【課題】分子量が高く、かつ生産性の高い共重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】芳香族ビニル系単量体、シアン化ビニル系単量体、必要に応じてこれらと共重合可能な他のビニル系単量体を含む単量体成分を共重合して得られる、ピーク頂点分子量が１００万以上の共重合体を得るための製造方法であって、単量体成分１００重量部に対して重合開始剤量を０．０１〜０．１５重量部用い、単量体成分と乳化剤を２〜６時間かけて連続添加して重合を行い、得られた共重合体ラテックスに含まれる凝固物が共重合体ラテックスの固形分換算で０．５重量％以下であることを特徴とする共重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】通常露光（ドライ露光）のみならず液浸露光に於いても、プロファイルの劣化が少なく、パターン倒れが改良され、スカムの発生が抑制された、レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）疎水性樹脂及び
（Ｄ）溶剤を含有し、樹脂（Ａ）の重量平均分子量と疎水性樹脂（Ｃ）の重量平均分子量との差が、下記式を満たすレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法。
樹脂（Ａ）の重量平均分子量 − 疎水性樹脂（Ｃ）の重量平均分子量 ≧３０００ （もっと読む）

【課題】水と接触した場合であっても基材から離脱しがたく、親水性、撥水性などの所望の性質を有する薄膜を形成しうる表面改質剤を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）：


（式中、Ｒ¹は、水素原子またはメチル基、Ｒ²は、親水性基、疎水性基、陽イオン性基または陰イオン性基を示す）で表わされる繰り返し単位を有し少なくとも片末端に式(II):


で表わされるアルコキシシリル基を有する（メタ）アクリル系ポリマーを含有する表面改質剤。 （もっと読む）

【解決手段】（ｉ）下記（Ａ）〜（Ｃ）成分含有の化学増幅ポジ型レジスト材料を基板に塗布しレジスト層を形成する工程、
（Ａ）ヒドロキシスチレン単位、およびｐ-アミロキシスチレン化合物単位、および/又はスチレン化合物単位、および/又はアルキル（メタ）アクリレート単、のの繰り返し単位を有するＭｗ１，０００〜５００，０００の高分子化合物、
（Ｂ）光酸発生剤、
（Ｃ）アゾベンゼン構造含有化合物、
（ｉｉ）加熱処理後、フォトマスクを介して放射線又は電子線で露光する工程、
（ｉｉｉ）加熱処理後、現像する工程、を有し、現像後の断面パターン形状においてパターン側壁が基板面に対し７０°以上８７°未満の角度面を有すレジストパターン形成方法。
【効果】保存安定性が高く、プロセス適応性を有し、パターン側壁角度の制御性能に優れ、高解像度で電解メッキ耐性を与えるレジストパターンを形成し得る。 （もっと読む）

【課題】酸素遮蔽性能と、有機溶剤溶解性、および成形性が発揮され、水蒸気透過性が維持されたクロロトリフルオロエチレン系共重合体を得る。
【解決手段】クロロトリフルオロエチレンのモノマー単位（Ａ）とモノマー単位（Ｂ）とからなり、モノマー単位（Ａ）の割合が３〜９９モル％、フッ素含有率が１５〜７５モル％、かつ、分子量が１０００〜１００万である含フッ素共重合体。ただし、モノマー単位（Ｂ）は、ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯＮ（Ｒ^０）_２、Ｎ−ビニルカプロラクタム、式ＣＨ_２＝ＣＲ^１ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＲ^２＝ＣＨ_２、式ＣＨ_２＝ＣＨＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）−Ｒ^３、およびメチル−２−フルオロアクリレートのモノマーからなる群より選ばれるいずれか１種のモノマーが重合した単位。 （もっと読む）

【課題】
本発明の課題は、優れた機械的物性を有するＰＴＦＥ樹脂の成形体を提供することにある。
【解決手段】
上記課題は、高分子量架橋性ＴＦＥ重合体と、低分子量架橋性ＴＦＥ重合体とを含有する架橋性ＰＴＦＥ組成物から成形されたＰＴＦＥ樹脂の成形体によって解決される。
なし （もっと読む）

【課題】 レジストパターンの裾引き形状改善に効果があり、パターン倒れ欠陥が少ないパターンを形成することが可能である感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、および、（Ｃ）フッ素原子及びケイ素原子の少なくともいずれかと、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する極性変換基とを有する樹脂を含有し、樹脂成分（Ａ）が下記一般式（１）で示されるエステル化合物から得られる繰り返し単位を含有することを特徴とする感活性光線または感放射線樹脂組成物。（一般式（１）中の符号は明細書に記載の意味を有する。）
【化１】
（もっと読む）

【課題】コーナー・プロキシミティ（Corner proximity）が良好で、現像欠陥が少ないパターンを形成することが可能で、液浸液への酸の溶出が少なく、液浸液に対する追随性が良好である感活性光線又は感放射線樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｃ）アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する極性変換基を有する繰り返し単位を含有し、かつ、フッ素原子及びケイ素原子の少なくともいずれかを含有する樹脂、および、（Ｄ）下記一般式（１）で表される含窒素ヘテロ環を有する含窒素有機化合物を含有することを特徴とする感活性光線または感放射線樹脂組成物。（一般式（１）の各符号は明細書に記載の意味を有する。）
【化１】
（もっと読む）

【課題】レジスト用樹脂等に応用した場合に耐薬品性等の安定性を保持しつつ、有機溶剤に対する溶解性に優れ、加水分解性及び／又は加水分解後の水に対する溶解性を向上しうる、高機能性高分子等のモノマー成分等として有用な新規なラクトン骨格を含む単量体を提供する。
【解決手段】下記式（１）
【化１】


（式中、Ｒ^aは水素原子、ハロゲン原子、又は置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｒ¹はラクトン骨格を有する基を示し、Ｙは炭素数１〜６の２価の有機基を示す）
で表されるラクトン骨格を含む単量体。 （もっと読む）

【課題】耐薬品性、有機溶剤に対する溶解性に優れ、加水分解性及び／又は加水分解後の水に対する溶解性を向上できる新規なラクトン骨格を含む高分子化合物を提供。
【解決手段】下記式（Ｉ）


（式中、Ｒ^aは水素原子等を示し、Ａは炭素数１〜６のアルキレン基等を示し、Ｙは炭素数５以上の２価の有機基を示す）で表されるラクトン骨格を含むモノマー単位と、酸の作用により脱離してアルカリ可溶となるモノマー単位を含む高分子化合物。 （もっと読む）

【課題】モールド剥離性に優れ良好なパターンが形成でき、且つエッチング後に得られたパターンのラインエッジラフネスが小さいナノインプリント用組成物、これを用いたパターン形成方法および該パターン形成方法によって得られるパターンを提供する。
【解決手段】重合性単量体と、光重合開始剤と、トリフロロメチル基を有する繰り返し単位を含む（メタ）アクリレート系ポリマーとを含有し、前記（メタ）アクリレート系ポリマーを前記重合性単量体に対し０．０１〜２０質量％含むことを特徴とするナノインプリント用組成物。 （もっと読む）

【課題】光線透過率と屈折率が高く、耐熱性が改善された有機無機複合材料とその製造方法および該有機無機複合材料を用いた光学部品を提供する。
【解決手段】下記式で表される単位構造を少なくとも一つ有している熱可塑性樹脂と、無機微粒子とを含有していることを特徴とする有機無機複合材料。


〔式中、Ｒ¹およびＲ³は、それぞれ独立に置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリール基、またはシアノ基を表し、Ｒ²およびＲ⁴はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、置換もしくは無置換のアルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアリール基、またはシアノ基を表す。ただし、Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ、Ｒ³およびＲ⁴のいずれとも互いに連結していない。〕 （もっと読む）

【解決手段】一般式（１ａ）、（１ｂ）、（２ａ）、（２ｂ）で表される繰り返し単位から構成される高分子化合物を含むレジスト保護膜材料。


（Ｒ^1a及びＲ^1bはＨ又はアルキル基、Ｒ²はＨ、ＣＨ₃又はＣＦ₃、Ｒ³はＨ又は酸不安定基、Ｒ^4a〜Ｒ^4cはＨ又はアルキル基、Ｒ⁵はアルキル基。０＜ａ１＜１、０≦ａ２＜１、０≦ｂ１＜１、０≦ｂ２＜１、０＜ａ１＋ａ２＜１、０＜ｂ１＋ｂ２＜１、０＜ａ１＋ａ２＋ｂ１＋ｂ２≦１。）
【効果】上記レジスト保護膜材料は液浸リソグラフィーにおける撥水性と滑水性に優れ、現像欠陥が少ない良好なリソグラフィー性能を実現できる。 （もっと読む）

【課題】運転条件が頻繁に変動しても電池出力の変動が従来よりも抑制され、しかも高い電池性能を維持できる固体高分子形燃料電池を提供する。
【解決手段】高分子電解質膜と、その高分子電解質膜に接合したガス拡散電極と、を備える固体高分子形燃料電池であって、前記ガス拡散電極は、導電材粒子とその導電材粒子に担持された触媒とその触媒を１μｍ以下の厚みで被覆し２５０〜２０００ｇ／ｅｑの当量質量を有するプロトン伝導性ポリマーを含む薄膜とを含有する触媒層と、導電材粒子を含有し触媒を含有しないガス拡散層と、を前記高分子電解質膜側からこの順に備えるものである固体高分子形燃料電池。 （もっと読む）

【課題】新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、前記基材成分（Ａ）が式（ａ０−１）で表される構成単位（ａ０１）と式（ａ０−３）で表される構成単位（ａ０３）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有するポジ型レジスト組成物。
（もっと読む）

【課題】新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、前記基材成分（Ａ）が式（ａ０−１１）で表される構成単位（ａ０１１）と式（ａ０−１２）で表される構成単位（ａ０１２）とを有する高分子化合物（Ａ１）を含有するポジ型レジスト組成物。
（もっと読む）

【課題】含まれるゲルなどの異物の量が少ない熱可塑性樹脂体の製造方法を提供する。
【解決手段】熱可塑性樹脂に対する濾過工程と、前記樹脂または前記樹脂を含む樹脂組成物を溶融成形する成形工程とを含む熱可塑性樹脂体の製造方法であって、前記濾過工程として、前記樹脂を含む溶液を濾過する溶液濾過と、前記溶液濾過後の樹脂を当該樹脂が熱溶融した状態で濾過する溶融濾過とを行う方法とする。熱可塑性樹脂は、例えばアクリル樹脂であり、当該樹脂は主鎖に環構造を有していてもよい。 （もっと読む）

【課題】架橋性ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）水性分散液を塗料や含浸液として利用する場合、塗布作業や含浸作業の手間を省くことができる架橋性ＰＴＦＥ水性分散液、ＰＴＦＥ架橋体含浸成形体の製造方法、塗料組成物、及びＰＴＦＥ架橋体被覆成形体の製造方法を提供する。
【解決手段】架橋性ポリテトラフルオロエチレン水性分散液には、シアノ基（−ＣＮ）、一般式（１）で表される第１官能基：−Ｃ（＝ＮＲ１）Ｒ２・・・（１）および一般式（２）で表される第２官能基：−Ｃ（＝Ｏ）Ｒ１・・・・・（２）より成る群から選択される少なくとも１種の反応性官能基を有する架橋性ポリテトラフルオロエチレンが３０〜７０重量％含まれている。 （もっと読む）

【課題】液浸露光によるパターニングにおいて、良好にレジスト膜表面を疎水化し、液浸液追随性を良好とするとともに、塗布欠陥、現像欠陥の抑制に効果を示す樹脂、及び、その製造方法、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物を提供することである。
【解決手段】表面に偏在化してレジスト膜の表面を疎水化する、レジスト組成物に添加する樹脂であって、ゲルパーミッションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定される分子量分布において、分子量３万以上の高分子量成分のピーク面積が、全体のピーク面積に対して０．１％以下であることを特徴とする樹脂その製造方法、該樹脂を含有するポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

（Ａ）含フッ素アクリレート単量体から誘導された繰り返し単位、ならびに（Ｂ）アミノ基含有単量体から誘導された繰り返し単位を有してなり、水溶性である含フッ素重合体が開示されている。含フッ素重合体は、充分に高い水溶性を有しており、多孔質基材に高い撥水性、高い撥油性および高い耐汚染性を与える。 （もっと読む）