【課題】
【解決手段】本発明は、（Ａ）１個の重合性エチレン性不飽和結合を含む１つ以上の単量体であって、その内の少なくとも１つはシリルエステル官能基を含む単量体、（Ｂ）２個以上の重合性エチレン性不飽和結合を含む１つ以上の単量体、及び（Ｃ）１つ以上の連鎖移動剤の繰り返し単位を含む分岐シリルエステル共重合体に関する。さらに、本発明は、防汚塗料組成物の含有成分としての前記分岐シリルエステル共重合体の使用、ならびに前記分岐シリルエステル共重合体と１つ以上の他の成分を含む防汚塗料組成物に関する。 （もっと読む）

本発明は、１または複数の放射線感受性成分を含むコーティング組成物で基材を被覆するステップと、周期的またはランダムな放射線強度パターンを有する電磁放射線でこの被覆基材を局所処理して潜像を形成するステップと、得られた被覆基材を重合および／または架橋するステップとを有する、ポリマーレリーフ構造体を作製する方法であって、前記コーティング組成物は１または複数のＲＡＦＴ剤を含む、方法に関する。 （もっと読む）

【課題】長鎖のパーフルオロアルキル基を含むことなく優れた液体の表面張力の低下能を発揮するブロック共重合体を、重金属を使用することなく製造できる製造方法、および該製造方法により得られるブロック共重合体を含有する界面活性剤の提供。
【解決手段】チオカルボニルチオ化合物が系中に存在する状態で、（メタ）アクリル酸エステルで表されるモノマーを重合させ、得られる重合体に、さらに、パーフルオロアルキル基含有（メタ）アクリル酸エステルで表されるモノマーを、溶媒不存在下または含フッ素溶媒存在下で重合させるか、またはチオカルボニルチオ化合物が系中に存在する状態で、パーフルオロアルキル基含有（メタ）アクリル酸エステルで表されるモノマーを、溶媒不存在下または含フッ素溶媒存在下で重合させ、得られる重合体に、さらに、（メタ）アクリル酸エステルで表されるモノマーを重合させる。 （もっと読む）

【課題】 各種性能、特に分散性能に著しく優れ、セメント混和剤等の各種用途に有用な成分を与え得るチオール変性単量体混合物、該単量体混合物を用いて得られるポリアルキレングリコール鎖含有チオール重合体、これらを含む分散剤及びセメント混和剤、並びに、セメント組成物を提供する。
【解決手段】 下記一般式（３）及び／又は（４）；
【化１】


（式中、Ｒ¹及びＲ²は、同一又は異なって、有機残基を表す。ＡＧは、少なくとも１種の炭素数２〜１８のアルキレングリコール基を含む有機残基を表す。Ｒ³は、水素原子又は有機残基を表す。）で表される構造を有するチオール変性単量体と、該チオール変性単量体の多量化物とを含むチオール変性単量体混合物である。 （もっと読む）

【課題】活性光線又は放射線、特に、ＫｒＦエキシマレーザー光、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度であり、ラインウイズスラフネス及び疎密依存性が小さく、また、ＥＵＶ光による露光においても感度、溶解コントラストが良好なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】側鎖に芳香環を有する特定の繰り返し単位を含有し、末端に特定の構造を有する樹脂及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

本発明は（コ）ポリマー組成物の多段製造方法である。この方法は、ｉ）第一段に於いて、１種又はそれ以上のモノマーを、任意的に、ゴム、コモノマー、重合開始剤、連鎖移動剤、分解触媒及び／又は溶媒と共に、重合方法の間に安定なフリーラジカルを提供する１種若しくはそれ以上の安定なフリーラジカル前駆体及び／又は１種若しくはそれ以上の安定なフリーラジカルの存在下で、モノマー（類）の（コ）ポリマーへの部分的転化が得られるまで、重合が、誘起フリーラジカル重合機構によって進行するように、重合させる工程並びにｉｉ）第二段に於いて、部分的に転化した反応混合物を、フリーラジカル重合機構によって進行する反応条件下で重合させて、モノマー（類）の（コ）ポリマーへの更なる転化度を得る工程を含む。
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【課題】高い光学特性を有し、側鎖に光硬化性に優れた反応性（メタ）アクリレート基を持ち、加工性に優れ、溶剤可溶性を兼ね備えた新規な多官能ビニル芳香族共重合体とその製造方法を提供する。
【解決手段】モノビニル芳香族化合物及び２官能（メタ）アクリル酸エステルを共重合して得られ、側鎖に２官能（メタ）アクリル酸エステル由来の反応性の（メタ）アクリレート基を含有する構造単位(b1)のモル分率が０．０５以上であり、更に、モノビニル芳香族化合物由来の構造単位(a)を２〜９０モル％、２官能（メタ）アクリル酸エステルの由来の構造単位(b)を９８〜１０モル％を含有し、かつ、Ｍｎが５００〜１００００００であり、Ｍｗ／Ｍｎが１００以下であり、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、ジクロロエタン又はクロロホルムに可溶である可溶性多官能ビニル芳香族共重合体。 （もっと読む）

【課題】マトリックス樹脂が簡便な製造方法によって得られ、真空下で露光する非光リソグラフィプロセスに適用して微細なレジストパターン形成が可能であって、しかも露光時における保護基の脱落が抑制されている高解像度ポジ型化学増幅系レジスト材料を提供する。
【解決手段】フェノール性水酸基の一部又は全部がケタール基によって置換された、ポリ（４−ヒドロキシスチレン）又はその誘導体を含有するポジ型化学増幅系レジスト材料であって、前記ポリ（４−ヒドロキシスチレン）又はその誘導体は、ＲＡＦＴ剤としてのジチオエステル系化合物の存在下、スチレン系モノマーをリビングラジカル重合する工程を有する製造方法により得られる、ポジ型化学増幅系レジスト材料。 （もっと読む）

【課題】遷移金属を含まず、水溶性で且つ疎水性有機溶媒に難溶であり、さらに、酸素不存在下でもラジカル捕捉効果を有し、特にモノマーに対して優れた重合禁止効果を有するラジカル捕捉剤の提供。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるナフタレン誘導体を有効成分とするモノマー用のラジカル捕捉剤。


｛一般式（１）中、Ｘはスルホナート基またはカルボキシラート基を示し、Ｙは、水素原子、アルカリ金属またはアンモニウム基を表す。｝ （もっと読む）

【課題】遷移金属を含まず、水溶性で且つ疎水性有機溶媒に難溶であり、さらに、酸素不存在下でもラジカル捕捉効果を有し、特にモノマーに対して優れた重合禁止効果を有するラジカル捕捉剤を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表されるナフタレン誘導体を有効成分とするモノマー用のラジカル捕捉剤。


｛一般式（１）中、Ｙは、水素原子、アルカリ金属または置換基を有していてもよいアンモニウム基を表す。｝ （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つの水膨潤性の架橋されたコポリマーを含むポリマー性増粘剤組成物、このような組成物を調製するための工程、および、例えば、化粧品用、皮膚用、医薬品用または動物用の製剤中の増粘剤としてのこれらの使用、に関する。本発明の水膨潤性の架橋されたコポリマーは、（ａ）アクリルアミド、（ｂ）アクリルアミドアルキルスルホン酸および／またはその塩、ならびに（ｃ）少なくとも３つのアリル基を含むアミンベースの多官能性の架橋剤を含む混合物から調製される。 （もっと読む）

【課題】ＬＥＲ、パターン倒れ、現像欠陥が改良されたポジ型レジスト組成物の提供。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を含有し、リビングラジカル重合で製造されたことを特徴とする、酸の作用によりアルカリ可溶性となる樹脂、該樹脂を含有するレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法。式中、Ｘ_ａ１は水素原子、アルキル基、またはシクロアルキル基を表す。Ｒは単環の脂環基を含有する酸分解性基を表す。

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【課題】ゲル化を起こすことなく、安定的かつ大量に、ハイパーブランチポリマーを合成すること。
【解決手段】金属触媒の存在下においてモノマーをリビングラジカル重合させることによってハイパーブランチポリマーを製造する際に、Ｒ₁−ＡまたはＲ₂−Ｂ−Ｒ₃で示される
化合物の少なくとも一方を添加するようにした。
ただし、上記化合物中のＲ₁は、水素、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基または炭素数７〜１０のアラルキル基をあらわす。上記化合物中のＡは、シアノ基、水酸基またはニトロ基をあらわす。上記化合物中のＲ₂およびＲ₃は、水素、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数７〜１０のアラルキル基または炭素数２〜１０のジアルキルアミノ基をあらわす。上記化合物中のＢは、カルボニル基またはスルホニル基をあらわす。 （もっと読む）

【課題】高い分岐度を維持したまま目的とする分子量を有するハイパーブランチポリマーを安定的に得ること。
【解決手段】金属触媒の存在下においてモノマーをリビングラジカル重合させることによってハイパーブランチポリマーを製造する際に、下記（１）または（２）の少なくとも一方をおこなうようにした。
（１）Ｒ₁−ＡまたはＲ₂−Ｂ−Ｒ₃で示される化合物の少なくとも一種類を添加する。
ただし、上記化合物中、Ｒ₁は水素、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基または炭素数７〜１０のアラルキル基、Ａはシアノ基、水酸基またはニトロ基、Ｒ₂およびＲ₃は水素、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数７〜１０のアラルキル基または炭素数２〜１０のジアルキルアミノ基、Ｂはカルボニル基またはスルホニル基をあらわす。
（２）反応系に対するモノマーの１回当たりの混合量を、当該反応系に混合するモノマーの全量未満とする。 （もっと読む）

【課題】合成に際してのコアシェル型ハイパーブランチポリマー分子間における架橋に起因するゲル化を防止して、工業スケールでの合成に際してのプロセスの安定化を図ることができるコアシェル型ハイパーブランチポリマーの合成方法を提供すること。
【解決手段】モノマーのリビングラジカル重合を経てコアシェル型ハイパーブランチポリマーを合成するコアシェル型ハイパーブランチポリマーの合成方法であって、モノマーおよびラジカル捕捉剤が存在する反応系において前記リビングラジカル重合をおこない、リビングラジカル重合によって合成された重合物をコア部とし、当該コア部の末端に酸分解性基および酸基を含むシェル部を形成するようにした。 （もっと読む）

【課題】低分子量のヘキサフルオロプロピレン−オレフィンコテロマーの製造方法を提供する。
【解決手段】非晶質ヒドロフルオロオレフィンテロマーの調製をフリーラジカル重合工程を２２５から４００℃の範囲内の温度において４０−７００ＭＰａの圧力下でモノマーでない連鎖移動剤として直鎖，分枝もしくは環式Ｃ１−Ｃ６炭化水素，ジアルキルエーテル，テトラヒドロフラン，ＦＳＯ２Ｃｌ，ＣｌＳＯ２Ｃｌ，芳香族およびシロキサンから成る群から選択するを存在させて行うことで実施する。 （もっと読む）

本発明は、メタクリレート単位ベースの骨格を有するコポリマーの製造方法において、
− 重合開始剤、
− 一次ラジカルを生成可能な少なくとも一種の「ＲＡＦＴ」型の移動剤；及び
− 特にスチレンモノマー又はアクリレートモノマーから選択される少なくとも一種のコモノマー
の存在下で、上記単位の前駆体である一又は複数のメタクリレートモノマーの重合段階を含む方法に関する。本発明はまたこの方法によって得ることが可能なコポリマー、特にブロックコポリマーと、プラスチックの添加剤としてのその使用にも関する。 （もっと読む）

【課題】光ラジカル硬化型インク組成物の不必要な硬化反応に起因する不具合を防止する液体組成物、インクジェット記録方法、インクジェット記録装置及び記録物を提供する。
【解決手段】ラジカル重合禁止剤と、溶剤と、界面活性剤と、を含む液体組成物であって、該ラジカル重合禁止剤の含有量が０．１〜５０重量％であることを特徴とする液体組成物及び光ラジカル硬化型インク組成物の液滴を記録媒体上に吐出するステップと、該液体組成物の液滴を該光ラジカル硬化型インク組成物の液滴が吐出された場所以外の場所に吐出するステップと、紫外線を照射して該記録媒体に付着した液滴を硬化させるステップと、を有することを特徴とするインクジェット記録方法。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像度であり、かつパターン形状、圧縮特性、ラビング耐性、耐熱性などの諸性能に優れたパターン状薄膜を形成することができ、焼成時の昇華物の発生およびＬＣＤ表示における焼き付きが抑制され、負荷荷重に対し塑性変形を起こしにくく、配向膜剥離液などの薬液に対する十分な耐性を備えたスペーサー形成用感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）分子内に２つ以上の重合性不飽和基を含む化合物に由来する重合単位を少なくとも１種含む共重合体、（Ｂ）重合性不飽和化合物および（Ｃ）感放射線性重合開始剤を含有するスペーサー形成用感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

多分岐重合体、官能化した分岐重合体、星形に枝分れした重合体、及び樹枝状にグラフトした重合体を含む分岐重合体である。また、分岐重合体の合成方法とタイヤ部品への分岐重合体の使用方法が含まれる。 （もっと読む）