【課題】ｇ線及びｈ線に対する露光感度が高く、かつ、主フォトスペーサとサブフォトスペーサの両方の形状に優れたフォトスペーサの提供。
【解決手段】（Ａ）分子内に重合性基を有するバインダー樹脂、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）特定のオキシム構造を有する光重合開始剤、（Ｄ）増感剤および（Ｅ）重合禁止剤を含有し、同時に２種以上の独立したパターンの形成が可能なフォトスペーサ用感光性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】易重合性化合物の重合を効率的に抑制することができ、窒素、硫黄、リンや金属などの原子を含まない炭素、水素、酸素のみで構成された環境にやさしく、保存中に着色等の生じない安定な重合禁止剤を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される縮合多環芳香族骨格を有する重合禁止剤。


（ｎは１から４の整数を表し、Ｒはアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシアルキル基、グリシジル基、ヒドロキシアルキル基又はアリールオキシアルキル基を表し、ＯＲ基が複数ある場合のＲは、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。Ｘ、Ｙ及びＺは、各々、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、このうち、ＸとＹは互いに結合して飽和又は不飽和の６員環を形成してもよい。） （もっと読む）

【課題】ビニル化合物の貯蔵、輸送、製造時に重合を防止することを目的とし、低温であってもＮ−オキシル化合物結晶が析出する虞れがなく、取り扱いに優れ、かつ、高い重合防止効果を有するビニル化合物の重合防止剤組成物および該組成物を用いてなるビニル化合物の重合防止方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）Ｎ−オキシル化合物、（Ｂ）芳香族環上に少なくとも1つの水酸基を有する芳香族化合物および（Ｃ）Ｎ−オキシル化合物の溶剤を含有してなるビニル化合物の重合防止剤組成物、およびこの重合防止剤組成物を、ビニル化合物を含む流体に直接、あるいは、溶媒に希釈して添加することを特徴とするビニル化合物の重合防止方法。 （もっと読む）

【課題】エチレン型の不飽和結合を含有するモノマーに対する溶解性が高く、かつ、上記モノマーの重合を防止することができる重合防止剤を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物（一般式（Ｉ）中、Ｒは、置換基を有していてもよい直鎖状または分岐状の炭素数８〜１０のアルキル基である。）を含有する液体の重合防止剤。
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【課題】液相重合を緊急停止する際に塊化物の発生を抑えることができる液相重合反応器内における重合反応を停止させる方法及び重合装置を提供する。
【解決手段】液相重合反応器１内における重合反応を停止させる方法であって、高さの異なる複数の位置において、液相重合反応器１内に重合停止剤を導入する工程を含む。 （もっと読む）

酸素を含有するガスを、（メタ）アクリル酸および／または（メタ）アクリル酸エステルに導通することにより（メタ）アクリル酸および／または（メタ）アクリル酸エステルの重合を防止する方法であって、（メタ）アクリル酸および／または（メタ）アクリル酸エステルが、少なくとも９５％の純度を有しており、かつ液状の凝集状態で存在する方法。 （もっと読む）

エチレン系ポリマーを形成するための高圧重合法は、Ａ．エチレンを含み、任意で連鎖移動剤システム（ＣＴＡシステム）を含む第１供給を第１オートクレーブ反応器帯に投入し、第１帯反応生成物を生産する重合条件で操作する段階であって、第１反応器帯のＣＴＡシステムが移動活性Ｚ１を有する段階；ならびにＢ．（１）第１帯反応生成物の少なくとも一部を、第２オートクレーブ反応器帯または管型反応器帯から選択される第２反応器帯に移動させ、重合条件で操作する段階、ならびに任意で（２）第２反応器帯が移動活性Ｚ２を有するＣＴＡシステムを含むという条件で、第２供給を第２反応器帯に新たに投入し、第２帯反応生成物を生産する段階を、Ｚ１／Ｚ２の比率が１未満であるという条件で含む。
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【課題】着色成分の含有量が僅少であり、保存による着色劣化が軽減されたナフトヒドロキノン化合物の水溶液の製造方法を提供する。
【解決手段】ナフトキノンを溶解し且つ水に実質的に不溶である有機溶媒にナフトキノンを溶解して得た溶液（Ａ）と亜硫酸水素塩または炭酸水素塩の水溶液（Ｂ）とを混合する付加反応工程、ナフトヒドロキノン化合物含有水相を有機溶媒相から分離する分離工程、分離回収されたナフトヒドロキノン化合物の水溶液中に存在する溶剤を除去する脱溶剤工程を順次に含み、更に、付加反応工程より後の任意の位置においてナフトヒドロキノン化合物の水溶液を吸着剤で処理する脱色工程を含み、そして、付加反応工程、分離工程および脱溶剤工程における各溶液および水溶液における溶存酸素濃度を５ｐｐｍ以下に維持し、且つ、前記の何れかの工程にて安定剤として酸化防止剤または還元剤を添加する。 （もっと読む）

【課題】優れた保存安定性と硬化性を兼ね備えた、磁気記録媒体用途に好適な放射線硬化性樹脂および樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】放射線硬化性官能基を含むポリウレタン樹脂および／またはその原料化合物、ならびに下記成分Ｃおよび成分Ｄを含む放射線硬化性ポリウレタン樹脂組成物。
成分Ｃ：フェノール化合物
成分Ｄ：ピペリジン−１−オキシル化合物、ニトロ化合物、ベンゾキノン化合物およびフェノチアジン化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物 （もっと読む）

【課題】エチレン性不飽和モノマーの製造、精製、取扱又は貯蔵の間のモノマーの重合を抑制する方法の提供。
【解決手段】対象エチレン性不飽和モノマーの製造、精製、取扱及び貯蔵に際し、銅含有金属を含む装置を用いて、酸素の存在下に、モノマー、例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルの製造、精製、取扱及び貯蔵の間に使用される装置内のポリマー汚染になる、望ましくない重合を抑制する。 （もっと読む）

【課題】後重合を抑制することにより不純物を削減したアクリロニトリル系ポリマーを、レドックス系触媒を開始剤とした連続重合法にて提供できる。
【解決手段】レドックス系触媒を開始剤とした連続重合法において重合を停止させる際にキレート剤と重合禁止剤を併用して重合を停止させるアクリルニトリル系ポリマーの製造方法であって、重合禁止剤が安定なラジカルを生成するフェノール類、キノン類、ニトロソ化合物、硫黄化合物、ピラゾロン類の少なくとも1種からなり、キレート剤はシュウ酸を含む化合物である。 （もっと読む）

ポリ（トリメチレンエーテル）グリコール組成物の新規（メタ）アクリル酸エステルが提供される。本組成物は、ポリトリメチレンエーテルグリコールのエステル（モノエステル、ジエステルまたはそれらの混合物）と、少なくとも１種の重合抑制剤とを含む。 （もっと読む）

【課題】解像度、及び密着性に優れ、アルカリ性水溶液によって現像することができ、さらに剥離工程において剥離片が溶解可能な感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】本発明に係る感光性樹脂組成物は、（ａ）α，β−不飽和カルボキシル基含有単量体を共重合成分として含む、酸当量で１００〜６００、重量平均分子量が５，０００〜５００，０００の熱可塑性共重合体：２０〜９０質量％、（ｂ）少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を有する付加重合性モノマー：５〜７５質量％、（ｃ）トリアリールイミダゾリル二量体を含む光重合開始剤：０．０１〜３０質量％を含有する感光性樹脂組成物であって、該感光性樹脂組成物の光硬化部が剥離液に可溶であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】硬化性が良好であり、経時保存安定性に優れ、特に硬化後のパターン精度低下抑制の観点で経時保存安定性に優れたナノインプリント用硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合性単量体、（Ｂ）光重合開始剤、および（Ｃ）重合禁止剤を含み、かつ、該重合禁止剤の添加量が該重合性単量体に対して重量で３００ｐｐｍ〜５％であることを特徴とするナノインプリント用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】活性放射線の照射に対して感度が高く、硬化性、及び保存安定性に優れると共に、硬化前後での色変化が小さく、また、硬化後、固体表面に対して高い接着性を有する硬化膜を形成しうる光硬化性組成物、並びに該光硬化性組成物を含むインク組成物を提供することにある。
【解決手段】（Ａ）ラジカル重合性不飽和結合及びスルフィド結合を分子内に有する化合物と、（Ｂ）ラジカル重合性化合物と、（Ｃ）ラジカル重合開始剤と、（Ｄ）下記一般式（ｉ）で表される増感色素と、を含有する光硬化性組成物、並びに該光硬化性組成物を含むインク組成物（一般式（ｉ）中、Ｘは、Ｏ、Ｓ、又はＮＲを表し、Ｒは、水素原子、アルキル基、又はアシル基を表す。ｎは、０、又は１を表す。Ｒ^１〜Ｒ^８は、それぞれ独立に、水素原子、又は１価の置換基を示す。）。
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【課題】早期重合に対して安定化された組成物の提供。
【解決手段】下式Ｉ及びIIで表される安定な立体障害性有機ニトロキシル合物とエチレン性不飽和モノマーを含む早期重合に対して安定化された組成物。例えば１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ベンゾイルオキシピペリジンとスチレンとの１，２−ビス−付加物を含む。
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【課題】液浸露光によるパターニングにおいて、良好にレジスト膜表面を疎水化し、液浸液追随性を良好とするとともに、塗布欠陥、現像欠陥の抑制に効果を示す樹脂、及び、その製造方法、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物を提供することである。
【解決手段】表面に偏在化してレジスト膜の表面を疎水化する、レジスト組成物に添加する樹脂であって、ゲルパーミッションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定される分子量分布において、分子量３万以上の高分子量成分のピーク面積が、全体のピーク面積に対して０．１％以下であることを特徴とする樹脂その製造方法、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】露光及び現像により、高精細で、且つ、矩形又は順テーパーの断面形状を有し、更に、固体表面に対する密着性に優れた着色パターンを形成し得る着色硬化性組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）着色剤、（ｂ）エチレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物、（ｃ）光重合開始剤、（ｄ）重合禁止部位と表面配向部位とが連結してなる化合物、及び（ｅ）溶剤を含有することを特徴とする着色硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】ＴＦＥの蒸留工程（特に、精留工程）において、TFEの自己重合を防止し、かつ、酸素によって高分子量体に変性しない重合禁止剤を提供する。
【解決手段】式：
Ｒ^１−Ａ−Ｒ^２
［式中、Ｒ^１は、炭素数１〜５の炭化水素基、
Ｒ^２は、水素原子または炭素数１〜５の炭化水素基、
Ａは、シクロヘキサジエン環である。］
で示されるシクロヘキサジエン化合物からなる重合禁止剤の存在下にテトラフルオロエチレンを蒸留する方法。シクロヘキサジエン化合物がα−テルピネンまたはγ−テルピネンであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、１００ｎｍ以下の微細パターンの形成においても、ラインエッジラフネス、パターン倒れ、露光余裕度、デフォーカス余裕度が、いずれもバランス良く改良されたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解度が増加する樹脂を少なくとも２種類含有するレジスト組成物であって、（Ａ）成分の樹脂の少なくとも１種類が、硫黄原子を少なくとも２個有する特定構造の連鎖移動剤を用いるリビングラジカル重合により合成された樹脂であることを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）