【課題】加硫物とした際に低発熱性とウェットスキッド抵抗性のバランスに優れ、実用上十分な破壊強度を有し、かつ組成物の加工性にも優れている、変性共役ジエン系重合体組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合活性末端を持つ共役ジエン−芳香族ビニル系共重合体の該重合活性末端に、式（１）で表される変性剤を反応させて得られ、ガラス転移温度が−５０〜−５℃である変性共役ジエン−芳香族ビニル系共重合体と、（Ｂ）式（１）で表される変性剤で変性する方法以外で極性官能基を導入され、ガラス転移温度が−１２０〜−６０℃である変性共役ジエン系重合体と、を含むゴム成分、及び、（Ｃ）シリカを含有する変性共役ジエン系重合体組成物。［式中、Ｒ^１〜Ｒ^４は各々独立して、Ｃ１〜２０のアルキル基又はＣ６〜２０のアリール基、Ｒ^５はＣ３〜１０のアルキレン基、Ｒ^６はＣ１〜２０のアルキレン基を表し、ｍは整数１又は２、ｎは整数２又は３である。］
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【課題】樹脂成形体の難燃性を効果的に高めることができ、樹脂成形体の電気特性、特に、誘電率（ε）および誘電正接（ｔａｎδ）が低く、しかも耐熱性が高いホスファゼン化合物を実現する。
【解決手段】アセチルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物を還元してヒドロキシエチルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物とし、次にそれを脱水する反応工程を含む下記の式（１）で示されるエテニルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法。


式（１）中、ｎは１〜６の整数を示し、Ａは少なくとも一つが式（２）で示されるエテニルフェノキシ基で、その他のＡがアリールオキシ基である。
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【課題】樹脂成形体の難燃性を効果的に高めることができ、樹脂成形体の電気特性、特に、誘電率（ε）および誘電正接（ｔａｎδ）が低く、しかも耐熱性が高いホスファゼン化合物を実現する。
【解決手段】ホルミルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物に、カルボニルオレフィン化反応を行う工程を含む、式（１）で表されるエテニルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法。


式（１）中、ｎは１〜６の整数を示し、Ａは少なくとも一つが式（２）で示されるエテニルフェノキシ基で、その他のＡがアリールオキシ基である。
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【課題】樹脂成形体の難燃性を効果的に高めることができ、樹脂成形体の電気特性、特に、誘電率（ε）および誘電正接（ｔａｎδ）が低く、しかも耐熱性が高いホスファゼン化合物を実現する。
【解決手段】脱離基を有するフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物とエテニル化合物との炭素炭素結合形成反応工程を含む下記の式（１）で示されるエテニルフェノキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法。


式（１）中、ｎは１〜６の整数を示し、Ａは少なくとも一つが式（２）で示されるエテニルフェノキシ基で、その他のＡがアリールオキシ基である。
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【課題】加工性が良好な共役ジエン系重合体、及びヒステリシスロスの低減化が図られた前記当該共役ジエン系重合体を用いた組成物を得ることが可能なアニオン重合開始剤を得る。
【解決手段】炭化水素溶媒中で、アニオン重合可能な単量体とポリビニル芳香族化合物とを含有する単量体の混合物を、アミドリチウム化合物の存在下、下記の条件（Ａ）及び（Ｂ）に従い、反応させることにより得られるアニオン重合開始剤であって、
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）が５００〜２０, ０００であって、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．０〜３．０であるアニオン重合開始剤。
（Ａ）ポリビニル芳香族化合物／アミドリチウム化合物のモル比が０．０１以上０．４未満の範囲。
（Ｂ)全単量体中のポリビニル芳香族化合物の含有量が０．５〜３０質量％。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤現像時のパターン部の意図しない溶解に起因する解像性及び矩形性の低下を防ぎ、ドライエッチング耐性に優れ、特にＫｒＦ露光に好適なパターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ア）酸の作用により分解して極性基を生じる基を有する繰返し単位を有する樹脂（Ａ）、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物（Ｂ）、及び溶剤（Ｃ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成する工程、（イ）該膜を露光する工程、及び（ウ）該露光された膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型パターンを形成する工程を有するパターン形成方法であって、樹脂（Ａ）中の全繰返し単位に対して、下記一般式（Ｉ）で表される繰返し単位の含有量が２０モル％未満で、かつ一般式（Ｉ）以外の非フェノール系芳香族基を有する繰返し単位を有する、パターン形成方法。
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【課題】優れた加工性を有し、低ヒステリシスロス性能及びウェットスキッド抵抗性能に優れ、かつこれらのバランスが良好で、高い耐摩耗性及び破壊強度を有する変性共役ジエン系重合体組成物を提供する。
【解決手段】変性率が７５質量％以上の変性共役ジエン系共重合体であって、分子量分布曲線に、少なくとも３つのピーク（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）が存在し、前記分子量分布曲線の全体面積を１００％としたときに、ピーク（Ａ）面積が５〜３９％、ピーク（Ｃ）面積が１０％以上であり、ピーク（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）のピークトップ分子量が以下の範囲である変性共役ジエン系共重合体。ピーク（Ａ）：ピークトップの分子量が、１０万〜３０万。ピーク（Ｂ）：ピークトップの分子量が、ピーク（Ａ）のピークトップ分子量の１．５倍〜４．０倍。ピーク（Ｃ）：ピークトップの分子量が、３０万以上。 （もっと読む）

【課題】リチウム二次電池の高温保存時のガス発生及び電池容量の低下を抑制する。
【解決手段】電解質は、重合性化合物又は重合体を含み、重合性化合物は、芳香族官能基と重合性官能基とを有するもの、及び金属イオンと錯体を形成する錯体形成官能基と重合性官能基とを有するものを含み、重合体は、錯体形成官能基と芳香族官能基と重合性官能基の残基とを有する。 （もっと読む）

【課題】低ヒステリシスロス性能及びウェットスキッド抵抗性能に優れ、かつこれらのバランスが良好で、優れた耐摩耗性及び高い破壊強度を有する変性共役ジエン系重合体組成物を得る。
【解決手段】共役ジエン系炭化水素とビニル芳香族炭化水素とからなる共役ジエン系共重合体の末端に、アミノ基とアルコキシシリル基を有する変性基を有し、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）で温度間隔を０．２℃として測定したＴｇ分布指数が、０．００７以上である変性共役ジエン系共重合体及び当該変性共役ジエン系共重合体とシリカ系無機充填剤を含有する組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜、特には３層を有する多層レジスト膜のレジスト下層膜、又は、レジストパターンの側壁に直接珪素酸化膜を形成したり、レジストパターンに珪素酸化膜を形成してポジネガ反転を行う際に用いるレジスト下層膜であり、反射率を低減でき、エッチング耐性が高いレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成方法及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜材料であって、少なくともフッ素原子を有するスチレン誘導体単位を、繰り返し単位として含有する重合体を含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。 （もっと読む）

【課題】吸水性樹脂粒子の吸収量が加圧下でも無加圧下と同等以上の吸収量がある吸収性樹脂粒子を提供すること。加圧下の吸収性物品の表面ドライ感が高い吸収性物品を提供すること。
【解決手段】水溶性ビニルモノマー（ａ１）及び／又は加水分解性ビニルモノマー（ａ２）並びに内部架橋剤（ｂ１）を必須構成単位とする架橋重合体（Ａ）を含んでなる吸収性樹脂粒子であって、１５０Ｇ保水量が６〜２０ｇ／ｇであり、４０ｇ／ｃｍ^２加圧下吸収量が１５０Ｇ保水量以上であり、ゲル通液速度が２００ｍｌ／ｍｉｎ以上である吸収性樹脂粒子。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度を有するパターンを製造することができるレジスト組成物の酸発生剤用の塩を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。［Ｒ^１及びＲ^２はフッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｒ^３は、水素原子又はメチル基を表す。Ｘ^１は２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基を表し、前記２価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよく、前記２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。Ｘ^２は、炭素数１０〜１4の２価の芳香族炭化水素基を表す。Ｘ^３は、単結合、^＊１−ＣＯ−Ｏ−^＊２又は^＊１−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｋ−ＣＯ−Ｏ−^＊２を表す。Ｚ^１＋は、有機対イオンを表す。］
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【課題】シリカ系無機充填剤等の各種無機充填剤との親和性に優れ、加硫物としたときに、ウェットスキッド特性と低ヒステリシスロス性とのバランスに優れ、実用上十分な耐摩耗性及び破壊強度を満足する変性共役ジエン系重合体を提供する。
【解決手段】ポリビニル芳香族化合物とリチウムとのモル比（ポリビニル芳香族化合物／リチウム）が０．０５〜１．０の範囲で調製された多官能アニオン重合開始剤を用いて、共役ジエン化合物を重合、又は共役ジエン化合物と芳香族ビニル化合物とを共重合することによって得られる共役ジエン系共重合体の重合活性末端に、２つ以上のアルコキシ基で置換されたシリル基と１つ以上の窒素原子を有する化合物を、反応させることにより得られる、共役ジエン重合体の末端部に１つ以上のアルコキシ基で置換されたシリル基及び１つ以上の窒素原子を有する変性共役ジエン系重合体を提供する。 （もっと読む）

【課題】省燃費性に優れる重合体組成物を得ることができる共役ジエン系重合体、該共役ジエン系重合体とシリカなどの補強剤とを配合してなる重合体組成物、及び、該共役ジエン系重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】共役ジエンに基づく単量体単位と置換ジフェニルエチレンに基づく単量体単位とを有する共役ジエン系重合体であって、共役ジエンに基づく単量体単位を有する部分鎖と共役ジエンに基づく単量体単位を有する部分鎖との間に置換ジフェニルエチレンに基づく単量体単位を有し、下記式（２）で表される化合物によって重合体の少なくとも一端が変性されている共役ジエン系重合体。


（Ｘは酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｒ³は、窒素原子及び／又は酸素原子を有する基、ヒドロカルビル基又は水素原子を表し、Ｒ⁴は、窒素原子及び／又は酸素原子を有する基を表し、Ｒ³とＲ⁴は結合していてもよい。） （もっと読む）

【課題】耐摩耗性に優れる重合体組成物を得ることができる共役ジエン系重合体、該共役ジエン系重合体とシリカなどの補強剤とを配合してなる重合体組成物、及び、該共役ジエン系重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】共役ジエンに基づく単量体単位と置換ジフェニルエチレンに基づく単量体単位とを有する共役ジエン系重合体であって、下記式（２）で表される化合物によって重合体の少なくとも一端が変性されている共役ジエン系重合体。


（ｎは１〜１０の整数、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵は、炭素原子数が１〜１０のヒドロカルビル基又は炭素原子数が１〜１０のヒドロカルビルオキシ基を表し、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵の少なくとも１つがヒドロカルビルオキシ基であり、Ｒ⁶は窒素原子、酸素原子及び硫黄原子からなる原子群から選ばれる少なくとも１種の原子を有する基を表す。） （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性の高分子化合物、（Ｂ）酸発生剤、（Ｃ）塩基性成分として窒素を含有する化合物を含有し、上記（Ａ）成分の高分子化合物が、架橋剤の存在下又は不存在下で、上記酸発生剤から発生する酸触媒によりアルカリ不溶性となる電子線用又はＥＵＶ用化学増幅ネガ型レジスト組成物であって、上記（Ａ）成分かつ（Ｃ）成分が塩基性ポリマー（ＰＢ）を含むことを特徴とする電子線用又はＥＵＶ用化学増幅ネガ型レジスト組成物。
【効果】超微細パターンを要求されるレジストパターンの形成において、上記化学増幅ネガ型レジスト組成物を用いることで、塩基の拡散を均一にでき、ラインエッジラフネスの改善、更には酸の基板界面の失活が抑制でき、アンダーカットの度合いが小さい電子線用又はＥＵＶ用化学増幅ネガ型レジスト組成物の提供。 （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基で置換又は非置換のナフトール基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶媒とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得ることを特徴とするパターン形成方法。
【効果】上記繰り返し単位を含む高分子化合物と酸発生剤とを含むフォトレジスト膜は、有機溶剤による現像のポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く溶解コントラストが高く、酸拡散を抑制する。このフォトレジスト膜、格子状パターンのマスクを用いて露光、現像することで微細なホールパターンを寸法制御よく形成でき、更にアミノ基又はアミン塩を有する保護膜を適用することでホールパターンの開口不良を防ぎ、寸法均一性を向上できる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ハロゲン元素や硫黄化合物を使用しなくても、屈折率が高く、透明性、耐熱性に優れた、光学用物品向けの樹脂を得ることができるフマル酸ジ（１−ナフチルメチル）を重合成分とする高屈折率樹脂を提供することにある。
【解決手段】 フマル酸ジ（１−ナフチルメチル）を重合成分として有する高屈折率樹脂であって好ましくはフマル酸ジ（１−ナフチルメチル）と芳香族ビニル単量体を４０〜１００質量％の割合で重合成分として有する高屈折率樹脂であり、光学材料用として用いるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】従来提供されているポリマレイミド化合物よりも、より一層耐熱性に優れ、長期間高温条件下においた場合の熱重量減少の少ない硬化物を実現し得るポリマレイミド化合物を提供する。
【解決手段】（Ａ）；ポリマレイミド化合物と、（Ｂ）；芳香族液状反応性希釈剤と、（Ｃ）；アニオン重合促進剤と、（Ｄ）；ラジカル重合促進剤とを含有し、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計１００重量部に対する（Ｃ）成分と（Ｄ）成分の合計の含有量が０．００１重量部以上１重量部以下であるポリマレイミド系組成物。 （もっと読む）

【課題】高感度であり、ｐＨが９未満の中性現像液もしくはｐＨが９〜１２の範囲にあるアルカリ水溶液で現像処理が可能な、優れた現像性と高耐刷性を両立した感光性平版印刷版材料を与えること。
【解決手段】バインダーポリマー、光重合開始剤およびこれを増感する化合物と、下記一般式Ｉで示される分子内に、重合性二重結合基が結合した１，３，４−チアジアゾール基を２個以上有する多官能性モノマーを含んでなる感光層を有する感光性平版印刷版材料を用いる。
【化１】
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