【課題】燃焼時のドリップ防止性、外観等に優れ、かつ少ない難燃剤の配合量で優れた難燃性を有する難燃性ポリプロピレン樹脂組成物を提供する。
【解決手段】ＭＦＲが０．１〜８０ｇ／１０分、アイソタクチックトライアッド分率（ｍｍ）が０．９５以上の結晶性ポリプロピレン樹脂（Ａ）６０〜９９重量％及び（ｉ）〜（ｖｉ）に規定する要件を満たすプロピレン系重合体（Ｂ）１〜４０重量％からなるポリプロピレン樹脂成分１００重量部に対して、ノンハロゲン系難燃剤（Ｃ）１０〜５０重量部含有することを特徴とする難燃性ポリプロピレン樹脂組成物など。
（ｉ）ＭＦＲが０．１〜１００ｇ／１０分
（ｉｉ）Ｑ値が３．５〜１０．５
（ｉｉｉ）分子量（Ｍ）が２００万以上の成分の比率が０．４〜１０重量％未満
（ｉｖ）ＴＲＥＦにおいて、４０℃以下の温度で溶出する成分が３．０重量％以下
（ｖ）ｍｍが０．９５以上
（ｖｉ）歪硬化度が６．０以上 （もっと読む）

【課題】本発明は、透明性を低下させずに脆さを改善した環状オレフィン系樹脂組成物およびフィルムの提供を目的とする。
【解決手段】（Ａ）少なくとも１種の炭素原子数２〜３０の直鎖状または分岐状のα−オレフィンに由来する構成単位と、（Ｂ）少なくとも１種の特定構造の環状オレフィンに由来する構成単位とからなるα-オレフィン・環状オレフィングラフト共重合体を含む環状オレフィン系樹脂組成物であって、α-オレフィン・環状オレフィン共重合体が、主鎖における環状オレフィンに由来する構成単位の含有率とグラフト鎖における環状オレフィンに由来する構成単位の含有率とが異なる環状オレフィン系樹脂組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】水によって現像が可能であり、耐水性、耐溶剤性、保存安定性及び解像性に優れるスクリーン印刷に好適なスクリーン印刷用感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】ポリビニルアルコールにビニルピロリドンがグラフト重合した重合体を含有してなるスクリーン印刷用感光性樹脂組成物である。前記樹脂組成物は重合度が１００〜４０００、けん化度が７０〜１００ｍｏｌ％であるポリビニルアルコールにビニルピロリドンがグラフト重合した、Ｋ値が１２〜１５０である重合体を含有することが好ましく、前記重合体は、ポリビニルアルコール溶液にビニルピロリドンを配合し、開始剤として過酸化水素、有機過酸化物又はアゾ化合物を用いて重合して得ることができる。 （もっと読む）

本発明は、高い温度条件に対する耐性を示す嫌気硬化性組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】エチレン及びビニルエステル系で、共役させることにより、低温での液体炭化水素、特に石油及び粗油の蒸留で得られる中間留分の濾過性及び流動性を改良する二重目的の添加剤として、液体炭化水素中での溶解度を改良し、粘度を低下させる新規なポリマーを提供する。
【構成】ａ）構造Ａ：−（ＣＨ₂−ＣＨ₂）_n− のエチレン誘導基、ｂ）構造Ｂ：- (CH₂-CHOCOR₁)_m-x- の基、ｃ）構造Ｃ：- (CH₂-CHOH)_x1-の基及びｄ）構造Ｄ：- (CH₂-CHG)_x2- 又はＤ´： ₂C(OCOCH3)Q)_x2-の基を含むコポリマー。 （もっと読む）

【課題】共有結合した末端ハロゲンを含まず、触媒として使用された遷移金属を好ましくは可能な限り容易かつ完全に除去することができるポリシロキサンブロックコポリマーを提供すること。
【解決手段】本発明は、式Ａ［ＬＢ（Ｓ）Ｑ］_ｍ（式中、Ａは、ポリシロキサンブロックであり、Ｌは、２価の有機結合基であり、Ｂは、ラジカル重合性モノマーから構成されるポリマーブロックであり、Ｓは、硫黄原子であり、Ｑは、１価の有機基であり、ｍは、１〜５０の整数である）のポリシロキサンブロックコポリマー、その製造方法、および化粧またはパーソナルケアにおけるその使用に関する。 （もっと読む）

【課題】成形外観が良好で、軽量、機械的強度に優れ、かつ燃焼時に無機フィラー由来の残渣成分が無いという射出成形体用プロピレン系樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】ポリプロピレン（Ａ１）４０〜８０重量％、プロピレン系ブロックポリマー（Ａ２）１〜１０重量％、ビニル結合含有ニトリル系化合物・芳香族ビニル化合物共重合体（Ｂ）１０〜５０重量％、エラストマー成分（Ｃ）１０〜３０重量％から構成される、射出成形体用プロピレン系樹脂組成物。但し（Ａ２）はポリプロピレン成分であるブロック（ａ）と、溶解度パラメーターが１８〜２５Ｊ/mの範囲にあるビニルモノマーの重合体残基であるブロック（ｂ）を構成単位とし、前記ブロック（ａ）とブロック（ｂ）とが互いに共有結合で結ばれている。 （もっと読む）

【課題】小さな電荷消失および高い電荷密度を有するフッ素化エレクトレット材料を得ることができるグラフトポリマーを提供する。
【解決手段】６０℃から２５０℃のガラス転移温度および４００から３０００００の分子量を有することを特徴とする環状オレフィンポリマーとその環状オレフィンポリマーにグラフトされたフルオロカーボンアルキル基とを含むグラフトポリマーおよび組成物である。 （もっと読む）

【課題】遷移ノイズを低減させ、高い生産性を有する磁気記録媒体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板に、マイクロコンタクトプリンティングにより重合開始剤を固定化する重合開始剤固定化工程と、前記基板に固定化された前記重合開始剤に重合性不飽和結合を有する化合物を接触させてグラフト重合を行うことによりグラフトポリマーのパターンを形成するパターン形成工程と、前記パターンに、ＣｕＡｕ型またはＣｕ_３Ａｕ型強磁性規則合金を形成し得る合金粒子を含有する合金粒子含有液を塗布し、更にアニール処理をすることにより、物理的に独立した複数の磁性領域を形成する磁性領域形成工程と、を有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】エマルジョンポリマーフィルムを有する複合体の提供。
【解決手段】本発明は、基体および多段ラテックスポリマーエマルジョンフィルムを含む複合体に関する。 （もっと読む）

【課題】安定的かつ大量に、コアシェル型ハイパーブランチポリマーを合成すること。
【解決手段】金属触媒の存在下においてモノマーをリビングラジカル重合させることによってコアシェル型ハイパーブランチポリマーを合成する際に、リビングラジカル重合によって生成されたコアシェル型ハイパーブランチポリマーをコア部とし、当該コア部に酸分解性基を導入することによりシェル部が形成されたコアシェル型ハイパーブランチポリマーおよび酸触媒が存在する反応系を加熱環流することによって、シェル部を形成する酸分解性基の一部を酸触媒を用いて分解して酸基を形成する。酸基の形成に際しては、酸触媒として、シェル部が形成されたコアシェル型ハイパーブランチポリマーを溶解するとともに加熱還流時の温度では揮発しない物質を用いるようにした。 （もっと読む）

【課題】合成に際して排出される廃液量の低減を図りつつ、安定的かつ大量にコアシェル型ハイパーブランチポリマーを合成すること。
【解決手段】金属触媒の存在下におけるモノマーのリビングラジカル重合を経てコアシェル型ハイパーブランチポリマーを合成する際に、リビングラジカル重合によって合成されたハイパーブランチポリマーをコア部とし、コア部に酸分解性基を導入することにより形成されたシェル部における酸分解性基の一部を酸触媒を用いて分解して酸基を形成したコアシェル型ハイパーブランチポリマーを形成する。その後、コアシェル型ハイパーブランチポリマーを有機溶媒に溶解させた溶液と当該溶液における有機溶媒の量に対して所定割合となる量の超純水とを混合することにより、溶液と超純水との混合溶液中にコアシェル型ハイパーブランチポリマーを析出させ、析出されたコアシェル型ハイパーブランチポリマーを混合溶液から抽出するようにした。 （もっと読む）

【課題】高い分岐度を維持したまま目的とする分子量を有するハイパーブランチポリマーを安定的に得ること。
【解決手段】金属触媒の存在下においてモノマーをリビングラジカル重合させることによってハイパーブランチポリマーを製造する際に、下記（１）または（２）の少なくとも一方をおこなうようにした。
（１）Ｒ₁−ＡまたはＲ₂−Ｂ−Ｒ₃で示される化合物の少なくとも一種類を添加する。
ただし、上記化合物中、Ｒ₁は水素、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基または炭素数７〜１０のアラルキル基、Ａはシアノ基、水酸基またはニトロ基、Ｒ₂およびＲ₃は水素、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、炭素数７〜１０のアラルキル基または炭素数２〜１０のジアルキルアミノ基、Ｂはカルボニル基またはスルホニル基をあらわす。
（２）反応系に対するモノマーの１回当たりの混合量を、当該反応系に混合するモノマーの全量未満とする。 （もっと読む）

【課題】反応溶液中の金属成分を容易に除去することができるハイパーブランチポリマーの合成方法を提供すること。
【解決手段】モノマーのリビングラジカル重合を経てハイパーブランチポリマーを合成する際に、リビングラジカル重合をおこなう反応系における溶媒に不溶な担持体に担持された金属触媒の存在下においてリビングラジカル重合をおこない、重合工程後に担持体を抽出するようにした。これによって、反応溶液への金属の溶解を防止するとともに、反応溶液中から担持体を抽出することによって反応溶液中の金属触媒を容易に除去することができる。 （もっと読む）

【課題】反応性を低下させることなく金属触媒の量を低減し、高い分岐度を有するハイパーブランチポリマーを簡便に合成すること。
【解決手段】ハイパーブランチポリマーの合成に際して、第１の金属触媒存在下、リビングラジカル重合可能なモノマーを重合することによりコア部を製造する第１の工程と、第２の金属触媒存在下、第１の工程で得られたコア部に酸分解性基を導入することによりシェル部を形成する第２の工程と、第２の工程において形成されたハイパーブランチポリマーにおけるシェルを構成する酸分解性基の一部を、酸触媒を用いて分解して酸基を形成する第３の工程と、を含み、第１および第２の工程においては、第１または第２の金属触媒とともに還元剤を添加するようにした。 （もっと読む）

【課題】光リソグラフィを中心としたナノファブリケーション、特に電子線、ＥＵＶリソグラフィに好適な、密着性、感度、及び表面平滑性を向上させたコアシェル型ハイパーブランチポリマーをベースポリマーとして含み、超ＬＳＩ等の半導体装置製造用の微細パターンを形成することが可能なレジスト組成物を提供する。
【解決手段】コアシェル型ハイパーブランチポリマーにおけるシェル部に、スルホニル基、ホスホネート基、ホスフィネート基又はホスフェート基で表される極性基を有するモノマーからなる繰り返し単位の少なくとも１種を含有する。 （もっと読む）

【課題】高度に制御された構造を有するハイパーブランチポリマーを、安定した収量を確保しつつ、簡易に大量合成すること。
【解決手段】金属触媒の存在下におけるモノマーのリビングラジカル重合を経てハイパーブランチコアポリマーを合成する際に、リビングラジカル重合によって合成された重合物が存在する反応系から金属触媒を除去し、金属触媒が除去された反応系から微量金属成分を除去してから、微量金属成分が除去された反応系における重合物と前記モノマーとを分離するようにした。 （もっと読む）

【課題】光リソグラフィを中心としたナノファブリケーション、特に電子線、ＥＵＶリソグラフィに好適な、密着性、感度、及び表面平滑性を向上させたコアシェル型ハイパーブランチポリマーを得ること、及び、当該ハイパーブランチポリマーをベースポリマーとして含み、超ＬＳＩ等の半導体装置製造用の微細パターンを形成することが可能なレジスト組成物を提供する。
【解決手段】特定の式で表わされるポリマーをコア部と特定の式で表わされるモノマーから誘導される繰り返し単位の少なくとも１種を含有するシェル部からなる事を特徴とするコアシェル型ハイパーブランチポリマー。 （もっと読む）

【課題】導電性及びに機械物性に優れた導電性オレフィン系重合体を提供する。
【解決手段】（１）炭素原子数２〜２０のオレフィンから選ばれる少なくとも１種以上のオレフィンに由来する繰り返し単位を主たる構成単位とするオレフィン連鎖からなる重合体セグメント、（２）水溶性（メタ）アクリル酸系モノマーに由来する繰り返し単位を主たる構成単位とするモノマー連鎖からなる重合体セグメントからなるグラフト型ブロックポリマー（Ａ）に対して、（Ｂ１）アルカリ金属の塩もしくはアルカリ土類金属の塩、または（Ｂ２）界面活性剤を含有してなることを特徴とする導電性オレフィン系重合体。 （もっと読む）

【課題】機械物性などに悪影響を及ぼすことなく、極性セグメントを有する、新規なオレフィン系重合体を提供する。
【解決手段】（１）主鎖骨格である、炭素原子数２〜２０のオレフィンから選ばれる少なくとも１種以上のオレフィンに由来する繰り返し単位を主たる構成単位とするオレフィン連鎖からなる重合体セグメント、（２）側鎖骨格である、水溶性（メタ）アクリル酸系モノマーに由来する繰り返し単位を主たる構成単位とするモノマー連鎖からなる重合体セグメントからなる、グラフト型オレフィン系重合体。 （もっと読む）