【解決手段】酸によってアルカリ溶解性が向上するベース樹脂となる高分子化合物と、高分子添加剤としてナフチル基を有する繰り返し単位とフッ素原子を有する繰り返し単位とを共重合した高分子化合物とを含むレジスト材料。
【効果】本発明のレジスト材料を用いて形成したフォトレジスト膜は、レジスト膜表面を親水性化することで、現像後レジスト膜上のブロッブ欠陥の発生を防止できる。また、液浸露光用のレジスト保護膜とのミキシングを防止することでパターン形状の劣化を防止でき、膜表面に残存する液滴が誘発するパターン形成不良を低減することもできる。
従って、本発明のレジスト材料を用いれば、液浸リソグラフィーにおけるコストを削減し、欠陥の少ない微細なパターンを高精度で形成できる。 （もっと読む）

【課題】塗膜としたときに低屈折率性、透明性、防汚性、撥水撥油性、表面滑り性及び耐擦傷性等の特性を有し、かつ汎用有機溶剤への可溶性や貯蔵安定性に優れる含フッ素ランダム共重合体あるいは二重結合含有含フッ素ランダム共重合体、あるいはこれらを含む組成物を提供すること。
【解決手段】特定のフルオロオレフィン（A）１０〜７５モル％、特定のフルオロアルキルパーフルオロビニルエーテル（B）４〜７０モル％、特定の水酸基含有不飽和単量体（C）１０〜７０モル％、特定のポリシロキサン化合物（D）０．００１〜１０モル％を含んでなり、かつ、ゲルパーミエーションクロマトグラフィで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量が5,000〜300,000であり、重量平均分子量／数平均分子量で表される分子量分布が1.0〜5.0の範囲であることを特徴とする含フッ素ランダム共重合体。 （もっと読む）

【課題】 ハイドロタルサイトを高濃度で配合した場合であってもハイドロタルサイト粒子の凝集を防止し、しかも生産性に優れた、オキシアルキレン基含有ビニルエステル系樹脂の液性組成物の製造方法、並びに当該方法により得られるオキシアルキレン基含有ビニルエステル系樹脂及びハイドロタルサイトを含有している有機溶剤液及び水性液を提供する。
【解決手段】 オキシアルキレン基含有ビニルエステル系樹脂の有機溶剤溶液を、ハイドロタルサイトの存在下でケン化し、さらに必要に応じて、ケン化後に、前記溶液の溶媒を置換する。あるいは、ケン化度が０モル％又はケン化後のオキシアルキレン基含有ビニルエステル系樹脂の有機溶剤溶液に、ハイドロタルサイトを配合した後、前記溶液の溶媒置換する。 （もっと読む）

【課題】良好なアルカリ現像性を耐熱性、透明性に優れた硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】特定構造を有する硬化性樹脂組成物は、耐熱性とともに透明性にも極めて優れた塗膜を形成し、かつ良好なアルカリ現像性することができるものであり、例えば、レジスト材料、各種コーティング剤、塗料等の用途において好適に用いることができる。また、本発明によれば、パターンの欠損や現像残渣のない良好な品質のカラーフィルタを提供することができる。 （もっと読む）

【課題】簡便な電極作製プロセスに適用可能であり、二次電池に用いた場合にエネルギー密度を改善可能なラジカル化合物を提供し、そのラジカル化合物と炭素材料との複合体を電極活物質として用いた二次電池を提供する。
【解決手段】側鎖にニトロキシルラジカル構造をもつ繰り返し単位を８０〜９９モル％の割合で有し、かつクロロメチルフェニル基、またはエポキシ基をもつ炭素数１〜１２の炭化水素基、をもつ繰り返し単位を１〜２０モル％の割合で有する、重量平均分子量１０００〜５０００００の高分子化合物を合成し、その高分子化合物、炭素材料および電極用バインダーを含有するスラリーを集電体上に塗布した後、電子線または紫外光を照射して作製した電極を用いる。 （もっと読む）

【課題】分散性及び保持性に優れたセメント混和剤及びセメント組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で示される不飽和ポリアルキレングリコールエーテル系単量体（ａ）由来の構成単位（Ｉ）と、不飽和モノカルボン酸系単量体（ｂ）由来の構成単位（ＩＩ）とを含んでなる共重合体を必須成分として含み、且つ、特定の条件を満たすセメント混和剤。


（式（１）中、Ｙは、炭素数４から８のアルケニル基を表し、Ｔは同一または異なっていてもよく、炭素数１〜５のアルキレン基または炭素数６〜９のアリール基を示し、ｍは０または１を示し、Ｒ^１Ｏは、炭素数２〜１８のオキシアルキレン基の１種または２種以上を表し、ｎは、オキシアルキレン基の平均付加モル数であり、１〜５００の数を表す。） （もっと読む）

【課題】記録層の作成時に、溶媒への溶解及び乾燥工程を必要としないホログラム記録材料用樹脂、及び本樹脂を用いたホログラム記録媒体を提供することにある。
【解決手段】下記式（１）：
【化１】


［式中、Ｒ^１は炭素数２〜８のアルキレン基、Ｒ^２は水素原子またはメチル基、ｍは正の整数である］
で示される繰り返し単位を有するビニル系重合体を含有することを特徴とするホログラム記録材料用樹脂、ならびに記録層が、該樹脂を形成させて得られるホログラム記録媒体。 （もっと読む）

【課題】 耐寒性を損なわずに、長期熱老化後の伸び変化率の小さいアクリルゴム架橋物を与えるアクリルゴム及びアクリルゴム組成物を提供すること。
【解決手段】 メタクリル酸アルキルエステル単位（Ａ）２〜８重量％、アクリル酸アルキルエステル単位（Ｂ）及び／又はアクリル酸アルコキシアルキルエステル単位（Ｃ）８７〜９７．５重量％、並びに、カルボキシ基含有α、β−エチレン性不飽和単量体単位（Ｄ）０．５〜５重量％からなるアクリルゴムが提供される。また、前記アクリルゴムに架橋剤を含有してなるアクリルゴム組成物、およびそれを架橋してなるアクリルゴム架橋物が提供される。 （もっと読む）

【課題】多孔性線状ポリマー組成物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】複数の線状混合極性ポリマー粒子を含む多孔性ポリマー組成物であって、前記粒子が、線状ポリ［（非極性オレフィン）−（極性オレフィン）］および少なくとも１つの孔を含むものが開示され、またさらに触媒成分も含む粒子も開示される。複数の線状混合極性ポリマー粒子を形成する方法も開示される。重合を触媒するための触媒成分を含む複数の線状混合極性ポリマー粒子を使用する方法がさらに開示される。複数の線状非極性ポリマー粒子および触媒成分を含む多孔性ポリマー組成物が、触媒成分を含む線状非極性ポリマー粒子の製造方法および重合を触媒するためにこれらを使用する方法とともに開示される。 （もっと読む）

【解決手段】次の一般式（１）


〔式中、Ｒ¹ 及びＲ² のいずれか一方は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基（ｔｅｒｔ−ブチル基を除く）を示し、他方は炭素数１〜４のアルキル基（ｔｅｒｔ−ブチル基を除く）を示し、Ｒ³ 〜Ｒ⁹ は、１価の非重合性基を示し、Ａは重合可能な炭素−炭素二重結合を有する基を示す。〕
で表わされる重合性化合物、これ単独又はこれと共重合可能な化合物とのポリマー及び該ポリマーを含むレジスト組成物。
【効果】波長の露光光源用のレジスト材料のベースポリマーとして有用である。 （もっと読む）

【課題】印刷画像に生じるにじみやフェザリングを軽減し、印刷画像の保存性が良好であり、更に、記録媒体上で物理的外力に対して堅牢性を有するインクの構造体を形成する高分子化合物として好適なブロック共重合体を提供する。これを用いたインク、画像記録方法、画像記録装置を提供する。
【解決手段】ブロックセグメントを有するブロック共重合体であって、該ブロックセグメントが下記一般式（１）で表される基を有する繰り返し単位を有することを特徴とするブロック共重合体、これを用いたインク、画像記録方法及び画像記録装置。
−ＡＮＨＣＯＮＨＥ （１）
（式中、Ａは炭素原子数１から４５の直鎖状又は分岐状のアルキレン基を示し、Ｅは水素原子、又は炭素原子数１から４５の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基を示す。） （もっと読む）

【課題】優れた透明性と耐候性と耐汚染性とを併せ持つ紫外線吸収層、及び該紫外線吸収層を形成し得る紫外線吸収性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】紫外線吸収性樹脂組成物は、式（１）［Ｘ^１はスルホン酸塩またはリン酸塩、ｎは０〜１２］で表される溶剤系の界面活性剤と、式（２）に代表される紫外線吸収性単量体の群から選ばれる組成物を重合した紫外線吸収性重合体とを含有する。


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テトラフルオロエチレン共重合単位と、プロピレン共重合単位と、ｉ）トリフルオロエチレン、ｉｉ）３，３，３−トリフルオロプロペン−１、ｉｉｉ）１，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピレン、ｉｖ）１，１，３，３，３−ペンタフルオロプロピレン、およびｖ）２，３，３，３−テトラフルオロプロペンからなる群から選択される第１硬化部位共重合単位と、ｉ）臭素化硬化部位モノマーの共重合単位、ｉｉ）ヨウ化硬化部位モノマーの共重合単位、ｉｉｉ）塩素化硬化部位モノマーの共重合単位、ｉｖ）臭素化末端基、ｖ）ヨウ化末端基およびｖｉ）ｉ）〜ｖ）のいずれかの組み合わせからなる群から選択される第２硬化部位とを含有する、フルオロエラストマーの組成物は、ポリヒドロキシ硬化系で容易に硬化可能である。得られた硬化物品は、アルカリ性液体に対する優秀な耐性、優れた引張り特性および耐圧縮永久ひずみ性、および金属基材に対する優秀な付着性を有する。任意に、ポリヒドロキシ系と有機過酸化物系の両方によってフルオロエラストマーを二重硬化することができる。 （もっと読む）

【課題】ハイパーブランチポリマーを簡便かつ安定的に大量合成すること。
【解決手段】金属触媒存在下、リビングラジカル重合可能なモノマーを重合することによりハイパーブランチポリマーの合成に際して、リビングラジカル重合によって合成されたハイパーブランチポリマーを含む反応溶液に溶解度パラメータが１０．５以上である溶媒を混合して沈殿物を生成する沈殿物生成工程を行うようにした。これによって、吸着剤を用いることなく金属触媒、モノマーおよび副生物のオリゴマーなどの不純物を簡便に除去できるため、ハイパーブランチポリマーを簡便かつ安定的に大量合成することができる。 （もっと読む）

【課題】高いフッ素含有量と、高度な溶剤溶解性、アルカリ現像液溶解性、密着性、高硬度、高極性（相溶性）の各性能をバランスよく満たす新規の高分子化合物を提供する。
【解決手段】含フッ素ビニル系単量体および含フッ素アクリレート単量体から成る含有する含フッ素高分子化合物によって課題が解決する。該高分子は溶媒に溶かしてコーティング組成物とした上で、薄膜として用いたときに、特に優れた性能を発揮する。また、上記高分子化合物がＯＨ基を含有しているとき、該ＯＨ基をアクリロイル化することができ、それによって、より硬度の大きい薄膜を得ることもできる。 （もっと読む）

本発明は、ポリフッ化ビニリデンと１種または複数種のパーフルオロアルキルエーテルとの不均一系コポリマー組成物に関する。これらのコポリマーは、高い融点を維持すると同時に、優れた低温衝撃性を有する。 （もっと読む）

【課題】導電性（イオン交換容量）が高く、かつ軟化温度が高い電解質材料を提供する。
【解決手段】下式（１）で表される繰り返し単位と、下式（２）で表される繰り返し単位とを含む共重合体からなる電解質材料。
［化１］


Ｒ^Ｆはフッ素原子等、Ｘ^１、Ｘ^２はフッ素原子またはトリフルオロメチル基、ｍは２〜４、Ｙは水酸基等である。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像度であり、焦点深度余裕が広く、光線透過率が高く、ディフェクトが少なく、十分なドライエッチング耐性を有するレジスト膜を形成できるレジスト組成物、レジスト用重合体および該レジスト組成物を用いる微細パターンが形成された基板の製造方法を提供する。
【解決手段】下記式（１−１）で表される構成単位（Ａ１）を有するレジスト用重合体を用いる。
［化１］

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【課題】ＤＵＶエキシマレーザーリソグラフィー等のレジスト組成物に用いた場合に、高感度、高解像度であり、光線透過率が高く、現像時のディフェクトが少なく、他の単量体との共重合性に優れた重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
特定のナフタレン骨格を有する構成単位（Ａ）及び特定の親水性基を有する構成単位（Ｄ）を含有するレジスト用の重合体、レジスト組成物、及びレジスト組成物を基板上に塗布してレジスト膜を形成する工程、２５０ｎｍ以下の波長の光で露光する工程及び現像液で現像する工程を有するパターンが形成された基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】屈折率が低く、耐擦傷性、防汚性に優れる硬化物を与える硬化性樹脂組成物及びその硬化物からなる低屈折率層を有する反射防止膜を提供する。
【解決手段】（Ａ）エチレン性不飽和基含有含フッ素重合体、（Ｂ）下記一般式（Ｂ−１）で表される化合物、及び（Ｉ）有機溶剤を含有する硬化性樹脂組成物。


［式（Ｂ−１）中、Ｒ^ｂは水素原子又はメチル基である。］ （もっと読む）