【課題】テトラフルオロエチレン-パーフルオロ(アルキルビニルエーテル)系共重合体であって、非晶質パーフルオロ樹脂として、非変形性にすぐれた良好な成形性と降伏点強度とを併せ持つ含フッ素樹脂の製造法を提供する。
【解決手段】テトラフルオロエチレン〔TFE〕、パーフルオロ(エチルビニルエーテル)〔FEVE〕およびパーフルオロ(プロピルビニルエーテル)〔FPVE〕を反応系内に仕込んで共重合反応させ、次いでこれら3種類のモノマー混合物を分添して共重合反応を継続して含フッ素三元共重合体を製造するに際し、生成三元共重合体中の目標重量組成比に対して1.05〜1.20倍のFEVEおよびFPVEがそれぞれ総量として用いられ、その内の0.2〜0.6倍に相当する量のFEVEおよびFPVEがそれぞれ分添成分として用いられ(残部はTFE重量％)、その差に相当する分のFEVEおよびFPVEがそれぞれ初期仕込み量として用いられる(残部はTFE重量％)。 （もっと読む）

-10℃〜-35℃のガラス転移温度を有し、B) 式：CF₂=CFOCF₂OCF₃ (a)のモノマー、C) テトラフルオロエチレン(TFE)、パーフルオロメチルビニルエーテル(PMVE)、パーフルオロプロペン(HFP)から選択される1以上のコモノマーを含み、そして本出願に記載されたFT-IR分光分析法を用いる方法の感度限界より低いポリマー中の-COF末端基の量を含む、VDFベースの硬化性フルオロエラストマー。 （もっと読む）

-49℃より低い、好ましくは-50℃より低いガラス転移温度を有し、次の組成（モル％で）：A) 式：CF₂=CFOCF₂OCF₃ (a)のモノマー25％〜50％、好ましくは30％〜45％；B) 少なくとも1つのエチレンタイプの不飽和を有する1以上の(パー)フッ素化コモノマー75％〜50％、好ましくは70％〜55％（該1以上のコモノマーは、モノマーの合計モルの50％〜75％の量で、ビニリデンフルオライド(VDF)を含む）を有し、モノマーのモル％の合計が100％である、VDFベースの硬化性フルオロエラストマー；該フルオロエラストマーは、本明細書に示される方法の感度限界より低い-COF末端基の量をポリマー中に含む。 （もっと読む）

【課題】様々な色の発光が高い発光効率で得られる高分子発光材料を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表されるイリジウム錯体から導かれる構造単位を含む重合体からなる高分子発光材料。


（式中、Ｌは、重合性官能基を有する、一般式（２）などで表される１価アニオンの２座配位子を表す。Ｒ¹などは水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基などを表す。Ｙ¹は、重合性官能基を有する置換基を表す。） （もっと読む）

【課題】多層レジストプロセス用、特には２層レジストプロセス用又は３層レジストプロセス用のレジスト下層膜材料であって、特に短波長の露光に対して、優れた反射防止膜として機能し、即ち透明性が高く、最適なｎ値、ｋ値を有し、しかも基板加工におけるエッチング耐性に優れたレジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、ヒドロキシ基を有するビニルナフタレンとヒドロキシ基を有さない特定のオレフィン類の繰り返し単位とを共重合してなる重合体を含むものであることを特徴とするレジスト下層膜材料。 （もっと読む）

【課題】レジスト材料であって、高エネルギー線での露光において、高感度で高解像性を有し、また、現像時の膨潤が抑えられるためラインエッジラフネスが小さく、現像後の残渣が少なく、優れたドライエッチング耐性を有し、また、液浸リソグラフィーにも好適に用い得るレジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】少なくとも、特定の酸素含有置換基を有するナフタレン環を側鎖に含む繰り返し単位（ａ）及び特定のスルホニウム塩基を側鎖に有する繰り返し単位（ｂ）を必須単位として含む高分子化合物をレジスト材料として使用することで高いドライエッチング耐性が得られる。 （もっと読む）

硬化性含フッ素コポリマーＡを適用することによって可撓性基材を被覆する方法であって、硬化性含フッ素コポリマーＡは、
ＦＣ及び
Ｍ１） 少なくとも一種のポリカルボン酸無水物及び／又は
Ｍ２） 少なくとも一種の単官能イソシアネート
の反応生成物であり、ＦＣは、
ＦＣ１） ２〜１０の炭素原子を有する少なくとも一種の含フッ素オレフィン、
ＦＣ２） ＯＨ基及び場合によりカルボキシル基を有する少なくとも一種の非フッ素オレフィン及び
ＦＣ３） 水酸基を有さず、場合によりカルボキシル基を有する少なくとも一種の非フッ素オレフィン
に基づく硬化性含フッ素コポリマーである方法。 （もっと読む）

【課題】ポリアルキレングリコール鎖由来の構成単位を含む分子量分布が狭い重合体の提供およびそれを用いた分散性能に優れる無機粉体用分散剤を提供する。
【解決手段】ポリアルキレングリコール鎖由来の構成単位を含む重合体であって、有機テルル化合物とラジカル重合開始剤を用いて、ポリアルキレングリコール鎖を有する不飽和単量体を含む不飽和単量体を重合することによって得られた重合体。 （もっと読む）

【課題】無色で透明性及び耐熱性に優れ、線膨張係数が小さく光学異方性の少ないガラス代替可能な透明複合体を提供する。
【解決手段】［Ａ］一般式(1-1)〜(1-5)で表される単位から選ばれる少なくとも１種の構造単位（ａ）と、下記一般式（２）または（３）で表される構造単位（ｂ）とを含むマレイミド系共重合体と、［Ｂ］ガラス繊維布とからなる透明複合体。


ガラス繊維布がガラスクロスである。波長４００nmにおける光線透過率が８０％以上で
ある。５０〜１５０℃における平均線膨張係数が５０ppm／℃以下である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、透明性、接着性及び耐熱性に優れ、光学異方性の小さい新規なマレイミド系共重合体を提供する。
【解決手段】［Ａ］下記一般式(1-1)〜(1-4)で表される単位から選ばれる少なくとも１種の構造単位（ａ）と、［Ｂ］下記一般式(２)で表される単位から選ばれる構造単位（b）
と、［Ｃ］下記一般式(3-1)〜（3-2）で表される単位から選ばれる少なくとも１種の構造単位（c）とを 含むことを特徴とするマレイミド系共重合体。
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ポリアルキレンオキシド側鎖で改変されたビニルラクタムコポリマー、水に溶解することが難しい物質のための可溶化剤としてのそれらの使用、およびそのようなコポリマーを含む調製物を開示する。 （もっと読む）

【課題】液浸用レジスト組成物に用いた場合に、浸漬液よりも高い屈折率となり、他の単量体との共重合性に優れたレジスト用重合体の提供。
【解決手段】下記式で表されるナフタレン骨格を有する構成単位を含有するレジスト用重合体。


（Ｒ¹⁰は水素原子またはメチル基、Ｇは−Ｃ(＝Ｏ)−Ｏ−、−Ｏ−、または−Ｏ−Ｃ(＝Ｏ)−のいずれかを表す。Ｌ¹およびＬ²は、２価の炭化水素基，Ｙは−Ｃ(＝Ｏ)−ＯＨ、−ＯＨ、−Ｃ(＝Ｏ)−ＯＲ¹³、または−ＯＲ¹³を表す。） （もっと読む）

【課題】キャリア輸送能の優れた導電層を形成することができる導電性材料用組成物、導電性材料、導電層、電子デバイスおよび電子機器を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される化合物と、その架橋剤としてのビニル化合物を含有する。


［式中、2つのＲ^１は、直鎖アルキル基、4つのＲ^２は、水素、メチル基またはエチル基、2つのＸは、特定の置換基を表し、Ｙは、芳香族炭化水素環を含む基を表す。］ （もっと読む）

【課題】キャリア輸送能の優れた導電層を形成することができる導電性材料用組成物、導電層、電子デバイスおよび電子機器を提供する。
【解決手段】導電性材料用組成物は、下記一般式（１）で表される化合物と、その架橋剤としてのビニル化合物とを含有する。


［式中、Ｘ^１〜Ｘ^４は、特定の置換基を表し、８つのＲは、水素、メチル基またはエチル基を表し、Ｙは、芳香族炭化水素環を含む基を表す。］ （もっと読む）

【課題】撥液性の高い透明膜であって、優れた現像性またはパターン形成性を有する膜を形成することができる、光硬化性重合体組成物を提供すること。
【解決手段】フッ素を含む重合体およびフッ素を含まない重合体を含有し、好ましくは、さらに重合性二重結合を含む化合物および光重合開始剤を含有する光硬化性重合体組成物。フッ素を含む重合体には、フルオロシルセスキオキサン骨格が含まれていることが好ましい。 （もっと読む）

【解決手段】式（１）：ＲｆＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ＝ＣＨ_２［Ｒｆ：−（ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｎＦ、ｎ：１〜４］で表されるパーフルオロアルキル−エチル−ビニルエーテル（１）、不飽和二塩基酸無水物（２）及びエーテル結合を有していてもよいフッ素化オレフィン（３）（但し、式（１）の化合物を除く。）を共重合してなる、低誘電率、低屈折率の膜を形成用の架橋性含フッ素共重合体並びに、上記共重合体と架橋剤を含む、低誘電率、低屈折率の膜を形成用の共重合体組成物。化合物（１）４０〜６０モル％と、不飽和二塩基酸無水物（２）１０〜４０モル％と、フッ素化オレフィン（３）１０〜４０モル％（全共重合成分の合計を１００モル％）の量で共重合してなるものが好ましい。
【効果】熱、光照射にて架橋し製膜可能であり、低誘電率、低屈折率の膜を形成し得る、溶剤可溶性の架橋性含フッ素共重合体、その製法及び架橋性含フッ素共重合体組成物が提供される。 （もっと読む）

【課題】環境負荷が低く、規制対象となる可能性がきわめて低い乳化剤を用いた、官能基を有する含フッ素重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】水性媒体中、炭素数が６以下であり、主鎖にエーテル性の酸素原子を１個以上有し、カルボン酸型エステル基を有する含フッ素化合物（ＣＦ_３ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＯＯＮＨ_４等）の存在下で、含フッ素オレフィンと、カルボン酸型官能基またはスルホン酸型官能基を有する含フッ素モノマーとを共重合させることを特徴とする含フッ素重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】耐薬品性にすぐれたパーフルオロ共重合体であって、卓越した柔軟性を有する含フッ素共重合体を提供する。
【解決手段】(A)テトラフルオロエチレン 45〜80重量％、(B)パーフルオロ(エチルビニルエーテル)10〜25重量％および(C)パーフルオロ(プロピルビニルエーテル)10〜30重量％よりなる共重合組成を有し、結晶融解熱量ΔHが3J/g以下である非晶質含フッ素共重合体。この非晶質含フッ素共重合体は、パーフルオロ共重合体であるため耐薬品性にすぐれているばかりではなく、引張特性や柔軟性にすぐれた成形品を与えるため、耐薬品性や柔軟性が要求されるようなフィルム、シート、チューブ、ホース等の各種成形品の成形材料として好適に使用することができる。特に、曲げ半径を小さくすることができるため、このような性質が特に要求されるチューブ、ホース等の成形に好適である。 （もっと読む）

フッ化ビニリデンと、式ＣＨ₂＝ＣＨＯＣ（Ｏ）Ｒ（式中ＲがＣ₁〜Ｃ₄のアルキル基である）を有するビニルエステルとの共重合単位を含むフルオロエラストマーが開示される。本発明の一実施形態では、フルオロエラストマーはパーフルオロ（アルキルビニルエーテル）と、任意選択的にテトラフルオロエチレンとの共重合単位をさらに含む。別の実施形態では、フッ化ビニリデン／ビニルエステルフルオロエラストマーはヘキサフルオロプロピレンをさらに含む。任意選択的に、本発明のフルオロエラストマーは硬化部位モノマーの共重合単位を含有する。 （もっと読む）

ガス放出の低減のために反射防止膜中で有用な新規の自己架橋性ポリマーが提供される。 （もっと読む）