【課題】熱硬化工程を必要とせず、活性エネルギー線照射のみで、従来の熱硬化衝撃吸収性プライマーと同等の耐衝撃性を有し、さらには、樹脂組成物及びその硬化物の屈折率が高く、光学用基材との密着性に優れる高屈折率の光学部材用衝撃吸収性樹脂組成物の提供。
【解決手段】フルオレン骨格を有する化合物（A）と、ゴム変性樹脂（B）と、前記（A）、（B）以外のカチオン硬化性化合物（C）と、光酸発生剤（D）とを含有してなる光学部材用衝撃吸収性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】膜形成後に高温下で焼成しても高い透過率を維持し、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子、固体撮像素子等に使用されるパターン状絶縁性膜を形成するための材料やカラーフィルタ用材料等に好適なポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ）成分：フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシル基及び、熱又は酸の作用によりカルボン酸又はフェノール性ヒドロキシ基を生成する基からなる群から選択される少なくとも一種類の基を有し、且つ、数平均分子量が２，０００乃至３０，０００であるアルカリ可溶性樹脂、
（Ｂ）成分：一分子の末端に２個以上の不飽和基を有する化合物、
（Ｃ）成分：光酸発生剤、
（Ｄ）溶剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物及び該組成物を用いて得られる硬化膜。 （もっと読む）

【課題】放射線の照射に対して高感度で硬化し、硬化物が充分な柔軟性を有しうる硬化性組成物、該硬化性組成物を含むインク組成物等を提供すること。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＩ）で表される化合物から選択される少なくとも１種を含有することを特徴とする硬化性組成物、及び該硬化性組成物を含むインク組成物等である。一般式（Ｉ）中、Ｒ^１〜Ｒ^４は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、等を表す。但し、Ｒ^２〜Ｒ^４の少なくとも１つは、特定の炭素数を有するアルキル基又はアルケニル基から選択された基である。また、一般式（ＩＩ）中、Ｒ^５〜Ｒ^８は、各々独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、等を表す。但し、Ｒ^６〜Ｒ^８の少なくとも１つは、特定の炭素数を有するアルキル基又はアルケニル基から選択された基である。
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【解決手段】ウエハーに形成したフォトレジスト層上にレジスト保護膜材料による保護膜を形成し、露光を行った後、現像を行うリソグラフィーによるパターン形成方法において用いる前記レジスト保護膜材料であって、カルボキシル基及び／又はスルホ基を有する繰り返し単位と炭化水素からなる繰り返し単位とを共重合した高分子化合物をベースとするレジスト保護膜材料。
【効果】本発明のレジスト保護膜材料を適用することによって、真空中の露光におけるレジスト膜からのアウトガスの発生を抑えることができる。本発明のレジスト保護膜材料は、アルカリ現像液に可溶なためにレジスト膜の現像と同時に剥離が可能である。更に、レジスト膜を溶解することが無く、ミキシング層を形成することも無いので、現像後のレジスト形状に変化を与えることがない。 （もっと読む）

【課題】熱可塑性高分子成形体に低湿度条件下においても充分な耐久性のある帯電防止性を付与でき、同時に熱可塑性高分子成形体等の再利用性、熱可塑性高分子成形体への塗布性、熱可塑性高分子成形体からの非転写性、熱可塑性高分子成形体同士の耐ブロッキング性及び熱可塑性高分子成形体の非タック性等、望まれる優れた性能を発揮する熱可塑性高分子用帯電防止剤、これを用いる熱可塑性高分子成形体の帯電防止方法、これを用いた帯電防止性熱可塑性高分子成形体を提供する。
【解決手段】熱可塑性高分子用帯電防止剤として、分子中に、第四級アンモニウム塩基を有する特定の単量体から形成された構成単位と、ポリオキシアルキレン基を有する特定の単量体から形成された構成単位と、特定の架橋性単量体から形成された構成単位とを所定割合で有する、所定の数平均分子量のビニル共重合体を用いた。 （もっと読む）

【課題】カチオン重合により重合可能で、キレート樹脂として有用な新規なアセトアセトキシ基含有ビニルエーテル化合物、その重合体又は共重合体の提供。
【解決手段】次の式（１）


で表される２−アセトアセトキシエチルビニルエーテル。 （もっと読む）

【課題】電圧保持率の低下を抑え、画像再現性が良好で安定した画像表示を可能とする。
【解決手段】平均粒子径が２００ｎｍ以下の着色剤と、一分子中にカルボキシル基及びリン酸基の少なくとも一つとスルホン酸基とを有するアルカリ可溶性樹脂とを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】目的とする用途において設計通りの性能を発揮できる重合体、その製造方法、およびレジスト膜に設計通りの性能を発揮させ、かつレジストパターンにおけるディフェクトの発生を抑えることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】重合体の製造に用いる各容器（重合槽２０、精製槽３０、溶解槽５０または、濃縮槽７０）として、前製造ロットの重合体の貧溶媒を容器の内面に接触させた際に前製造ロットの重合体が析出しないものを用いる。 （もっと読む）

【課題】金属および半金属含有量の少ない重合体を安定して製造できる製造方法、金属および半金属含有量の少ない重合体およびレジスト組成物を提供する。
【解決手段】重合体が分散媒に分散した分散液を、フィルター４２を用いてろ過して重合体湿粉を製造する工程を有し、前記フィルター４２として、酸性水溶液で洗浄したものを用いる重合体の製造方法、該製造方法によって得られた重合体、および該製造方法によって得られた重合体を含有するレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】乾燥処理前の塩素化塩化ビニル系樹脂中の塩酸濃度を低くし、その後の乾燥処理の塩酸除去負荷を軽減し、乾燥機の腐食等の問題を軽減できる塩素化塩化ビニル系樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の塩素化塩化ビニル系樹脂の製造方法は、塩化ビニル樹脂、または塩化ビニルと他の共重合可能な単量体との共重合体を塩素化して得られる塩素化塩化樹脂スラリーから副生される塩酸の水溶液を分離する工程中或いは工程後に、次亜塩素酸塩を塩素化塩化ビニル樹脂スラリーまたは含水樹脂に添加する。 （もっと読む）

【課題】目的とする用途において設計通りの性能を発揮できる重合体、その製造方法、およびレジスト膜に設計通りの性能を発揮させ、かつレジストパターンにおけるディフェクトの発生を抑えることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】重合体の製造に用いる各容器（調合槽１０、重合槽２０、または精製槽３０）として、容器充填後の水の電気伝導度（Ｘ）と容器充填前の水の電気伝導度（Ｙ）との差（Ｘ−Ｙ）が、１．８μＳ／ｃｍ以下であるものを用いる。ただし、容器充填前の水としては、電気伝導度が０．５μＳ／ｃｍ以下である純水を用い、容器充填後の水の電気伝導度（Ｘ）は、所定量の純水を容器に充填し、充填完了後１時間撹拌してから測定した容器内の水の電気伝導度とする。 （もっと読む）

【課題】 大気中の酸素により硬化反応が阻害されず優れた光硬化性を（表面硬化性、内部硬化性）有し、その光硬化物が樹脂、金属、ガラスといった様々な基材に対する良好な密着性を示す、且つ金属基材を腐食させることがないカチオン系感光性組成物を提供すること。
【解決手段】(a)カチオン重合性を有する化合物、(b)エネルギー線感受性カチオン重合開始剤、(c) 熱アミン発生剤からなるカチオン重合性組成物。 （もっと読む）

【課題】誘電率、誘電正接、熱膨張率をいずれも小さくすることができると共に、絶縁信頼性を高く得ることができる低誘電樹脂組成物を提供する。
【解決手段】シェル及び中空部からなる中空粒子と熱硬化性樹脂とを含有する低誘電樹脂組成物に関する。中空粒子として、シェル全体の９８質量％以上がシリカで形成されており、平均空隙率が３０〜８０体積％であり、かつ平均粒径が０．１〜２０μｍであるものを用いる。 （もっと読む）

【課題】硬化性組成物、並びに該組成物を用いて耐擦傷性に優れたフィルムや反射防止フィルム、さらにそのような反射防止フィルムを用いた偏光板や画像表示装置の提供。
【解決手段】（Ａ）含フッ素ビニルモノマー重合単位（ａ）及び水酸基含有ビニルモノマー重合単位（ｂ）を、それぞれ少なくとも１種ずつ含有し、重合単位（ｂ）が占める割合が２０モル％を超える含フッ素ポリマーを少なくとも１種、（Ｂ）水酸基と反応可能な架橋剤を少なくとも１種、並びに（Ｃ）電離放射線の照射により酸を発生する化合物を少なくとも１種を含む硬化性組成物、並びに該組成物を用いて得られる硬化物、及び透明支持体上に該組成物を塗設して形成された層を有するフィルム又は反射防止フィルム、並びに該反射防止フィルムを用いた偏光板、及び該反射防止フィルム又は該偏光板をディスプレイの最表面に用いた画像表示装置。 （もっと読む）

【課題】熱安定性、特に低温溶融領域（１７５〜２１０℃）での耐着色性に優れたフッ化ビニリデン系樹脂組成物を与える。
【解決手段】安定末端基を５５％以上有するフッ化ビニリデン重合体１００重量部と、マグネシウムおよび亜鉛の水酸化物および酸化物から選ばれる少なくとも一種の化合物の０．０１〜０．１重量部とからなるフッ化ビニリデン系樹脂組成物。 （もっと読む）

本発明は、エチレン不飽和アルコキシシリル官能性シラン（Ｓ）１００重量部とエチレン不飽和コモノマー（Ｃ）０〜１００重量部の重合によって得られるアルコキシル官能性オリゴマー（Ａ）とその加水分解物および縮合物と、表面にオリゴマー（Ａ）を有するコア・シェル粒子（ＰＡ）と、複合材料（Ｋ）を生成するための粒子（ＰＡ）の使用に関する。 （もっと読む）

（ｉ）触媒粒子と、（ｉｉ）−ＳＯ_２Ｆ形の少なくとも１種の（ペル）フルオロスルホニルフルオリドポリマーからなるポリマー粒子と、（ｉｉｉ）水性懸濁媒体と、を含む触媒−ポリマー液状分散体（ＬＤ）。それから得られる、触媒被覆膜前駆体（ＣＣＭＰ）、触媒被覆膜（ＣＣＭ）、および触媒イオノマーインク（ＣＩＩ）、ならびにそれらの製造方法。前記（ＣＩＩ）から得られる触媒被覆膜（ＣＣＭ−ＣＩＩ）。 （もっと読む）

【課題】広いコンクリート製造条件に対して、分散性、分散保持性、初期強度が高いレベルで発現するセメント分散剤を提供する。
【解決手段】ポリオキシアルキレン基を有するエチレン系不飽和カルボン酸誘導体等の特定の単量体(A)、及び（メタ）アクリル酸等の特定の単量体(B)とを連鎖移動剤の存在下に共重合させて共重合体混合物を得る工程であって、前記モル比(A)／(B)を反応途中において少なくとも１回変化させ、且つ反応系に添加される連鎖移動剤の添加量を変化させて共重合体混合物(I)を得る工程と、これとは単量体(B)と全単量体の平均重量比が異なる共重合体混合物(II)を同様にモル比(A)／(B)と連鎖移動剤の添加量を変化させて得る工程と、を有するセメント分散剤の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、成形体において、表面粗度Ｒａ、引張強度及び／又は引張伸びを従来よりも向上させることができ、また、絶縁破壊強度を良好にすることができ、更に、所望により見掛け密度及び／又は粉末流動性にも優れるポリテトラフルオロエチレン粉末、並びに、ポリテトラフルオロエチレン成形用粉末の製造方法を提供することにある。
【解決手段】測定用成形体ａ１の表面粗度Ｒａが０．９２μｍ未満であることを特徴とするポリテトラフルオロエチレン粉末。 （もっと読む）

本発明は、イミダゾール（３）タイプの複素環をもつモノマー（６，１４）である。本発明によれば、モノマー（６，１４）の化学構造は、少なくとも式（１）〔式中、Ｒ１がアルケニル基であり、Ｒ２が複素環の窒素原子の一つの保護基である。〕をもっている。本発明は、またベンズイミダゾールタイプ複素環をもつモノマーである。本発明は、また上記モノマーから得られる保護基をもつポリマー、保護基をもつポリマーから脱保護基して製造された脱保護基されたポリマー、脱保護基されたポリマーをベースにして製造されたイオン交換膜、この膜を用いた燃料電池に関するものである。さらに、本発明は、上記モノマーおよびポリマーの製造方法に関するものである。
【化３】
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