本発明は、一方では、コーティングがプラズマ重合プロセスによって提供される開放気泡構造を有する製品の表面にその構造全体にわたってコーティングを提供する方法に関する。上記発泡体は、特定の方法に関して、上記プラズマ重合プロセス用に調製されるべきである。重合は、定性的および均質に、開放気泡および半開放気泡構造中で行われる。他方では、本発明は、ポリマー構造全体にわたって、開放気泡ポリマーの表面の疎水性物質、疎油性物質、難燃性および／またはバリヤコーティングとしての前述の方法の使用方法に関する。 （もっと読む）

【課題】テルペン骨格を有する特殊なエポキシ化合物を使用ことにより、耐熱性、および塗膜強度に優れた粉体塗料用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】
（Ａ）モノテルペン化合物、モノテルペンアルコール化合物、モノテルペンアルデヒド化合物、モノテルペンケトン化合物からなる群より選ばれた、１〜３の二重結合を有するテルペン化合物の、モノオキサイド化合物および／またはジオキサイド化合物および／またはトリオキサイド化合物および／またはそれら水添品とビニルモノマーを反応させて得られる樹脂、（Ｂ）重合開始剤を含有することを特徴とする粉体塗料用樹脂組成物に関するものである。 （もっと読む）

水性の放射線硬化型樹脂、それらの製造方法及びそれらの使用。本発明は水性の放射線硬化型樹脂、それらの製造方法及びそれらの使用に関する。 （もっと読む）

熱線遮断組成物、これを利用した熱線遮断被膜およびこれらの製造方法を提供する。熱線遮断組成物は両性の溶媒に伝導性微粒子を酸と湿潤分散剤を利用して分散して製造され、これによって、バインダ樹脂の形態（含水、アルコール系、無水）に関係なしに、バインダ樹脂を使用することができるので、熱線遮断被膜を簡単で、かつ安価に形成することができる。
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【課題】０．５重量％より少ない残留モノマー含有量及び１重量％より少ないＮＣＯ含有量を有する放射線硬化性アロファネートの製造方法を提供する。
【解決手段】イソシアネート基含有化合物（Ａ）、化学作用を有する放射線に暴露するとエチレン性不飽和化合物と重合を伴って反応する基（放射線硬化性基）を含むヒドロキシ官能性化合物（Ｂ）及び場合により更にＮＣＯ反応性基を含む化合物（Ｃ）を、場合により触媒の存在下用いて、放射線硬化性基を有するＮＣＯ基含有ウレタンを形成した後、イソシアネート基含有化合物を更に追加することなく、アロファネート化触媒の存在下反応させる製造方法であり、Ａ）からの化合物のＮＣＯ基とＢ）及び使用した場合Ｃ）からの化合物のＯＨ基との比は、１．４５：１．０〜１．１：１．０である製造方法。 （もっと読む）

繊維状マットで表面仕上げされた石膏パネルであって、表面仕上げシートの少なくとも一方に、耐湿性であり、かつ例えばＵＶ硬化可能であるような放射線により硬化可能なポリマーのコーティングを備えたパネルが開示されている。
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【課題】 導電性セグメントと疎水性セグメントの間で明確な相分離構造を達成して、帯電防止性を発揮することができ、他の樹脂との相溶性にも優れた、ブロック共重合体を含有する帯電防止性コーティング組成物を提供する。
【解決手段】 導電性セグメントと非導電性の疎水性セグメントとからなる帯電防止性を有するブロック共重合体を含有する帯電防止性コーティング組成物であって、該ブロック共重合体における導電性セグメントの数平均分子量が、全体の数平均分子量の２０％−８０％であり、該ブロック共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量は、８０００〜５０００００であり、該ブロック共重合体の分子量分布は、２．０以下である。 （もっと読む）

本発明は、硬化性成分および一般式（Ｉ）：


〔式中、Ｙ＝カルボキシル基、カルボキシレート基、またはヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基および／またはカルボキシレート基によって場合により置換されていてよい直鎖あるいは分枝アルキル基；Ｒ^１，Ｒ^２，およびＲ^３＝（互いに独立して）ＨまたはＯＨであって、Ｒ^１およびＲ^３は同時にはヒドロキシル基でない〕で示されるｍ−ヒドロキシベンゼン誘導体を含んでなり、
但し、硬化性成分が多成分エポキシベースの系の熱硬化性成分である場合、硬化性組成物は銅族および亜鉛族の遷移金属酸化物を含有せず、および、硬化性成分がエポキシ系熱硬化性成分である場合、上記は自己硬化性成分ではない、硬化性組成物に関する。本発明はさらに、被覆材および接着剤における老化抑制剤としてのｍ−ヒドロキシベンゼン誘導体の使用、並びに基材を被覆または接着するための方法に関する。
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【課題】無色透明の硬化膜を与える無溶剤型ポリイミドシリコーン樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）テトラカルボン酸二無水物と、ジアミン及び下記式（２）の構造を有するジアミノシロキサンとを反応させることにより得られ、且つ、石英ガラス基板上に厚さ１００μｍのフィルムにして測定した、波長３５０ｎｍから４５０ｎｍの光線透過率が８０％以上であるポリイミドシリコーン樹脂と、（ｂ）反応性希釈剤と、（ｃ）光重合開始剤とを含む、無溶剤型ポリイミドシリコーン樹脂組成物。
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【解決手段】 本発明は、金属表面での酸化皮膜発生に対して保護層を作製する剤において、該剤がバインダーとして少なくとも１種類のシランの加水分解生成物／縮合体又はシリコーン樹脂バインダー並びに更に少なくとも１種類の金属充填剤を含有することを特徴とする、上記剤に関する。 （もっと読む）

【課題】 表面に模様が形成され、模様に応じた艶差を有し、該艶差が視覚的に凹部として認識される、表面に凹凸感を有する化粧材であって、耐溶剤性、耐摩耗性、あるいは層間強度が高く、かつ凸部から凹部に移行する端部における凹凸の鮮映性（シャープネス）を強調することのできる化粧材を提供すること。
【解決手段】 基材上に少なくとも、部分的に設けられた低艶絵柄インキ層と、該低艶絵柄インキ層上に存在してこれと接触すると共に、低艶絵柄インキ層が形成された領域及び低艶絵柄インキ層が形成されていない領域を含む全面にわたって被覆する表面保護層を有する化粧材であって、低艶絵柄インキ層を構成する低艶絵柄インキが体質顔料を含み、表面保護層が電離放射線硬化性樹脂組成物の架橋硬化したものであり、かつ該表面保護層中には、該低艶絵柄インキ層の直上部及びその近傍に視覚的に凹部として認識される低光沢領域が形成されてなる化粧材である。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、(１)アロファネート基；(２)化学線への暴露時に重合を伴ってエチレン性不飽和化合物と反応する基(放射線硬化性の基)；および(３)任意にＮＣＯ反応性の基；を含有するバインダーの製造方法ならびに該方法によって得られるバインダーを提供する。
【解決手段】 本発明の方法は、
(Ａ)ウレトジオン基を含有する１またはそれ以上のＮＣＯ官能性化合物を、
(Ｂ)イソシアネート反応性の基および放射線硬化性の基を含有する１またはそれ以上の化合物と、次に、
(Ｃ)(Ｂ)以外の１またはそれ以上の飽和ヒドロキシル含有化合物(これら化合物の少なくとも１つは≧２のＯＨ官能価を有する)と、
(Ｄ)１またはそれ以上の脂肪族または脂環式カルボン酸のアンモニウムまたはホスホニウム塩を含有する触媒の存在下に、
≦１３０℃の温度で反応させ、化合物(Ｃ)との反応を、アロファネート基の形成と少なくとも比例して行なうことによる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、アロファネート基を含有する放射線硬化性バインダーの製造方法ならびに該方法によって得られるバインダーを提供する。
【解決手段】 本発明の方法は、
(Ａ)ウレトジオン基を含有する１またはそれ以上の化合物を、
(Ｂ)化学線への暴露時に重合を伴ってエチレン性不飽和化合物と反応する基(放射線硬化性基)を含有する１またはそれ以上のＯＨ官能性化合物、
(Ｃ)任意に、(Ｂ)以外のＮＣＯ反応性の化合物と、
(Ｄ)脂肪族または脂環式カルボン酸の少なくとも１つの四置換アンモニウムまたはホスホニウム塩を含有する触媒の存在下に、
≦１３０℃の温度で反応させて、ウレトジオン環の開環によってアロファネート基を形成させることを含んで成る。 （もっと読む）

本発明は紫外線照射によって又は加速電子ビームによって硬化可能な粉体組成物に関する。これら粉体組成物は少なくとも１種のエチレン性不飽和樹脂を含み、そして、独特の組合せの諸性質（特に、良好な流れおよび機械的性質、及びなかんずく経時でも顕著な金属基体への接着性）を示すペイントおよびワニス塗膜の製造に導く。 （もっと読む）

【課題】 屈折率が低く、耐擦傷性に優れる硬化性樹脂組成物及び反射防止膜を提供する。
【解決手段】 下記成分（Ａ）及び（Ｂ）：
（Ａ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体、
（Ｂ）数平均粒径４０〜１００ｎｍのシリカを主成分とする粒子、
を含有する硬化性樹脂組成物。この硬化性樹脂組成物を硬化させた硬化物は、低屈折率層１８として反射防止膜１０に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】均一で面状ムラのない面状均一性の高いフィルムを形成しうる新規有機ゲル化剤を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表される有機ゲル化剤。
【化１】


式中Ｌ_１、およびＬ_２はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基を表し、Ｂ_１、Ｂ_２、およびＢ_３は水素原子あるいは置換もしくは無置換のアルキル基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。ただし、Ｂ_１、Ｂ_２、およびＢ_３中に少なくとも８個のフッ素原子で置換されたアルキル基を一つ以上有する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、(１)アロファネート基；(２)化学線への暴露時に重合を伴ってエチレン性不飽和化合物と反応する基(放射線硬化性の基)；および(３)任意にＮＣＯ反応性の基；を含有するバインダーの製造方法ならびに該方法によって得られるバインダーを提供する。
【解決手段】 本発明の方法は、
(Ａ)ウレトジオン基を含有する１またはそれ以上のＮＣＯ官能性化合物を、
(Ｂ)イソシアネート反応性の基および放射線硬化性の基を含有する１またはそれ以上の化合物と、次に、
(Ｃ)(Ｂ)以外の１またはそれ以上の飽和のヒドロキシル含有化合物(これら化合物の少なくとも１つは≧２のＯＨ官能価を有する)と、
(Ｄ)１またはそれ以上の亜鉛化合物を含有する触媒の存在下に、
≦１３０℃の温度で反応させ、化合物(Ｃ)との反応を、アロファネート基の形成と少なくとも比例して行なうことによる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、アロファネート基を含有する放射線硬化性バインダーの製造方法、該方法によって得られるバインダーならびに該バインダーを含有する被覆組成物を提供する。
【解決手段】 本発明の方法は、
(Ａ)ウレトジオン基を含有する１またはそれ以上の化合物を、
(Ｂ)化学線への暴露時に重合を伴ってエチレン性不飽和化合物と反応する基(放射線硬化性基)を含有する１またはそれ以上のＯＨ官能性化合物、
(Ｃ)任意に、(Ｂ)以外のＮＣＯ反応性の化合物と、
(Ｄ)少なくとも１つの亜鉛化合物を含有する触媒の存在下に、
≦１３０℃の温度で反応させて、ウレトジオン環の開環によってアロファネート基を形成させることを含んで成る。 （もっと読む）

本発明は、新しいコーティング組成物を与えるための架橋剤と反応する構成成分としての（メタ）アクリレート官能化アミドアセタールの使用に関する。本発明はさらに、新しいコーティング組成物を与えるための架橋剤およびＵＶ放射線と反応する構成成分としての（メタ）アクリレート官能化アミドアセタールの使用に関する。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜の低屈折率層の特性を悪化させること無く、高速で均一な面状の低屈折率層を形成可能な塗布組成物の提供および該塗布組成物を用いた光学機能層、反射防止フィルム、およびこの反射防止フィルムを用いた偏光板並びにこれらフィルムあるいは偏光板を備えたディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】（Ａ）熱または活性エネルギー線照射により重合可能な化合物、（Ｂ）粘度調整剤、（Ｃ）溶剤を含有し、硬化後の屈折率が１．５０以下であり、厚み１００ｎｍの膜を形成した時のヘイズが２％以下の透明膜を形成可能な塗布組成物。および該塗布組成物から形成した光学機能層、反射防止フィルム、およびこの反射防止フィルムを用いた偏光板並びにこれらフィルムあるいは偏光板を備えたディスプレイ装置。 （もっと読む）