【課題】屈折率が低く、耐擦傷性、防汚性に優れる硬化物を与える硬化性樹脂組成物及びその硬化物からなる低屈折率層を有する反射防止膜を提供する。
【解決手段】（Ａ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体、（Ｂ）下記一般式（Ｂ−１）で表される化合物、及び（Ｉ）有機溶剤を含有する硬化性樹脂組成物。


［式（Ｂ−１）中、Ｒ^ｂは水素原子又はメチル基である。］ （もっと読む）

【課題】レジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、焦点深度が広く、光線透過率が高く、現像時のディフェクトが少なく、レジスト膜の薄膜化に耐え得るドライエッチング耐性を有するレジスト用重合体を提供する。
【解決手段】式（１−１）で表される酸脱離性基が結合しているナフタレン骨格を有する構成単位Ａ１を含むレジスト用重合体。なお、Ｙが酸脱離性基である。
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【課題】ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー等のレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、光線透過率が高く、レジストパターンのラインエッジラフネスが小さく、レジスト膜の薄膜化に耐えることができるドライエッチング耐性を有する重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
特定のナフタレン骨格を有する構成単位（Ａ）及び特定の脂環ラクトン骨格を有する構成単位（Ｂ１）を含有するレジスト用の重合体、レジスト組成物、及びレジスト組成物を基板上に塗布してレジスト膜を形成する工程、２５０ｎｍ以下の波長の光で露光する工程及び現像液で現像する工程を有するパターンが形成された基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】光ナノインプリント工程に用いる光ラジカル重合性モノマ組成物の粘度を低下させて、工程に要する時間を短縮する。
【解決手段】１０００ｎｍ以下の最小加工寸法を有する微細構造物であって、該微細構造物はビニルエーテル化合物とアクリレート化合物又はメタクリレート化合物との共重合体からなる熱可塑性重合体からなることを特徴とするナノ構造物。前記ナノ構造物は基体と一体化されていてもよく、支持体上に基体とともに又は独立して形成されても良い。
前記ナノ構造物は、ビニルエーテル化合物、アクリレートエステル化合物又はメタクリレート化合物及び光ラジカル重合触媒を含む組成物を重合させて得られる。 （もっと読む）

【課題】水又は水に対する液浸媒体に対して高い撥水性及び耐水性を有し、剥離剤によって容易に剥離し、かつフォトレジスト層とのミキシングを起こさない保護膜を形成するための液浸リソグラフィー用レジスト保護膜形成用材料を提供する。
【解決手段】水又は水を主成分とする液浸媒体からフォトレジスト層を保護する非水溶性でかつ有機溶剤可溶性の保護膜を形成するための保護膜形成用材料であって、少なくとも下記一般式（１）


（式中、Ｘは少なくとも炭素数３〜１５の脂環骨格を有する基を示す）
で表される構成単位を有する樹脂を含むことを特徴とする液浸リソグラフィー用レジスト保護膜形成用材料。 （もっと読む）

【課題】各種の樹脂の改質剤、架橋剤及び光学・電子材料などに用いられる低誘電率樹脂の原料として有用な４−アセトキシシクロヘキシルビニルエーテルの提供。
【解決手段】


で表される４−アセトキシシクロヘキシルビニルエーテル。 （もっと読む）

本発明は、
フッ化ビニルから誘導される約４０〜約９０モル％の繰り返し単位と、
以下の（ａ）と（ｂ）およびこれらの混合物からなる群から選択されるモノマーから誘導される約１０〜約６０モル％の繰り返し単位とを、コポリマーの約０．１モル％〜５０モル％の繰り返し単位が、（ｂ）から選択されるモノマーから誘導されるという条件で含み、
（ａ）は、テトラフルオロエチレン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレンおよびこれらの混合物からなる群から選択されるモノマーであり、
（ｂ）は、ヒドロキシル、チオール、カルボニル、カルボン酸、カルボン酸エステル、酸無水物、スルホニル、スルホン酸、スルホン酸エステル、リン酸、リン酸エステル、ホウ酸、ホウ酸エステル、エポキシ、イソシアネート、チオシアネート、アミン、アミド、ニトリルならびに臭素およびヨウ素から選択されるハロゲンからなる群から選択される少なくとも１つの官能基を含有するビニルモノマーである、フッ化ビニルコポリマーを提供する。 （もっと読む）

【課題】耐加水分解性に優れた、立体的に嵩高い置換基を有するシリコーン化合物及びシリコーンモノマーを高純度に合成することができる、シリコーン化合物の製造方法及びそれを利用したシリコーンモノマーの製造方法、並びに該シリコーンモノマーと他のモノマーを共重合させて得られる成形体及び該成形体から成る眼用レンズを提供すること。
【解決手段】特定の構造を有するハロシラン化合物と、特定の構造を有する3-グリシドキシプロピルアルコキシシランとを反応させて特定のシリコーン化合物を得、これを塩基と反応させて特定のシリコーン化合物を得る。このシリコーン化合物をラジカル重合可能な炭素−炭素二重結合を少なくとも１つ有するカルボン酸と反応させて、シリコーンモノマーを得る。 （もっと読む）

【課題】静電塗装において高い塗着効率を達成するとともに、得られる皮膜が優れた耐熱性、非粘着性、低摩擦性、耐薬品性などの性質を有するフッ素系重合体粉末により被覆したオフィスオートメーション機器用ロールを提供する
【解決手段】フッ素系重合体粉末にフッ素化剤を接触させて、−CH_２OHおよび−COF末端基の合計数を炭素数１０^６個あたり７〜５０個とし、次いで、該フッ素系重合体粉末をアンモニアガスと接触させて−COFを−CONH_２に変換し、−CH_２OHおよび−CONH_２末端基の合計数を炭素数１０^６個あたり７〜５０個とすることにより製造された、平均粒径が５〜１００μｍの範囲にあるフッ素系重合体粉末により被覆されたオフィスオートメーション機器用ロール。 （もっと読む）

【課題】不飽和二重結合を有し変性ポリビニルアルコールを含む感光性組成物の提供。
【解決手段】分子主鎖中に、一般式で表される不飽和二重結合を有する結合単位を含有する変性ポリビニルアルコールを含む感光性組成物。
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【課題】防汚性、撥水撥油性に優れ、フッ素樹脂の特徴である耐薬品性、耐候性等の優れた特徴を有し、且つ１液で光及び／または熱の手段で硬化を可能とさせる二重結合を含有する含フッ素共重合体を含む硬化塗膜を提供すること。
【解決手段】重合単位として、フルオロオレフィンを１５〜８５モル％、特定の反応性シリコーンオイルを０．００１〜３０モル％、特定の水酸基含有不飽和エーテルを１〜５０モル％含み構成される水酸基含有含フッ素共重合体［Ａ］と、不飽和イソシアネート［Ｂ］との反応により生成され、二重結合を含有することを特徴とする含フッ素共重合体を含む硬化塗膜。 （もっと読む）

【課題】内燃機関において分散剤として有用な多機能の潤滑油添加剤を提供する。
【解決手段】共重合体を、少なくとも一種のエーテル化合物、および少なくとも一種のモノカルボン酸もしくはそのエステルまたはジカルボン酸、その無水物もしくはエステルと反応することができる少なくとも一種の脂肪族化合物と反応させることからなる方法により製造された油溶性の潤滑油添加剤組成物。 （もっと読む）

【課題】低屈折率で高い硬度を有し、且つ、汚染や剪断といった外的刺激に対して安定なポリマーを与える重合性含フッ素化合物を提供する。
【解決手段】一般式（Ｉ）で表される重合性含フッ素化合物であって、フッ素含有率が該含フッ素化合物の分子量について３５質量％以上であり、重合により得られる重合体の架橋間分子量の計算値がいずれも３００以下となる重合性含フッ素化合物、および一般式（II）、（III）で表される含フッ素アルコール。


［式（I）中、Ｒｆ_１,Ｒｆ_２は少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含み、酸素原子及び／又は水素原子を含んでもよい。］ （もっと読む）

【課題】低い屈折率と耐擦傷性とを両立した硬化性樹脂組成物およびこれを用いた硬化物、反射防止フィルム、偏光板、および画像表示装置の提供。
【解決手段】ヘキサフルオロプロピレンと、式ＣＨ(ＯＲ―ＯＨ)＝ＣＨ₂（式中、Ｒは炭素数１〜２０のアルキレン基）で表される水酸基含有ビニルエーテルとを単量体成分として有し、ヘキサフルオロプロピレンを上記水酸基含有ビニルエーテルに対して１．６当量以上５．０当量以下の範囲で反応させて得られるフルオロオレフィン共重合体中を含む硬化性樹脂組成物。該硬化性樹脂組成物を硬化させた硬化物を低屈折率層５に用いた反射防止フィルム１ａまたは１ｂ。該反射防止フィルムを保護フィルムとして有する偏光板。該偏光板を画像表示部に有する画像表示装置。 （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光においても、露光−ＰＥＢ間の引き置きによるレジストパターンの倒れ、プロファイルの劣化が少なく、ラインエッジラフネス性能にも優れ、スカムの発生が抑制された、また、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂および（Ｄ）溶剤を含有するレジスト組成物であって、樹脂（Ｃ）の分子量分散度が１．３以下、かつ重量平均分子量が１.０×１０^４以下であることを特徴とするレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも３つの異なる構造単位を有する疎水変性カチオン性コポリマーに関する。殊にアニオン性界面活性剤との組み合わせにおいて、高い塩負荷の場合ですら、水硬性結合剤、例えばセメントをベースとする水性建築材料系における保水性が著しく改善されうる。 （もっと読む）

【課題】長期にわたる撥水撥油性、繰り返しの汚染除去性に優れ、一液型で光及び／または熱の作用下に硬化可能な新規な不飽和二重結合含有含フッ素共重合体を主成分とするフッ素系ワニスを提供する。
【解決手段】フルオロオレフィンが１５〜８５モル％、特定の有機珪素化合物が０．００１〜３０モル％、及び特定のヒドロキシル基含有不飽和エーテルが１〜５０モル％を重合単位として含み構成されるヒドロキシル基含有含フッ素共重合体〔Ａ〕と、不飽和イソシアネート〔Ｂ〕との反応により生成されることを特徴とする二重結合含有含フッ素共重合体を主成分とするフッ素系ワニス。 （もっと読む）

【課題】反射防止能、防汚性、耐擦傷性に優れ、且つ大量生産に適した塗布型の光学フィルム、代表的には反射防止フィルムなどを製造するための塗布組成物を提供すること、このような塗布組成物を用いて優れた光学フィルムを提供すること、並びにこのような光学フィルムを用いた偏光板及び画像表示装置を提供すること。
【解決手段】主鎖にポリシロキサンセグメントを有する構成成分、及び側鎖に反応性有機官能基を含有する構成成分を含み、且つフッ素原子を含む特定構造の共重合体（Ｐｓ）と、主鎖が炭素原子のみからなる含フッ素共重合体（Ｐｆ）とを含有する塗布組成物。 （もっと読む）

以下の構造式（１）、（２）、（３）、および（４）［式中、ｎは０または１であり、ｍは１、２、３、４、５、または６であり；ｏは１から２００の自然数であり；かつＡは−（Ｈ₂Ｃ−ＣＨＲ¹−Ｏ）−、または（Ｒ¹ＨＣ−ＣＨ₂−Ｏ）−（式中、Ｒ¹は相互に独立して水素、または１の有機基である）の基である］を有するポリエーテルオールから構成される群から選択されている少なくとも１の不飽和ポリエーテルオールの存在下で行う重合により、超吸収体を製造する。
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【課題】シロキサン結合を形成することによって架橋し得る珪素含有官能基を有する（メタ）アクリル酸エステル系重合体であって、環境問題を引き起こす可能性がある芳香族化合物を溶剤として含まず、ＧＥＶの２００１年２月１４日版に記載の測定法においてのＴＶＯＣ（全揮発性有機化合物）の放散量が１，５００μｇ／ｍ^３未満である重合体あるいはその組成物を提供する。
【解決手段】分子鎖として（メタ）アクリル酸エステル単量体単位からなり、シロキサン結合を形成することによって架橋しうる珪素含有官能基を有する重合体（Ａ）成分の製造方法であって、（メタ）アクリル酸エステル単量体を重合する工程を含み、重合溶媒として芳香族系溶剤を含まない溶剤を用いることを特徴とする製造方法。 （もっと読む）