【課題】微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、エッチング耐性及び解像性に優れ、基板界面において良好なパターン形状を与えるポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）酸不安定基で保護された酸性官能基を有するアルカリ不溶性又は難溶性の樹脂であって、該酸不安定基が脱離したときにアルカリ可溶性となるベース樹脂、（Ｂ）酸発生剤、（Ｃ）塩基性成分として窒素を含有する化合物、を含有するレジスト組成物であって、ベース樹脂は、一般式（１）で表される繰り返し単位を含有すると共に、一般式（２）及び／又は（３）で表される繰り返し単位を１種あるいは２種以上含有し、更に、前記ベース樹脂を構成する全繰り返し単位中、一般式（１）、（２）及び（３）で表される繰り返し単位を７０モル％以上含有する。
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【課題】本発明は、耐熱性、機械特性に優れる透明樹脂組成物、及びその成形体を提供する。
【解決手段】下記、Ａ成分：９９〜１重量部とＢ成分：１〜９９重量部からなる透明樹脂組成物、及びその成形体。
Ａ成分：（ｉ）メタクリレート単量体由来の繰り返し単位、（ｉｉ）ビニル芳香族単量体由来の繰り返し単位、及び（ｉｉｉ）酸無水物繰り返し単位からなる共重合体。
Ｂ成分：ＡＳ系樹脂、ＰＡ系樹脂、及びＰＯ系樹脂から選ばれる少なくとも1種類の樹脂。 （もっと読む）

湿潤環境において、粘着性を維持するための両親媒性コポリマーを有するシリコーン感圧接着剤。シリコーン接着剤のための両親媒性コポリマーは、少なくとも１つのシリコーン部分および少なくとも１つの親水性セグメントを含む。このような接着剤は、医療装置をヒトの皮膚に固定するのに応用可能である。上記感圧接着剤は、少なくとも１つのシリコーンモノマーまたはオリゴマーと少なくとも１つの親水性または両親媒性のモノマーまたはオリゴマーとの反応産物である両親媒性コポリマーを含み、その結果、上記両親媒性コポリマーが水性媒体に溶解せず、そして１０，０００ｇ／ｍｏｌよりも大きい分子量を有する。 （もっと読む）

【課題】ＣＤ均一性及びマスクエラーファクターをさらに向上させることができるレジストパターンの製造方法を提供すること。
【解決手段】レジストパターンの製造方法であって、酸の作用によりアルカリ可溶となる樹脂（Ａ）と酸発生剤（Ｂ）とを含有するレジスト組成物を、基体上に塗布してレジスト膜を得る工程と、レジスト膜を温度Ｔ_PBでプリベーク（ＰＢ）する工程と、プリベークしたレジスト膜を露光する工程と、露光したレジスト膜を温度Ｔ_PEBでポストエクスポージャーベーク（ＰＥＢ）する工程と、ポストエクスポージャーベークしたレジスト膜をアルカリ現像液で現像してレジストパターンを得る工程とを含み、８５℃＜Ｔ_PEB、Ｔ_PEB＜Ｔ_PB、且つＴ_PB＜１００℃であることを特徴とする製造方法。 （もっと読む）

【課題】ノイズ抑制効果に優れたノイズ抑制シートを与えることのできるノイズ抑制シート用アクリルゴム組成物を提供すること。
【解決手段】アクリル酸アルキルエステル単量体単位（ａ１）および／またはアクリル酸アルコキシアルキルエステル単量体単位（ａ２）６０〜９５重量％、（メタ）アクリロニトリル単量体単位（ｂ）４〜３７重量％、ならびに、親水性官能基含有エチレン性不飽和単量体単位（ｃ）０．０１〜６重量％を有するアクリルゴムと、磁性粉末とを含有するノイズ抑制シート用アクリルゴム組成物。 （もっと読む）

【課題】露光により発生した酸の拡散制御性に優れた樹脂組成物層を形成でき、露光量が少ない場合であっても基板上に多種類の高分子を高密度、かつ安定して正確に形成できるバイオチップの製造に適した樹脂組成物及びこれを用いたバイオチップの製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）重合体と、（Ｂ）光の作用によりスルホニルアニオンが発生する感放射線性酸発生剤であって、該スルホニルアニオンが光学純度１０％ｅｅ以上のビシクロ化合物である感放射線性酸発生剤とを含有するバイオチップ製造用樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンに生じるラフネスを低減して良好な形状を有するパターン形成方法を実現できるようにする。
【解決手段】基板１０１の上に、アニオン部及びカチオン部を持つオニウム塩を有し且つアニオン部であるスルフォン酸基と共有結合するマレイン酸の誘導体と酸脱離基とを含むポリマーを含む化学増幅型レジスト材料からレジスト膜を形成する。続いて、レジスト膜１０２に露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行い、パターン露光が行われたレジスト膜１０２を加熱する。続いて、加熱されたレジスト膜１０２に対して現像を行って、レジスト膜１０２からレジストパターン１０２ａを形成する。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用されるポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法に於いて、パターン形状、ＰＥＢ温度依存性、露光ラチチュードが改善されたポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により有機酸を発生する特定構造の化合物、及び、（Ｂ）酸の作用により分解しアルカリ可溶性基を生じる酸分解性基として、ビシクロ［２．２．１］ヘプタン骨格にエステル結合を有する基が結合した基、並びに、特定の繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解度が増大する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物及び当該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】カチオンを含むモノマー化合物及び同モノマー化合物に由来のポリマーを提供する。
【解決手段】次式（ＩＩ′）


〔ここで、Ｒ¹′は、Ｈ又はＣＨ₃であり、ｎ′、ｍ′、ｑ、Ｒ、ｓ′は、特定されており、そしてＲ²′、Ｒ³′、Ｒ⁴′、Ｒ⁵′、Ｒ⁶′、Ｒ⁷′、Ｒ⁸′、Ｒ⁹′は、メチル基であり、そしてＸ^-は、特定のアニオンである〕を有する、数個のカチオンを含むモノマー化合物及びそのモノマー化合物に由来する反復単位を含むポリマー。 （もっと読む）

【解決手段】分子中に極性を持ちポリマーに密着性を与える単位と、酸不安定基で保護され、酸の作用によりアルカリ可溶性となる単位を含有する化学増幅型レジスト用ポリマーとして、フッ素置換されたアルキル鎖を持つスルホン酸スルホニウム塩を側鎖に有する繰り返し単位の含有量が５モル％未満で、繰り返し単位中に芳香環骨格を含有する単位が６０モル％以上のポリマーを用いる化学増幅型レジスト材料。
【効果】クロム化合物による膜表面のようなパターン形成が難しい基板上でも、パターン剥がれやパターンの崩壊を発生しにくいレジスト材料を提供できる。 （もっと読む）

【課題】光ナノインプリントによって形成した微細構造加工体の表面の残留層を溶媒によって除去する簡便な微細構造加工体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板の表面に光重合性前駆体を塗布する工程と、表面に微細な凹凸パターンを有するモールドを前記光重合性前駆体に押し当てる工程と、前記光重合性前駆体に光を照射する工程と、前記モールドを取り除く工程と、を含む光ナノインプリントによって形成された微細構造加工体の製造方法であって、この微細構造加工体の残留層を加水分解によって除去する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】ディフェクトの発生が抑制されたレジストパターンを良好なリソグラフィー特性で形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、下記一般式（ｃ１−１）で表される構成単位（ｃ１）および下記一般式（ｃ２−１）で表される構成単位（ｃ２）を有し、前記構成単位の（ｃ２）の割合が２０〜６０モル％である含フッ素共重合体からなる添加剤成分（Ｃ）と、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
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【課題】露光量が少ない場合にも、基板上に多種類の高分子を形成できるバイオチップの製造に好適な酸転写樹脂組成物及びこれを用いたバイオチップの製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記式（１）に示す構造単位を有する重合体と、（Ｂ）感放射線性酸発生剤とを含有する酸転写樹脂組成物。


（式（１）中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基を示し；Ｒ²は置換基を有していてもよいアリーレン基を示し；Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリル基又はフェニル基を示すか、あるいはＲ³及びＲ⁴が窒素原子と一緒になって環状アミノ基を形成してもよい。ｎは０〜８の整数を示す。） （もっと読む）

本発明は、液晶相を有する重合性液晶化合物（Ｉ）、及び化合物（Ｉ）を含む液晶組成物、複屈折層としてのそれらの使用に関する。
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【課題】ＣＤ均一性及びマスクエラーファクターをさらに向上させることができるレジストパターンの製造方法を提供すること。
【解決手段】レジストパターンの製造方法であって、酸の作用によりアルカリ可溶となる樹脂（Ａ）と酸発生剤（Ｂ）とを含有するレジスト組成物を、基体上に塗布してレジスト膜を得る工程と、レジスト膜を温度Ｔ_PBでプリベーク（ＰＢ）する工程と、プリベークしたレジスト膜を露光する工程と、露光したレジスト膜を温度Ｔ_PEBでポストエクスポージャーベーク（ＰＥＢ）する工程と、ポストエクスポージャーベークしたレジスト膜をアルカリ現像液で現像してレジストパターンを得る工程とを含み、Ｔ_PEB≦８５℃且つ０℃＜Ｔ_PB−Ｔ_PEB＜２５℃であることを特徴とする製造方法。 （もっと読む）

【課題】高温環境下においても熱収縮の抑制された多層多孔膜を提供する。
【解決手段】ポリオレフィン樹脂を主成分とする多孔膜の少なくとも片面に、無機粒子と樹脂製バインダとを含む多孔層を備えた多層多孔膜であって、樹脂製バインダが、（メタ）アクリル酸エステル単量体から選ばれる１種以上の単量体と、不飽和カルボン酸単量体と、架橋性単量体とを原料単位として含む共重合体であり、前記単量体組成のうち、不飽和カルボン酸単量体の割合が１．０質量部％以上であることを特徴とする多層多孔膜。 （もっと読む）

【課題】高温環境下においても熱収縮の抑制された多層多孔膜を提供する。
【解決手段】ポリオレフィン樹脂を主成分とする多孔膜の少なくとも片面に、無機粒子と樹脂製バインダとを含む多孔層を備えた多層多孔膜であって、
前記樹脂製バインダが、（メタ）アクリル酸エステル単量体から選ばれる１種以上の単量体と、不飽和カルボン酸単量体と、架橋性単量体とを原料単位として含む共重合体であり、
前記無機粒子が、アルミナであり、前記単量体組成のうち、不飽和カルボン酸単量体の割合が２．０質量％以下であることを特徴とする多層多孔膜。 （もっと読む）

【課題】少なくとも可視光領域において、波長が短くなるほど複屈折が小さくなる波長分散性（逆波長分散性）を示す新規な光学フィルムを提供する。
【解決手段】樹脂からなる光学フィルムであって、当該樹脂に含まれる重合体の構成単位として、負の固有複屈折を重合体に与える構成単位（Ａ）と、正の固有複屈折を重合体に与える構成単位（Ｂ）とを有し、構成単位（Ａ）が、紫外可視吸収スペクトルにおける２５０〜４００ｎｍの波長域に吸収帯を有する分子構造を含み、少なくとも可視光領域において、波長が短くなるほど複屈折が小さくなる波長分散性を示す光学フィルムとする。構成単位（Ａ）は、例えば、ビニルピリジン単位、ビニルフタラゾン単位およびビニルカルバゾール単位から選ばれる少なくとも１種である。 （もっと読む）

【解決手段】ラクトンを密着性基として有する繰り返し単位と酸不安定基を有する繰り返し単位とを共重合してなる高分子化合物と、光酸発生剤と、塩基発生剤とを含む第１ポジ型レジスト材料を基板上に塗布し、第１レジスト膜を形成する工程、前記第1レジスト膜を露光後、加熱処理し、現像して第1レジストパターンを形成する工程、第1レジストパターンを加熱して塩基発生剤よりアミン化合物を発生させて酸に対して不活性化し、前記基板上の前記第1レジストパターン上に該パターンを溶解させないアルコール、又はアルコール及びエーテルを溶媒とする第2ポジ型レジスト材料を塗布して、第2レジスト膜を形成する工程、前記第2レジスト膜を露光、PEB後、現像して第2レジストパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、第1レジストパターンのパターンが未形成部分に第2パターンを形成し、パターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行い、一度のドライエッチングで基板を加工できる。 （もっと読む）

本発明は、１つ以上のビスアシルホスフィンオキシド部分によって置換されたオリゴマーまたはポリマーであって、前記ビスアシルホスフィンオキシド部分が、リン原子を介して、場合によりスペーサー基を介して、当該オリゴマーまたはポリマーに結合していることを特徴とするオリゴマーまたはポリマー、ならびに、具体的には、前記ポリマーまたはオリゴマーの製造に好適な、官能化されたビスアシルホスフィンオキシドに関する。 （もっと読む）