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Fターム[4J038DL16]の内容

塗料、除去剤 (182,219) | 珪素含有連結基高分子 (6,196) | 少なくとも2個だが全てではないSiが酸素原子以外の連結基に結合されているもの (94)

Fターム[4J038DL16]に分類される特許

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【課題】 周辺基材、特にACFに対する影響が小さく、その機械的・電気的特性低下の原因とならず、高温高湿・電圧印加という厳しい条件下においても電極表面に腐食を生成させることがない電極保護用途に適したポリイミドシリコーン系樹脂組成物および該組成物からなる電極保護材を提供する。
【解決手段】 (a)ポリアミック酸およびポリイミドシリコーンから成る群より選ばれるポリマー、
(b)沸点が80〜180℃で、SP値が7〜9の溶媒、
(c)反応性シリル基含有ビスイミド化合物、ならびに
(d)無機イオン交換体 (a)成分100質量部に対して0.5〜10質量部
を含有してなるポリイミドシリコーン系樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 高硬度で耐擦傷性に優れ、かつ可撓性も良好であり、急激な温度変化があってもクラックが発生しにくい耐擦傷性表面保護膜を形成する事ができるシリコーンコーティング組成物、及び基材表面に、該組成物の硬化被膜層を有する被覆物品を提供する。
【解決手段】下記式の化合物或いはその部分


加水分解縮合物と、下記式のシラン或いはその


部分加水分解縮合物、及び/又は下記式の化合


物或いはその部分加水分解縮合物とを共加水分解縮合させたシリコーンレジン(I)を含む耐擦傷性表面被膜形成用シリコーンコーティング組成物。 (もっと読む)


【解決手段】 (A):リン原子と窒素原子との両方を含有する化合物よりなる群の中から選択されたガス発生剤又はリン含有化合物と窒素含有化合物との混合物からなるガス発生剤と、
(B):(i)式(1)
(R1a(OR2bSiO(4-a-b)/2 (1)
(R1はアルキル基、R2はアルキル基、aは0.75〜1.5、bは0.2〜3、0.9<a+b≦4)
で示される有機ケイ素化合物と、
(ii)式(2)
34NR5−SiR6n(OR23-n (2)
(R3、R4は水素原子、アルキル基又はアミノアルキル基、R5は2価炭化水素基、R6はアルキル基、nは0又は1)
で示されるアミノ基含有アルコキシシラン又はその部分加水分解物と
を有機酸又は無機酸の存在下で共加水分解縮合させた共加水分解縮合物
からなる難燃性添加剤。
【効果】 本発明の難燃性添加剤は、熱可塑性樹脂などに使用した場合に、優れた耐吸湿性、分散性を有するものである。 (もっと読む)


【課題】 塗布均一性に優れ、熱的に安定な酸化物被膜を形成することができる酸化物被膜形成用塗布液、均一で熱的に安定な酸化物被膜の製造法及び均一で熱的に安定な酸化物被膜を有する半導体装置の製造法を提供する。
【解決手段】 (A)一般式(I)
【化1】


(式中Rは、炭素数1〜4のアルキル基、R′は炭素数1〜3のアルキル基、mは0、1または2を意味する)で表されるアルコキシシラン化合物を溶媒の存在下に加水分解及び縮重合させ、加水分解によって生成する1価アルコールを除去してなる酸化物被膜形成用塗布液、この塗布液を、基体表面上に塗布後、50〜200℃で乾燥し、ついで300〜1000℃で焼成することを特徴とする酸化物被膜の製造法及びこの塗布液を、半導体素子表面上に塗布後、50〜200℃で乾燥し、ついで300〜1000℃で焼成して酸化物被膜を形成することを特徴とする半導体装置の製造法。 (もっと読む)


【課題】 微小なスペースをボイド無く埋め込むことができるシリカ系被膜形成用塗布液を提供する。
【解決手段】シロキサンポリマーと溶剤とを含むシリカ系被膜形成用塗布液において、上記溶剤は、n−ブタノールおよびメチル−3−メトキシプロピオネートを含有することを特徴とするシリカ系被膜形成用塗布液。 (もっと読む)


【課題】ポリオルガノシロキサン成分を含有する組成物の汚れにくさおよび該組成物からの被覆とシリコーン下地との接着可能性をさらに改善する。
【解決手段】ポリマー成分(1):(A1)式(RSi−O1/2)で示される単位の存在下または不在下で式(RSi−O3/2)で示される単位からなるポリオルガノシロキサンおよび/または(A2)式(RSi−O1/2)で示される単位の存在下または不在下で式(Si−O4/2)で示される単位からなるポリオルガノシロキサン、(2)一般式
Si(OR4−xで示されるシラン、(3)シリコーン粒子、(4)場合によっては溶剤、(5)場合によっては触媒、(6)場合によっては水を使用しながら製造しうる組成物。 (もっと読む)


本発明の対象は、金属原子、珪素原子および酸素原子から選択された原子からなるかまたはシリコーン樹脂からなる核および表面上の少なくとも1個の保護されたイソシアネート基を有する粒子(P)であり、この場合この粒子(P)は、金属原子、珪素原子および酸素原子から選択された原子からなるかまたはシリコーン樹脂からなり、遊離ヒドロキシ官能基を有する粒子(P1)を、a)少なくとも1個の保護されたイソシアネート基を含有するオルガノシラン(A)またはb)少なくとも1個のNH−、OH−またはSH−官能基を有するオルガノシラン(A1)と反応させることによって得ることができ、この場合には、中間生成物として、もう1つの反応工程で少なくとも1つの保護されたイソシアネート官能基ならびに保護されていないイソシアネート官能基を有する化合物(A2)と反応させ、粒子(P)に変えるNH官能性、OH官能性またはSH官能性粒子(P2)を得ることができ、この場合オルガノシラン(A)および(A1)は、粒子(P1)との反応前にシリル単位に対してα位の酸素原子、硫黄原子または窒素原子を有するか、または環状構造要素の一部分であるSi−O単位またはSi−N単位を有する。 (もっと読む)


ヒドロシリル化反応条件下でヒドリドシリコーンを(好ましくは)長鎖オレフィンと不完全に反応させて、部分置換ヒドリドシリコーンを生成させ、これをさらにヒドロシリル化反応条件下でビニル含有MQ樹脂と反応させて、残存するヒドリド種を部分的に消費し、これを次に残りのヒドリド種を消費するヒドロシリル化反応条件下で長鎖ジオレフィンと反応させて、可撓性支持体の塗工に際してミスト防止剤として有用な組成物を生成する。 (もっと読む)


【課題】 低い比誘電率を有するシリカ系被膜を形成することが可能なシリカ系被膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】 本発明のシリカ系被膜形成用組成物は、(a)成分:下記一般式(1);
SiX4−n ・・・(1)
(式中、Rは、B原子、N原子、Al原子、P原子、Si原子、Ge原子及びTi原子のうちの少なくとも1種を含む基、炭素数1〜20の有機基、H原子、又は、F原子を示し、Xは加水分解性基を示し、nは0〜2の整数を示す。ただし、nが2のとき、各Rは同一でも異なっていてもよく、nが0〜2のとき、各Xは同一でも異なっていてもよい。)、
で表される化合物を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂と、(b)成分:上記(a)成分を溶解可能な溶媒と、(c)成分:空孔を有する固体粒子と、(d)成分:第四級オニウム塩と、を含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 光照射により長期にわたり、その表面が水の濡れ性(親水性、疎水性)の制御能及び/又は光触媒活性を発現する耐久性に優れた光触媒体や機能性複合体を煩雑な工程を必要とせずに得ることができる光触媒組成物を提供する。
【解決手段】 光触媒粒子(a)を、トリオルガノシラン単位、モノオキシジオルガノシラン単位、ジオキシオルガノシラン単位、及びフッ化メチレン(―CF2−)単位よりなる群から選ばれる少なくとも1種の構造単位を有する化合物類よりなる群から選ばれる少なくとも1種の変性剤化合物(b)を用いて変性処理することによって得られた変性光触媒(A)と該変性光触媒(A)より表面エネルギーが大きいバインダー成分(B)を含有し、該バインダー成分(B)がビニルエーテル基、エポキシ基、オキセタン基からなる群より選ばれる少なくとも一つの反応性基を含有することを特徴とする光触媒組成物。 (もっと読む)


金属および重合体表面用のペルヒドロポリシラザン含有塗料
本発明は、表面用の、特に金属および重合体表面用の、少なくとも一種の式(1)


(式中、nは、ポリシラザンの数平均分子量が150〜150000g/モルになるような整数である)
のペルヒドロポリシラザン、溶剤および触媒、所望により一種以上の共結合剤を含んでなる、表面用塗料に関する。硬化した塗料の厚さは少なくとも1マイクロメートル、好ましくは2〜20マイクロメートルである。少なくとも一種のペルヒドロポリシラザンを含む本発明の塗料は、リム、特にアルミニウムリム、を保護するのに適当である。
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本発明はオリゴマーフルオロシランおよび界面活性剤を含む水性組成物に関する。本発明は更に、前記水性組成物で光学エレメントを処理する方法およびこうして処理された光学エレメントに関する。本発明は更に、処理された光学エレメントを含む物品に関する。 (もっと読む)


本発明は、一または数種のポリシラザンおよびイオン系試薬またはイオン系試薬の混合物を含む、表面用親水性被覆に関する。ポリシラザンは、特に、式1(SiR’R”−NR”)n−(1)のポリシラザンであり、式中、R’、R”、R”は、同一でも、異なっていてもよく、水素または有機または有機金属基であり、nは、ポリシラザンの数平均分子量が150〜150000g/モルになるような値である。好ましい実施態様では、ポリシラザンはペルヒドロポリシラザン(R’=R”=R'''=H)である。イオン系試薬は、好ましくはカルボン酸、特にヒドロキシカルボン酸、の塩、あるいは陽イオン系または陰イオン系シラン、もしくはオリゴマーまたは重合体である。本発明は、上記親水性被覆の製造方法にも関する。 (もっと読む)


【課題】銅配線用層間絶縁膜として有用な超低誘電薄膜を提供する。
【解決手段】本発明は、銅配線用超低誘電絶縁膜であって、更に詳しくは、マトリクス成分としてポリアルキルシルセスキオキサン前駆体またはその共重合体と、気孔形成用テンプレートとしてアセチルシクロデキストリンナノ粒子が溶解されている有機溶液でコーティングした後、ゾル−ゲル反応及び、高温で熱処理を行って形成された多孔性薄膜で、前記テンプレートとしてアセチルシクロデキストリンを選択使用し、最高60vol%までの量を含めることができ、形成された薄膜はマトリクス内に5nm以下の非常に小さい気孔が均一に分布されており、誘電率が1.5程度で低く、気孔間の相互接続性(interconnectivity)が非常に優れた特性を有する銅配線用超低誘電絶縁膜である。 (もっと読む)


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