【課題】 均一に塗膜形成可能な組成物、良好な面状を有し、低誘電率である絶縁膜および該絶縁膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 一般式（１）により表される化合物、その加水分解物、及び／または、それらの縮合物、及び、溶媒を含有し、全溶媒中、沸点が８５℃〜２５０℃の有機溶剤が２５質量％以上占めることを特徴とする絶縁膜形成用組成物、該組成物を用いた絶縁膜の製造方法及び該絶縁膜。
【化１】


式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄は、各々独立に、水素原子または置換基である。ただし、Ｒ₁及びＲ₂のうち少なくとも１つは加水分解性基を表す。Ｘ₁は炭素原子またはケイ素原子を表す。Ｌ₁は２価の連結基を表す。ｍは０または１を表し、ｍが０の場合ｎは３〜５の整数を表し、ｍが１の場合ｎは２〜３の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】ポリカーボネートに実用的なハードコート膜を付与すること。
【解決手段】ＳｉＯ_２を主成分とし且つ窒素を原子百分率で０．００５〜５％含有するハードコート膜を被覆したポリカーボネート製品。また、該ハードコート膜が、さらに平均粒径１．０μｍ以下の紫外線吸収性透明無機フィラーを含有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】外力の印加した場合にも、意匠性が維持される水栓を提供する。
【解決手段】本発明では、少なくとも使用面側の一部に被覆部が形成された樹脂カウンターであって、該被覆部は、（Ａ）シリカ、または平均組成式Ｒ_ｐＳｉＯ_{（４−ｐ）／２}（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）可塑性ポリマー粒子を含有してなることを特徴とし、前記可塑性ポリマー粒子は被覆部中において、略接することなく分散していることを特徴とする樹脂カウンターを提供する。 （もっと読む）

【課題】 ドライエッチング選択比と低誘電率とを両立したエッチングストッパー層を形成するための組成物、およびそれを用いた半導体装置の製造法の提供。
【解決手段】 ケイ素含有ポリマーを含んでなるエッチングストッパー層形成用組成物であって、組成物に含有されるケイ素含有ポリマーがジシリルベンゼン構造を含んでいるエッチングストッパー層形成用組成物、およびそれを用いてエッチングストッパー層を形成させる半導体装置の製造法。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、優れた耐擦傷性を有するとともに、チッピング、クラック等が発生せず、耐候性、耐汚染性、密着性等にも優れた塗料組成物を提供することである。
【解決手段】ポリジメチルシロキサン系共重合体と、カプロラクトンと、シロキサンとを必須成分とし、該カプロラクトンを該ポリジメチルシロキサン系共重合体の骨格に導入した塗料組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】半導体素子等の絶縁膜材料として、ＰＣＴ後の誘電特性、ＰＣＴ後のＣＭＰ耐性、ＰＣＴ後の基板との密着性に優れた膜が形成可能な組成物を提供する。
【解決手段】組成物は、（Ａ）下記式（１）、（２）中の少なくとも１種の化合物を水酸化テトラアルキルアンモニウムと水で加水分解、縮合した慣性半径が５〜５０ｎｍの物 Ｒ_ａＳｉ（ＯＲ^１）_４−ａ ・・・・・（１） （式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、Ｒ^１は１価の有機基、ａは０〜２の整数を示す。） Ｒ^３_ｂ（Ｒ^４Ｏ）_３−ｂＳｉ−（Ｒ^７）_ｄ−Ｓｉ（Ｏ^５）_３−ｃＲ^６_ｃ ・・（２） 〔式中、Ｒ^３〜Ｒ^６は同一または異なり、それぞれ１価の有機基、ｂおよびｃは同一または異なり、０〜２の数を示し、Ｒ^７は酸素原子、フェニレン基または−（ＣＨ_２）_ｎ−で表される基（ここで、ｎは１〜６の整数である）、ｄは０または１を示す。〕ならびに（Ｂ）有機溶媒を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】外力の印加した場合にも、基材の意匠性が維持されるキッチンカウンターを提供する。
【解決手段】本発明では、少なくとも使用面側の一部に被覆部が形成されたキッチンカウンターであって、該被覆部は、（Ａ）シリカ、または平均組成式Ｒ_ｐＳｉＯ_{（４−ｐ）／２}（式中、Ｒは水素原子、フッ素原子または１価の有機基、ｐは、０＜ｐ＜４を満足する数である）の群から選ばれる少なくとも１種、（Ｂ）ふっ素樹脂粒子を含有してなることを特徴とし、前記ふっ素樹脂粒子の被覆部中の含有量が１重量％以上かつ２０重量％未満であることを特徴とするキッチンカウンターを提供する。 （もっと読む）

【課題】有機溶媒担体を実質的に使用することなく縫合針のような基材の効果的な潤滑
に使用し得る、新規な水性シリコーン被覆用組成物を提供すること。
【解決手段】非反応性のポリジメチルシロキサン、反応性のシロキサン重合体および、上記のシロキサン類を水溶液の全体にわたって分散させるのに効果的な量の少なくとも１種の分散剤の水溶液を含むシリコーン被覆用組成物。水性シリコーン被覆用組成物が水性シリコーン重合体、および上記のシロキサンを水溶液の全体にわたって分散させるのに効果的な量の少なくとも１種の分散剤であることを特徴とする、水性シリコーン被覆用組成物を基材の表面に適用し、この表面上でシリコーンを硬化させる段階を含む、シリコーンによる基材の潤滑方法。 （もっと読む）

【課題】 硬化性及びガラス密着性を満足し、更に、温水強度特性及び湿熱強度特性に優れた単層被覆用あるいは１次被覆用の光ファイバー被覆用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 ラジカル重合性化合物（Ａ）、光重合開始剤（Ｂ）、及びアルコキシシリル化合物（Ｃ）を含有する光ファイバー被覆用樹脂組成物であって、前記アルコキシシリル化合物（Ｃ）が、式(I)


で表されるアルコキシシリル化合物（Ｃ１）又は式(II)


（式中、ｑは１〜４の整数、又は６であり、Ｘは、炭素数１〜２０のアルキル基、式（III）


等で表される基である。）で表されるアルコキシシリル化合物（Ｃ２）を含有することを特徴とする光ファイバー被覆用樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】
アルミニウム系製品の表面に汚れが付着するのを防止し、且つ付着した汚れを容易に除去するのに適する表面処理方法を提供する。
【解決手段】
アルミニウム系製品の表面に、Ｓｉ−Ｃ結合及び加水分解性シリル基を含有するオルガノポリシロキサン（ａ）並びにアルコキシ基を含有しないオルガノポリシロキサン（ｂ）を含有し、成分（ａ）及び成分（ｂ）の合計重量に対して、成分（ａ）の量が１３〜９９．９重量％、成分（ｂ）の量が０．１〜８７重量％の範囲内である表面処理剤（Ａ）を塗装することを特徴とする表面処理方法、該方法により処理された物品。アルミニウム系製品としてはクリヤー塗料を塗装したものであることが望ましい。 （もっと読む）

【化１】


本発明は、式（Ｉ）で表される構造単位を含んで成るポリ（シリルエステル）を製造する方法を提供し、この方法は、式（ＩＩ）で表されるポリ酸と式（ＩＩＩ）で表されるポリアシルオキシシリル誘導体を反応させながら生じた式（ＩＶ）、（Ｖ）および（ＶＩ）：Ｒ_７Ｚ（Ｏ）ＯＨ （ＩＶ）、Ｒ_９Ｚ（Ｏ）ＯＨ （Ｖ）、Ｒ_８Ｚ（Ｏ）ＯＨ （ＶＩ）で表される酸基１種または２種以上をその系から除去する段階を含んで成る。
（もっと読む）

【課題】 低い誘電率かつ高い機械的強度を有する絶縁膜を形成可能な絶縁材料形成用組成物を提供する。
【解決手段】 一般式（１）で表される化合物、その加水分解およびその縮合物から選ばれる少なくとも１種以上のシラン化合物を、置換または無置換のアンモニウム塩存在下で加水分解、縮合して得られる化合物を含有する絶縁材料形成用組成物の製造方法。
【化１】


一般式（１）中、Ｘ¹は、加水分解性基を表し、Ｒ¹は、アルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、ｎ₁は１〜３の整数を表し、ｍ₁は２以上の整数を表す。Ｌ¹は単結合または２価の連結基を表し、Ａは、かご型構造を含有する基を表す。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィおよび液浸フォトリソグラフィシステムにおいて非常に適したフォトレジスト用のトップコートを提供する。
【解決手段】本発明のトップコートは、式Ｔ_ｍ^Ｒ３（ただしｍが８、１０、または１２に等しい）および式Ｑ_ｎＭ_ｎ^{Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３}（ただしｎが８、１０、または１２に等しい）の官能化多面体オリゴマー・シルセスキオキサン誘導体を含む組成物である。その官能基として、塩基性水溶液可溶性部分を含むことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 低い誘電率を有する絶縁膜を形成可能な絶縁材料形成用組成物および当該組成物より得られる絶縁膜。
【解決手段】 一般式（１）で表される化合物、その加水分解およびその縮合物から選ばれる少なくとも１種以上のシラン化合物に、一般式（２）で表される化合物を添加して、加水分解、縮合して得られる化合物を含有することを特徴とする絶縁材料形成用組成物。
【化１】


一般式（１）中、Ｘ¹は、加水分解性基を表し、Ｒ¹は、アルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、ｎ₁は１〜３の整数を表し、ｍ₁は２以上の整数を表す。Ｌ¹は、単結合または２価の連結基を表し、Ａは、かご型構造を含有する基を表す。
【化２】


一般式（２）中、Ｘ₂は、加水分解性基を表わし、Ｒ₂〜Ｒ₄は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基又はビニレン基を表わす。 （もっと読む）

【課題】 １の塗膜から２以上の層を形成できる積層体の製造方法及びそれにより得られる積層体を提供する。
【解決手段】 基材３０と、その上に多層構造４０，５０を有する積層体の製造方法であって、基材上３０又は基材上に形成された層の上に、数平均粒子径１ｎｍ以上４０ｎｍ未満の金属酸化物粒子、数平均粒子径４０ｎｍ以上２００ｎｍ以下の金属酸化物粒子、エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体、速揮発溶剤及び遅揮発溶剤を含む紫外線硬化性樹脂組成物を塗布して塗膜を形成し、この１の塗膜から溶媒を蒸発させることにより、２以上の層４０，５０を形成することを特徴とする積層体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 プラスチック成形品表面に塗布し、硬化させることで密着性、耐擦傷性、耐熱水性および可撓性などにすぐれた保護皮膜を形成することができるコーティング用組成物を提供する。
【解決手段】 （Ａ）一般式Ｒ^１Ｓｉ（ＯＲ^２）_３で表される少なくとも１種のオルガノアルコキシシラン６５〜９０重量％と、（Ｂ）一般式Ｓｉ（ＯＲ^３）_４で表される少なくとも１種のテトラアルコキシシラン１〜１０重量％と、（Ｃ）γ−グリシドキシプロピルメチルジアルコキシシラン１〜１０重量％と、（Ｄ）一般式（Ｒ^５Ｏ）_３−ＸＲ^７_ＸＳｉ−Ｒ^４−ＳｉＲ^８_Ｙ（ＯＲ^６）_３−Ｙで表される少なくとも１種のオルガノアルコキシジシラン３〜２０重量％と、の混合物の加水分解・縮合生成物からなるコーティング用組成物。 （もっと読む）

本発明に係る多孔質シリカ形成用塗布液は、好ましくはアルコキシシラン化合物の部分的な加水分解縮合物と、界面活性剤と、有機両性電解質とを含有してなり、かつ金属含有量が５０ｐｐｂ以下であることを特徴とする。従来の多孔質シリカ形成用塗布液は、保存期間が長くなると、得られる多孔質シリカフィルムの細孔の配列規則性等が低くなる事があった。これに対し、本発明に係る多孔質シリカ形成用塗布液によれば、保存安定性に優れる塗布液を提供することができる。すなわち、得られる多孔質シリカの品質が、上記塗布液の保存期間の影響を受け難い。このため、電場にさらされても、容量、電圧シフトを引き起こすことがなく、さらに規則的に配列した均一な細孔を有し、光機能材料や電子機能材料に好適に用いることができる多孔質シリカフィルムの安定生産に貢献できると期待される。 （もっと読む）

【課題】 厚膜化できるシリカ系被膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】 上記課題を解決する本発明のシリカ系被膜形成用組成物は、（ａ）成分：シロキサン樹脂、及び、（ｂ）成分：（ａ）成分を溶解可能である溶媒を含有してなるシリカ系被膜形成用組成物であって、シリカ系被膜形成用組成物中の（ａ）成分の配合割合が５〜３０重量％であり、（ｂ）成分が非プロトン性溶媒を含むものである。 （もっと読む）

【解決手段】 （Ｉ）オルガノアルコキシシラン又はシロキサン １００質量部、（ＩＩ）アルコキシシリル基含有オルガノハイドロジェンシラン又はシロキサン １〜５００質量部、及び（ＩＩＩ）ジアルコキシチタンポリマー ０．１〜５００質量部を含有してなるプライマー組成物。
【効果】 本発明のプライマー組成物は、優れた接着性を有し、加熱硬化性シリコーンゴム、特に高熱伝導性の加熱硬化性シリコーンゴムを鉄、アルミニウム、ステンレス、ニッケル、亜鉛、錫メッキ鋼板などの金属や各種プラスチックなどの被着体に接着させるのに好適に使用でき、例えば複写機のロール部分やエンジン周り部品などに使用される金属又はその他各種基材と加熱硬化性シリコーンゴムとの接着におけるプライマーとして特に有効に使用できる。また、フッ素樹脂に対しても効果が高い。 （もっと読む）

【課題】非常に長い作業時間の確保が容易であり、揮発性を有する架橋剤由来のシラン単量体成分による不具合がなく、二液型ＲＴＶとしても好適に使用することができ、更に良好なゴム弾性を有する硬化物となり得る室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）分子鎖両末端が水酸基で封止されたジオルガノポリシロキサン：１００質量部、（Ｂ）分子鎖中にアルキレン結合を介した加水分解性シリル基を有するポリシロキサン：１〜２００質量部、（Ｃ）触媒：０．０１〜１０質量部を含有することを特徴とする室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物。 （もっと読む）