説明

Fターム[4J036CA25]の内容

Fターム[4J036CA25]の下位に属するFターム

Fターム[4J036CA25]に分類される特許

41 - 60 / 60


【課題】微細パターンの形成に優れ、高遮光又は高精彩カラーフィルター用材料に好適な感光性樹脂組成物を形成するアルカリ可溶性樹脂を提供する。
【解決手段】一般式(1)で表され、分子内にカルボン酸残基及び重合性不飽和基を有するアルカリ可溶性樹脂である。
(もっと読む)


【課題】光感度に優れ、得られた硬化物は、密着性、鉛筆硬度、耐溶剤性、耐酸性、耐熱性、耐金メッキ性等に優れた活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供する。
【解決手段】分子中に2個以上のグリシジル基を有するエポキシ化合物(a)、分子中に2個以上のエチレン性不飽和基を有するモノアルコール化合物と2塩基酸無水物との反応生成物(b)、(メタ)アクリル酸(c)を反応させて得られる感光性樹脂(A)、光重合開始剤(B)及び架橋剤(C)を含有する活性エネルギー線硬化型樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】直線性に優れ、剥がれや残渣がなく、表示コントラストの優れた良好なブラックマトリクスパターンを基板上に容易に形成することができる着色感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】光重合性化合物(A)と、光重合開始剤(B)と、着色剤(C)と、を含む着色感光性樹脂組成物において、前記光重合性化合物(A)は、下記式(1)で表される化合物を反応させることにより得られる樹脂を含む。


(式中、複数のRは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、ハロゲン原子、または、置換基を有してもよいフェニル基を示し、mは平均値であって、0〜10の数を示す。) (もっと読む)


【課題】 保存安定性と光感度に優れた感光性樹脂組成物、及びその硬化物を提供する。
【解決手段】 エポキシ基のβ-位に炭素原子数1〜4のアルキル基を置換基として有するエポキシ樹脂と、不飽和一塩基酸とを反応されて得られるエポキシビニルエステル樹脂であって、かつ、その分子構造中、不飽和一塩基酸の付加位置が下記一般式(2)


〔式中、Rはアルキル基、R2は水素原子またはメチル基を表す。〕で表される構造であるものの割合が約95モル%以上であるエポキシビニルエステル樹脂、及び、光重合開始剤を必須成分とする。 (もっと読む)


【課題】 塗料の保存安定性が良好であり、且つ得られる加工物の密着性、耐食性、陽極の孔あき防止に優れる電着塗料用エポキシ樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 活性水素化合物(a1)とエポキシ樹脂(a2)を反応させて得られる化合物(A)必須成分とする電着塗料用エポキシ樹脂組成物であって、該エポキシ樹脂(a2)が活性水素含有化合物(x1)とエピハロヒドリン(x2)と四級オニウム塩含有エポキシ化合物(x3)とを反応させることにより得られることを特徴とする電着塗料用エポキシ樹脂組成物 (もっと読む)


【課題】保存安定性に優れ、一液型に組成することができると共に、電気絶縁性、PCT(プレッシャークッカーテスト)耐性、密着性、はんだ耐熱性、耐薬品性、無電解金めっき耐性、耐吸湿性等の特性を充分に満足する優れた硬化皮膜が得られる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】硬化性組成物は、(A)1分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物(a)と、不飽和基含有モノカルボン酸(b)、又は不飽和基含有モノカルボン酸(b)とエポキシ基と反応する反応基を有する化合物(c)との混合物(d)、との反応物(e)に、多塩基酸無水物(f)を反応させて得られるカルボキシル基含有感光性化合物、(B)1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂にケトンを部分的に付加反応させて得られる、1,3−ジオキソラン環を有するエポキシ樹脂、及び(C)光重合開始剤を含有する。 (もっと読む)


【課題】活性エネルギー線の照射により速やかに硬化し、あるいはさらに加熱によって硬化し、その硬化物は基材との密着性や耐熱性、可撓性、機械的特性に優れ、種々の分野において光硬化性成分及び/又は熱硬化性成分として有利に用いることができる不飽和基含有多分岐化合物、それを含有する硬化性組成物及びその硬化物を提供する。
【解決手段】不飽和基含有多分岐化合物は、(a)分子中に2つ以上のエポキシ基を有する化合物と、(b)分子中に2つ以上(但し、上記(a)成分が2つのエポキシ基を有する化合物の場合、3つ以上)の水酸基を有するフェノール化合物と、(c)少なくとも1つ以上の不飽和二重結合基を有する化合物とを反応させることにより得られ、あるいはさらに(d)多塩基酸無水物を反応させて得られる。硬化性組成物は、前記不飽和基含有多分岐化合物及び重合開始剤を必須成分とし、必要に応じてさらに熱硬化性成分を含有する。 (もっと読む)


【課題】液晶ディスプレイ等に用いられる硬化性組成物であって、外部圧力を受けたときの変形量が大きく(即ち、基板作成時の圧着力不均一を吸収することができ)、高圧力下でも復元率が著しく低下しない(即ち、復元率の圧力依存性が少ない)硬化物を形成しうる硬化性組成物を提供する。
【解決手段】微小硬度計による負荷−除荷試験において、下記指標式(1)及び(2)を満たす硬化物を形成しうる硬化性組成物。
|H1−H2|/|P1−P2|≧0.35 (1)
|R1−R2|/|P1−P2|≦15 (2)
(式(1)中、H1、H2はそれぞれ上断面積が40±5μm2、150±5μm2のスペーサーの総変形量(μm)を示す。式(1)(2)中、P1、P2はそれぞれ上断面積が40±5μm2、150±5μm2のスペーサーにかかる圧力(mN/μm2)を示す。式(2)中、R1、R2はそれぞれ上断面積が40±5μm2、150±5μm2のスペーサーの弾性復元率(%)を示す。) (もっと読む)


【課題】耐折性、感光特性、耐電食性、耐PCT性に優れる感光性樹脂組成物、及びこれを用いたレジストパターンの製造方法並びにフレキシブル配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】下記一般式(I)で示されるエポキシ樹脂(a)に反応性エラストマ成分(b)、不飽和モノカルボン酸成分(c)を反応させて得られるエステル化物にさらに飽和又は不飽和多塩基酸無水物(d)を付加した付加反応生成物である酸変性ビニルエポキシ樹脂(A)、光開始剤(B)、エポキシ樹脂(C)、ゴム微粒子(D)を成分とする感光性樹脂組成物。


(Rは、水素原子あるいは下記式(II)であり、nは1以上の整数である)
(もっと読む)


【課題】液晶表示素子の製造において、基板に対する接着性に優れ、また、液晶汚染を引き起こすことがない、液晶滴下工法用シール剤、上下導通材料及び液晶表示素子を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で表される構造を有する(メタ)アクリレート化合物を含有する液晶滴下工法用シール剤であって、含有する硬化性樹脂成分の10〜70重量%が前記(メタ)アクリレート化合物である液晶滴下工法用シール剤。
(もっと読む)


【課題】 超高感度性と、優れた現像性及び広い熱管理幅とを兼備させる。
【解決手段】 ノボラック型エポキシ樹脂にアクリル酸を反応させたエポキシビニルエステル樹脂に、多塩基酸無水物を反応させ、次いで、該反応によって形成された酸基にグリシジルメタクリレートを反応させ、更に、この反応によって生じる2級水酸基に多塩基酸無水物を反応させて得られる多分岐状の分子構造を有する酸基含有ビニルエステル樹脂であって、かつ、ラジカル重合性不飽和二重結合を芳香環1個あたり、1.75〜3.5個となる割合で有し、かつ、酸基を酸価が30〜150mgKOH/gとなる範囲で含有する酸基含有ビニルエステル樹脂と、光重合開始剤とを必須成分とする。 (もっと読む)


【課題】ソルダーレジストインキ、ドライフィルムレジストの電子材料分野において、優れた皮膜形成に適した感光性熱硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】三塩基酸及び又は四塩基酸の酸無水物(a−i)と不飽和基含有モノアルコール(a−ii)を反応させて得られる不飽和基含有ジカルボン酸化合物に、さらに1分子中に2個のエポキシ基を有するエポキシ化合物(a−iii)を反応させて得られる下記一般式で示される1分子中に2個のエポキシ基を有する不飽和基含有のエポキシ化合物(a)と、不飽和基含有モノカルボン酸(b)を反応させて得られる反応生成物に、さらに多塩基酸無水物(c)を反応させることにより得られる酸変性エポキシ(メタ)アクリレート化合物(A)と、1分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物(B)、光重合開始剤(C)、希釈剤(D)を必須成分として含有するアルカリ現像可能な感光性熱硬化性樹脂組成物。
(もっと読む)


【課題】 ワニスの保存安定性が良好であり、保存中や加工時に臭気が発生ず、且つ得られる加工物の密着性、耐食性に優れ、塗料、接着剤、繊維集束剤、コンクリートプライマー等に好適に用いることができる水性エポキシ樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】 重量平均分子量500〜60,000でかつ分子内にカルボキシル基を有する化合物(a1)とグリシジル基含有4級オニウム塩(a2)を反応させて得られる化合物(A)と、水(B)とを含有することを特徴とする水性エポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 ビニル変性エポキシエステル樹脂の水分散体において、塗膜の密着性と、防食性や耐水性等とを良好にバランスさせる。
【解決手段】 脂肪酸と二塩基酸をエポキシ樹脂に付加・縮合する工程で、二塩基酸としてダイマー酸をエポキシ樹脂に対して10重量%以上の割合で含有して、ダイマー酸変性エポキシエステル樹脂を得るとともに、分散工程で、撹拌した水にグラフト樹脂の中和物を滴下するビニル変性エポキシエステル樹脂の水分散体の製造方法である。ダイマー酸を特定重量比率で含む二塩基酸をエポキシ樹脂に付加・縮合させるため、樹脂の密着性を確保しながら樹脂を高分子量化でき、また、付加する脂肪酸量を従来より低減して防食性等を良好に確保できる。さらに、撹拌状態の多めの水に樹脂中和物を加えるため、保存安定性の良い水分散体が得られる。 (もっと読む)


【課題】 本発明の目的は、電気特性に優れ、かつ回路基板の樹脂層とした場合にレーザーにより微細なビアホールを形成することが可能な樹脂組成物を提供すること。また、電気特性に優れ、かつレーザーにより微細なビアホールを形成することが可能な樹脂層およびそれを用いた樹脂層付きキャリア材料ならびに回路基板を提供すること。
【解決手段】 本発明の樹脂組成物は、レーザー照射によりビアホールを形成する回路基板の絶縁層を構成する樹脂組成物であって、側鎖に重合可能な官能基を有する環状オレフィン樹脂と、レーザー加工性付与剤としてアジド誘導体と、重合開始剤とを含む。また、本発明の樹脂層は、上述の樹脂組成物で構成されている。また、本発明の樹脂層付きキャリア材料は、上述の樹脂層が、キャリア材料の少なくとも片面に形成されている。また、本発明の回路基板は、上述の樹脂層を有する。 (もっと読む)


【課題】 耐熱性、耐湿熱性、密着性、機械特性、電気特性に優れた高性能な硬化膜を得ることができ、プリント配線板、高密度多層板及び半導体パッケージ等の製造に好適に用いられる感光性ソルダーレジスト組成物を提供することを目的とする。本発明はまた、この感光性ソルダーレジスト組成物の層を支持体に積層してなる優れた耐熱性、耐湿熱性、密着性、機械特性、電気絶縁性を有する硬化膜が得られる感光性ソルダーレジストフィルムの提供と、青紫色レーザーダイレクト露光方式に最適な感光性ソルダーレジストフィルムの提供。
【解決手段】 アルカリ可溶性光架橋性樹脂と、アルカリ可溶性エラストマーと、重合性化合物と、光重合開始剤と、熱架橋剤と、無機充填剤と、着色剤と、熱硬化促進剤とを含有することを特徴とする感光性ソルダーレジスト組成物。 (もっと読む)


【課題】 アルカリ現像型で、写真法によりパターン精度の良いレジスト形成が可能な感光性樹脂組成物およびそれを用いたソルダーレジストを提供する。
【解決手段】 少なくとも2個のエポキシ基を有する化合物と、アクリル酸もしくはメタクリル酸と、を反応させて得られる反応生成物(a)と、多塩基酸無水物(b)とを反応させて得られる光重合性不飽和化合物(A)、および多官能ジヒドロキシベンゾオキサジン化合物(B)を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物である。
前記感光性樹脂組成物は、エポキシ樹脂(C)を含むものである。また、感光性樹脂組成物を含んでなる感光性ソルダーレジストである。 (もっと読む)


【課題】保存安定性に優れ、且つ現像性、指触乾燥性、耐屈曲性、密着性、塗膜透明性、HAST耐性(特に電気絶縁性におけるHAST耐性)、及び耐熱衝撃性等に優れたレジストを与えることができる感光性熱硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。更に、上記優れたレジストを備えた平滑化プリント配線板及びその製造法を提供することを目的とする。
【解決手段】
感光性熱硬化性樹脂組成物において、不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂[I]、希釈剤[III]、光重合開始剤[IV]、下記式(化V)表される結晶性エポキシ樹脂[V]、及び硬化密着性付与剤[VI]を含有することを特徴とする。
(もっと読む)


【課題】 耐熱性を低下させることなく、乾燥管理幅が広く、乾燥後の指触乾燥性が良好で、さらに良好な現像性をもつアルカリ現像型感光性樹脂組成物、これに含有する新規エポキシ樹脂を提供すること。
【解決手段】 1分子中に平均して2個以上のエポキシ基を含有する多官能エポキシ樹脂(Y)と芳香族モノイソシアネート類(a)を反応させて得られるオキサゾリドン環を含有するエポキシ樹脂(X)および硬化剤を含有してなるエポキシ樹脂組成物、1分子中に平均して2個以上のエポキシ基を含有する多官能エポキシ樹脂(Y)と芳香族モノイソシアネート類(a)を反応させて得られるオキサゾリドン環を含有するエポキシ樹脂(X)。 (もっと読む)


新規なポリマーおよびそのようなポリマーを含有する新規な反射防止膜用組成物の提供。該組成物は、発色団(4-ヒドロキシ安息香酸、無水トリメリット酸)の結合したポリマー(たとえばエポキシクレゾールノボラック樹脂)を含む。本発明の組成物は、基板(たとえばシリコンウエハ)に塗布して、高いエッチング速度を有する反射防止膜層を形成することができ、該反射防止膜層はその後のフォトレジスト露光および現像工程中、反射を最小限化または抑制する。 (もっと読む)


41 - 60 / 60