ）光重合開始剤、を含有する感光性樹脂組成物であって、前記（Ｂ）成分が、（Ｂ１）下記一般式（Ｉ）で表される化合物と、（Ｂ２）分子内に２つのエチレン性不飽和基、並びに、オキシエチレン基及び／又はオキシプロピレン基を有する化合物と、を含有する感光性樹脂組成物。
【化１】


（一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を示す。） （もっと読む）

【課題】 ハロゲン系難燃剤を用いずに十分な難燃性を確保することができ、且つ十分な耐電食性を有する硬化物を得ることが可能な硬化性樹脂組成物、並びに、これを用いた永久レジスト、プリプレグ、金属張積層板、封止材、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板を提供する。
【解決手段】 樹脂と、エチレン性不飽和結合を有する三価のリン化合物と、を含有する硬化性樹脂組成物。前記エチレン性不飽和結合を有する三価のリン化合物の含有量が、硬化性樹脂組成物の固形分全量を基準として１〜６０質量％であると好ましい。 （もっと読む）

基板、例えば半導体ウエハー等の電子デバイス基板上にポリマー材料を塗布する組成物及び方法を提供する。これらの組成物及び方法は、単一の塗布事象においてポリマーの厚さを操作するのに特に好適である。フォトレジスト厚みをコントロールするそのような方法は、三次元様式で電子回路の層化を容易にするのに用いられる。さらに、発明の組成物は、ポリマー材料から成る厚膜を無機基板上に均一に堆積するために本発明の組成物を効果的に利用することができ、コンベンショナルな系を凌ぐ顕著な利益をもたらす。
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【課題】保存安定性に優れており、Ｓｉ含有量が多く且つレジスト材料の染み込み量が少ないシリコン含有膜を形成することができると共に、裾引き等のないレジストパターンを安定して形成することができる多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物及びシリコン含有膜並びにパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本シリコン含有膜形成用組成物は、（Ａ）テトラアルコキシシラン由来の構造単位（ａ１）、及びヘキサアルコキシジシラン由来の構造単位（ａ２）を含有しており、前記構造単位（ａ１）の含有割合を１００モル％とした場合に、前記構造単位（ａ２）の含有割合が１０〜３０モル％であるポリシロキサンと、（Ｂ）有機溶媒と、を含有するものである。 （もっと読む）

【課題】露光ラチチュード、ラインエッジラフネス性能に優れた感活性光線または感放射線性樹脂組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により式（Ｘ）で表される酸を発生する化合物、及び、（Ｂ）式（３）で表される繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、を含有する感活性光線または感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。式中、各記号は所定の原子または置換基を表す。
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【課題】従来と同じプロセスで成膜可能で、その反射防止膜は効果的に露光光の反射を防止し、更に、高いドライエッチング速度を兼ね備え、微細パターン形成に有用である有機反射防止形成材料を提供する。
【解決手段】一般式(１)で示される繰り返し単位を１種以上有し、露光波長における消光係数(ｋ値)が０．０１〜０．４、屈折率(ｎ値)が１．４〜２．１の範囲の高分子化合物(Ａ)と、芳香環を有し、露光波長における消光係数(ｋ値)が０．３〜１．２の範囲の高分子化合物(Ｂ)とをそれぞれ１種以上含有する反射防止膜形成材料。
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【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、下記一般式（ｂ１−１）で表される化合物を含むレジスト組成物。［式中、Ｒ^５１〜Ｒ^５３はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアリール基又はアルキル基を表し、Ｒ^５１〜Ｒ^５３のうち少なくとも１つは水素原子の一部が下記一般式（ｂ１０−１）で表される基で置換された置換アリール基であり、Ｒ^５１〜Ｒ^５３のうち、いずれか２つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよい。］
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【課題】液浸露光法において用いられる上層膜形成組成物であって、焦点深度を向上させることができ、且つ、良好なパターンを得ることができる上層膜形成組成物および該上層膜形成組成物から得られる上層膜並びに該上層膜を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】フォトレジスト膜の表面上に上層膜を形成するために用いられる上層膜形成組成物であって、該組成物は、前記フォトレジスト膜を現像する現像液に溶解する樹脂成分（Ａ）とアミド基含有化合物（Ｂ）とを含有する上層膜形成組成物である。 （もっと読む）

【課題】解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、ＰＥＢ温度依存性が良好な化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】樹脂（Ａ）と感放射線性酸発生剤（Ｂ）とを含有し、樹脂（Ａ）は第１の樹脂（Ａ１）１００質量部に対して、第２の樹脂（Ａ２）を０．１〜２０質量部含有する混合重合体であり、第１の樹脂（Ａ１）が酸の作用によりアルカリ可溶性となり、且つフッ素原子を含まない重合体であり、第２の樹脂（Ａ２）が側鎖にノルボルナンラクトンエーテル基を有する繰り返し単位（ａ２−１）と、フッ素原子を含有する繰り返し単位（ａ２−２）とを含む。 （もっと読む）