【課題】高い柔軟性を示し、且つ高耐熱性、高感度で、高い解像度が可能であると共に、さらに感光剤の溶解性及び塗布性が改良されたノボラック型フェノール樹脂及びその製造方法、並びにそれを用いた感光性組成物（特にフォトレジスト組成物）を提供する。
【解決手段】ｍ−クレゾール及びｐ−クレゾールの少なくとも１以上を含有する１価フェノール成分（ａ）と、炭素数が３以上の脂肪族ポリアルデヒド（ｂ１）と炭素数が２以上の脂肪族モノアルデヒド（ｂ２）とを含有するアルデヒド成分（ｂ）とを縮重合反応して得られるノボラック型フェノール樹脂であって、ノボラック型フェノール樹脂のモル比［ポリアルデヒド（ｂ１）に起因するセグメント／モノアルデヒド（ｂ２）に起因するセグメント］が、８０／２０〜１０／９０であることを特徴とするノボラック型フェノール樹脂である。 （もっと読む）

【課題】高い植物由来率をもち、硬度、破断強度及び破断伸びに優れた加硫物を与え得る混練性良好なゴム組成物が得られる固形レゾール型バイオマスフェノール樹脂を提供する。また、硬度、破断強度及び破断伸びに優れた加硫物が得られるゴム組成物を提供する。
【解決手段】本発明の固形レゾール型バイオマスフェノール樹脂は、植物由来率が３０質量％以上、かつ重量平均分子量が１０，０００以上であることを特徴とする。本発明のゴム組成物は、上記レゾール型バイオマスフェノール樹脂と、ゴムとフィラーとを含有する。 （もっと読む）

【課題】３層レジストプロセス用下層膜として反射率を低減でき（反射防止膜として最適なｎ値、ｋ値を有し）、埋め込み特性に優れ、パターン曲がり耐性が高く、特には６０ｎｍよりも細い高アスペクトラインにおけるエッチング後のラインの倒れやよれの発生がない下層膜を形成できるレジスト下層膜材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、下記一般式（１−１）及び／又は（１−２）で示される１種類以上の化合物と、水酸基を有するベンズアルデヒド、及び／又は、水酸基を有するナフトアルデヒドの１種類以上の化合物及び／又はその等価体とを縮合することにより得られるポリマーを含有するレジスト下層膜材料。
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【課題】半導体やＬＣＤを製造する際のリソグラフィーに使用されるフォトレジスト用として、高耐熱、高感度、高残膜率、高解像度なフォトレジストの製造を可能にするノボラック型フェノール樹脂を提供すること。
【解決手段】ｍ−クレゾール及び／又はｐ−クレゾールを含有する１価フェノール成分（ａ）と、２価フェノール類び／又は３価フェノールを含有する多価フェノール成分（ｂ）と、アルデヒド成分（ｃ）とを反応して得られるノボラック型フェノール樹脂であって、１価フェノール成分（ａ）と多価フェノール成分（ｂ）の質量割合（ａ）／（ｂ）が９９／１〜５０／５０であり、アルデヒド成分（ｃ）が、ポリアルデヒド（ｃ１）及びホルムアルデヒド（ｃ２）を含有し、アルデヒド成分（ｃ）における、ポリアルデヒド（ｃ１）とホルムアルデヒド（ｃ２）とのモル比（ｃ１）／（ｃ２）が５／９５〜９５／５であることを特徴とするノボラック型フェノール樹脂。 （もっと読む）

【課題】半導体やＬＣＤを製造する際のリソグラフィーに使用されるフォトレジスト用として、高耐熱、高感度、高残膜率、高解像度なフォトレジストの製造を可能にするノボラック型フェノール樹脂を提供すること。
【解決手段】ｍ−クレゾール及び／又はｐ−クレゾールを含有するフェノール成分（ａ）と架橋成分（ｂ）とを反応して得られるノボラック型フェノール樹脂であって、架橋成分（ｂ）が、カルボニルオキシ基を有するアルデヒド及び／またはケトン（ｂ１）並びにポリアルデヒド（ｂ２）を含有し、架橋成分（ｂ）における、カルボニルオキシ基を有するアルデヒド及び／またはケトン（ｂ１）とポリアルデヒド（ｂ２）とのモル比（ｂ１／ｂ２）が５／９５〜９５／５であることを特徴とするノボラック型フェノール樹脂。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、フェノール樹脂に脂肪鎖を導入することにより、ゴムに配合した場合、ゴムとの相溶性に優れ、タイヤのウェットグリップ性能および低転がり抵抗性を高度に両立することに貢献するゴム配合用フェノール樹脂を得ることを目的とする。
【解決手段】 芳香環に炭素数２〜１０のアルキル鎖を有するアルキルフェノール類をフェノール類全体に対して５０モル％以上含むフェノール類と、ジアルデヒド類をアルデヒド類全体に対して５０モル％以上含むアルデヒド類との反応によって得られるものであることを特徴とするフェノール樹脂と、このフェノール樹脂を配合してなるゴム配合物。 （もっと読む）

【課題】 優れた耐熱性と良好な感度を併せもつフォトレジスト用樹脂組成物に用いることができるノボラック型フェノール樹脂と、これを用いたフォトレジスト用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 フェノール類とジヒドロキシベンゼン及びその誘導体と２種類のアルデヒド類とを酸性触媒のもとで反応させて得られるノボラック型フェノール樹脂であって、フェノール類の組成がメタクレゾール５０〜９０重量％、パラクレゾール１０〜５０重量％で、２種類のアルデヒド類の内１種が芳香族ジアルデヒド、もう１種がホルムアルデヒドであることを特徴とするノボラック型フェノール樹脂。 （もっと読む）

【課題】作業性が良好で、現像性に優れ、かつ、その硬化物において、電子部品などに用いられる際に要求される良好な電気特性や、高い耐湿熱性などの信頼性を得ることが可能な硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】硬化性樹脂組成物は、フェノール樹脂とアルキレンオキサイド又はシクロカーボネートとを反応させて得られる反応生成物に不飽和基含有モノカルボン酸を反応させ、得られる反応生成物に多塩基酸無水物を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性樹脂と光重合開始剤とを含有する。 （もっと読む）

【課題】 硬化時に有害ガスを発生せず、生産安定性に優れ、さらに硬化性及び強度に優れたフェノール樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 レゾール型フェノール樹脂及びノボラック型レゾルシン樹脂を必須成分として含有し、前記レゾール型フェノール樹脂のジメチレンエーテル基量が、フェノール類に由来する芳香環同士を結合しているアルデヒド類に由来する全結合基に対して、２０〜８０ｍｏｌ％であることを特徴とするフェノール樹脂組成物であり、前記ノボラック型レゾルシン樹脂が、フェノール樹脂組成物全体に対して、１〜５０重量％であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 ゴムに配合した場合、ゴムとの相溶性に優れ、靭性や伸びの低下を招くことなくゴム配合組成物に高い弾性率を付与することができ、また、ゴム配合組成物混練時の粘度上昇を抑え作業性を改善できる変性フェノール樹脂とその製造方法、および変性フェノール樹脂を配合してなる変性フェノール樹脂組成物とゴム配合組成物を提供する。
【解決手段】 フェノール樹脂が、グリシジルエーテル基を有するエチレン系コポリマーによって変性されていることを特徴とする変性フェノール樹脂であり、変性フェノール樹脂における、エチレン系コポリマーによる変性率は、変性フェノール樹脂に対して１〜５０重量％であることが好ましい。また、上記の変性フェノール樹脂を配合してなるゴム配合組成物である。 （もっと読む）

【課題】
エポキシ樹脂との硬化性において良好な硬化性を示し、且つその硬化物が耐熱性を有しながら、従来技術のテトラキスフェノールエタン骨格を含有するフェノール樹脂と比較し、低溶融粘度のテトラキスフェノールエタン骨格を含有するフェノール樹脂を提供することにある。
【解決手段】
フェノール類とジアルデヒド類およびホルムアルデヒドを含有する架橋基化合物とを反応させることを特徴とするフェノール樹脂の製造方法およびそのフェノール樹脂により解決される。 （もっと読む）

【課題】フェノール類とアルデヒド類とを温和な条件下で反応させて、低分子量のノボラック樹脂を効率的に製造する方法を提供する。
【解決手段】式（Ｉ） Ｂ−（ＯＲ）₃ （Ｉ）
（式中、Ｒは、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基を示す。）で表されるで表されるホウ素化合物およびｐＫａが５．０以下の酸を含む触媒の存在下、フェノール類とアルデヒド類とを反応させるノボラック樹脂の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 本発明はフェノール類またはフェノール誘導体と芳香族アルデヒドとを、温和な条件下で反応させて、効率的にノボラック樹脂を製造する方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】オルソヒドロキシベンズアルデヒド類とフェノール性芳香族化合物の少なくとも１種を、ホウ酸の存在下で反応させるノボラック樹脂の製造方法。前記オルソヒドロキシベンズアルデヒド類としては、サリチルアルデヒド、２，３−ジヒドロキシベンズアルデヒド、２，４−ジヒドロキシベンズアルデヒド、２，５−ジヒドロキシベンズアルデヒド、およびメチルサリチルアルデヒドなどが、また、フェノール性芳香族化合物としては、フェノール、クレゾール、エチルフェノール、キシレノール、ビスフェノールＡ、アニソール、パラキシレングリコールジメチルエーテル、ならびにジフェニルエーテルなどが挙げられる。さらにホルムアルデヒド類を共存させてもよい。 （もっと読む）

【課題】新規なフォトレジスト組成物を有することが望まれる。優良な溶解速度およびフォトスピード特性を示す新規なフォトレジストを有することが、特に望まれる。
【解決手段】放射線感受性成分および少なくとも２種の異なるノボラック樹脂を含む、フォトレジスト組成物が提供される。一態様において、本発明のフォトレジストは、例えば水性現像溶液中で１秒あたり８００オングストロームを超えるなど、顕著に高い溶解速度を示す。別の態様において、本発明のフォトレジストは、例えば１００ｍＪ／ｃｍ^２以下などの、良好なフォトスピードを示すことができる。 （もっと読む）

【課題】未反応フェノール類の含有率が低く、かつ高分子量でオルソ−オルソ結合を多く含むハイオルソノボラック樹脂を提供すること。
【解決手段】フェノール類と弱酸性触媒および有機溶剤の存在下、アルデヒド類を逐次的に添加すると共に、系内の水分を除去しつつ反応させることを特徴とする高分子量ハイオルソノボラック樹脂の製造方法。さらに未反応フェノール類の減圧蒸留による除去工程が設けられ、当該除去工程における蒸留温度が１８０℃以下で、かつ真空度が６６６６
Ｐａａｂｓ（５０ｍｍＨｇａｂｓ）以下とする。
本発明方法で得られる高分子量ハイオルソノボラック樹脂の全メチレン結合に対するオルソ−オルソ結合比率が７５％以上である。 （もっと読む）

【課題】 従来のゴム配合用樹脂よりも、ゴムに配合した際の作業性に優れ、合成ゴムに対し、高い粘着性を付与し、高い粘着性が径時で維持することができるゴム配合用樹脂を提供することにある。
【解決手段】 本発明は、炭素数１〜１８のパラ置換のアルキル基を有するフェノール類と、２種類以上のアルデヒド類とを合成することを特徴とするゴム配合用樹脂により、作業性が改善され、前記樹脂をゴムに配合することにより高い粘着性が得られ前記課題を解決した。 （もっと読む）

レゾルシノール-アルデヒド樹脂の安定化方法は、レゾルシノール-アルデヒド樹脂を、酸触媒又は塩基触媒の実質的な非存在下、約130℃〜約180℃の温度で、水溶液中で安定な該樹脂を与えるのに十分な時間、加熱することを含み、ここで、該加熱前のレゾルシノール-アルデヒド樹脂はノボラック樹脂である。安定化樹脂は、多くの役立つ用途を有する。例えば、それらは、エーロゲル及びキセロゲルの製造に用いることができる。また、それらは、ゴムとタイヤのタイヤコード、ベルト又はホースとの間の接着力を改善する浸漬溶液の製造に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】高感度かつ高解像度であり、現像ラチチュードも広く、安価なポジ型感光性組成物及びパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）酸の作用により分解する基を有し、分解後、アルカリ水溶液に対する溶解性が増大するノボラック樹脂、及び（Ｃ）光の作用により酸を発生させる化合物を少なくとも含むポジ型感光性組成物である。該（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が、少なくとも１つのフェノール性水酸基及び少なくとも１つのカルボン酸基を有する樹脂である態様、該（Ｂ）のノボラック樹脂中の少なくとも一部の水酸基が、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニル基、及びシリル基の少なくともいずれかで置換されている態様などが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ゴムに配合した場合、靭性や伸びの低下を招くことなくゴム配合物に高い機械的強度を付与することができる液状ゴム類によって変性されたゴム変性フェノール樹脂を提供する。
【解決手段】 液状ゴム類によって変性されたゴム配合用ゴム変性フェノール樹脂であって、前記液状ゴム類が、ジエン系ゴム、シリコーン系ゴム、ウレタン系ゴム、多硫化ゴムであることが好ましく、ジエン系ゴムがポリブタジエンであることが特に好ましい。前記変性フェノール樹脂における前記液状ゴム類の含有量は、前記変性フェノール樹脂全体に対して、１〜５０重量％であることが好ましい。また、前記のゴム配合用ゴム変性フェノール樹脂を配合してなるゴム配合物である。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、高耐熱性・高解像度・高感度を兼ね備え、作業性を向上させたフォトレジスト用ノボラック樹脂およびそのの製造方法ならびにそれから得られるフォトレジスト用ノボラック樹脂を提供することを目的とする。
【解決手段】
メタクレゾ−ル及び／又はフェノールを含有するフェノール類（Ｐ）と、架橋基としてベンズアルデヒド類（ａ１）及びモノヒドロキシベンズアルデヒド類（ａ２）を含有し、その重量比（ａ１／ａ２）が５０／５０〜９５／５である芳香族アルデヒド類（Ａ）とを含むことを特徴とするフォトレジスト用ノボラック型フェノール樹脂およびその製造方法により達成できる。 （もっと読む）