【課題】液晶表示素子等の視野角を拡げるための偏光板の軸補正などの光学用途に好適なフィルムを提供する。
【解決課題】本発明に係るフィルムは、脂環式構造を有し、特定の構成単位（ａ）を有するポリマー（Ａ）を含んでなるフィルムであって、フィルムの面内における最大の屈折率をｎｘ、前記フィルムの面内における最大屈折率を示す方向に直交する方位の屈折率をｎｙ、前記フィルムの法線方向の屈折率をｎｚとしたときに、一定の関係を満たし、かつ、厚さ５０μｍあたりの面内のレターデーションをＲ₅₀＝Ｓ（ｎｘ−ｎｙ）×５０×１０³（ｎｍ）としたとき、波長４５０ｎｍにおけるＲ₅₀と、波長５９０ｎｍにおけるＲ₅₀とが、一定の関係を満たす。なお、Ｓは、前記フィルムの複屈折の正負を区別するための符号である。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】金属ナノ触媒を含む１−アルケン−アクリレート系共重合体製造用触媒組成物および１−アルケン−アクリレート系共重合体の製造方法に関し、前記１−アルケン−アクリレート系共重合体製造用触媒組成物は、極性共単量体の含有量が高く、結晶性がなく、光学素材などの用途として使用できる１−アルケン−アクリレート系共重合体を製造するのに用いることができる。前記１−アルケン−アクリレート系共重合体の製造方法は、高温高圧の重合条件が必要ではなく、温和な重合条件の単純な工程で製造可能であり、物性制御が容易である。 （もっと読む）

【課題】
高屈折率と高アッベ数とを兼ね備えた光学部品を得ることができる樹脂材料、及びこの樹脂材料を用いて得られる光学レンズ等の光学部品を提供する。
【解決手段】
−Ａ−Ｓｉ（Ｒ^１）（Ｒ^２）（Ｒ^３）（Ａは単結合等であり、Ｒ^１〜Ｒ^３は炭素数１〜１０の脂肪族炭化水素基等である。）で表される含ケイ素基と、炭素−炭素二重結合を環内に有する脂環構造とを有し、芳香環構造を有しない脂環構造含有重合性単量体（Ａ）５〜３０重量％と、芳香環構造と、炭素−炭素二重結合を環内に有する脂環構造とを有し、ケイ素原子を有しない脂環構造含有重合性単量体（Ｂ）５０〜９０重量％と、これらと共重合可能な重合性単量体（Ｃ）０〜４５重量％とからなる重合性単量体組成物を、少なくとも重合して得られる脂環構造含有重合体、この脂環構造含有重合体、及び無機化合物を含有する脂環構造含有重合体組成物、この組成物を用いて得られる、屈折率が１．５６以上、アッベ数が５０以上、３ｍｍ厚の板での全光線透過率が８５％以上である光学部品。 （もっと読む）

【課題】微細パターンの形成において、解像力に優れ、かつサーマルフロープロセスにおいてパターンの制御性に優れるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、（Ｃ）熱により分解し、分子量が低下する樹脂、を含有するポジ型感光性組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れ、極性基である水酸基を含有するプロピレン系重合体、プロピレン系重合体の製造方法、及び塗装性材料の提供。
【解決手段】プロピレンと水酸基含有オレフィンからなるプロピレン系重合体であって、特定の構造のメタロセン化合物を含んだ触媒成分から製造され、(i)該重合体中の水酸基含有オレフィン量が１０mol%以下であり、(ii)該重合体のＧＰＣ測定によって得られた重量平均分子量（Ｍｗ）が5000以上であり、(iii)重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比の値（Ｍｗ／Ｍｎ）が、1.0〜3.5の範囲にあり、(iv)該重合体のＤＳＣで測定した融点（［Ｔｍ］；℃）とＮＭＲで測定した水酸基含有オレフィン量（［−ＯＨ］；mol%）とが、０＜［−ＯＨ］≦３の場合は下記関係式(Eq-1)を満たし、３＜［−ＯＨ］≦１０の場合は下記関係式(Eq-2)を満たすプロピレン系重合体。
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【課題】微細パターンの形成において、解像力に優れ、かつサーマルフロープロセスにおいてパターンの制御性に優れるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｂ）熱により分解し分子量が低下する繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、を含有するポジ型感光性組成物、及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】吸湿性や透湿性が低く、適度な弾性を有し、脆さがなく、機械的強度に優れたフィルム、これを用いた偏光板および画像表示装置の提供を目的とする。
【解決手段】（Ａ）炭素数２〜２０のα−オレフィンの少なくとも一種と、（Ｂ）下記一般式で表される環状オレフィンの少なくとも一種とからなる共重合体を含むフィルムであって、該共重合体は該（Ａ）から誘導される繰返し単位のモル分率が１０〜７０モル％、該（Ｂ）から誘導される繰返し単位のモル分率が３０〜９０モル％であり、かつ、重量平均分子量が５０，０００〜１，０００，０００であるフィルム。


式中、Ｒ^１〜Ｒ^４はそれぞれ独立に水素原子またはアルキル基を表すが、Ｒ^１〜Ｒ^４のうち、少なくとも一つは直鎖または分岐状の炭素数４以上のアルキル基である。ｍは０または１を表す。 （もっと読む）

【課題】環状オレフィン系樹脂の合成過程で発生するゲル成分に起因する欠点が少なく、吸湿性及び透湿性が低い環状オレフィン系樹脂シートおよびフィルムの提供を目的とする。
【解決手段】炭素原子数２〜３０の直鎖状または分岐状のα−オレフィンに由来する構成単位と、特定環状オレフィンに由来する構成単位とからなるα-オレフィン・環状オレフ
ィン共重合体であって、連鎖構造を含まない、すなわち交互共重合体である環状オレフィン系樹脂を溶融製膜して得られる環状オレフィン系樹脂シート又はフィルムを用いる。 （もっと読む）

【課題】吸湿性や透湿性が低く、適度な弾性を有し、脆さがなく、機械的強度に優れた共重合体、これを用いた成形品、フィルム、偏光板および画像表示装置を提供する。
【解決手段】 非環状オレフィン化合物、環状オレフィン化合物および芳香族含有ビニル化合物を共重合してなる共重合体であって、該環状オレフィン化合物の共重合組成比が０．１〜９９．９ｍｏｌ％、該芳香族ビニル化合物の共重合組成比が１０〜３３ｍｏｌ％であり、かつ該芳香族ビニル化合物の共重合組成比が該環状オレフィン化合物の共重合組成比の半分以下であることを特徴とする共重合体。該共重合体を用いた成形品、フィルム、偏光板および画像表示装置。 （もっと読む）

【課題】本発明は、接着性、粘着性、添加剤の分散性、溶剤への溶解性などの特性に優れるとともに、物理的耐熱性および化学的耐熱性にすぐれた環状オレフィン系付加重合体を、効率よく製造する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】周期律表第８〜１０族の元素から選択された遷移金属に、シクロペンタジエニル系配位子が配位した錯体である触媒成分（Ａ）と、有機アルミニウム化合物（ａ）、特定のイオン性化合物（ｂ）および触媒成分（Ａ）中の配位子の解離を促進する化合物（ｃ）よりなる群から選択される少なくとも１種の化合物である化合物（Ｂ）との存在下、極性基を有する特定の環状オレフィン系化合物を付加重合する環状オレフィン系付加重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】複屈折の逆波長分散を効果的に発現させるシクロオレフィンコポリマーおよび該コポリマーからなるフィルムを提供する。
【解決手段】エチレン及び炭素数３〜２０のα−オレフィン化合物から選ばれる少なくとも１種の非シクロオレフィンモノマー（A）および特定のシクロオレフィンモノマー（B）、例えばｅｘｏ−１−ナフチルノルボルネンを付加重合させたシクロオレフィンコポリマー。該コポリマーからなるフィルム。 （もっと読む）

【課題】レジスト材料のベース樹脂用の単量体を提供する。
【解決手段】式（１）で示される含フッ素単量体。


（Ｒ¹はＨ、又はＣ１〜２０の１価炭化水素基を示し、１価炭化水素基の場合、構成する−ＣＨ₂−が−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−に置換されていてもよい。Ｒ²はＨ、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。Ｒ³、Ｒ⁴はＨ、又はＣ１〜８の１価炭化水素基を示す。又は、Ｒ³、Ｒ⁴は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に脂肪族炭化水素環を形成してもよい。Ａは、Ｃ１〜６の２価炭化水素基を示す。）含フッ素単量体は、機能性材料、感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための単量体として有用である。単量体からの高分子化合物は高解像性、耐水性に優れ、レジスト材料のベース樹脂として精密な微細加工に極めて有効である。 （もっと読む）

【課題】埋め込み性に優れており、且つ昇華物量が少なく、反射防止機能及びエッチング耐性に優れるレジスト下層膜を形成できるレジスト下層膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】本レジスト下層膜形成用組成物は、下記一般式（１）〜（３）で表される各繰り返し単位を有する重合体と溶剤とを含有する。
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【課題】フルベン系化合物及びその製造方法の提供。
【解決手段】β−位置で置換基を有し、α−位置にハロゲン原子を有する不飽和ケトンを出発物質として用いて２,５位置で置換基を有することができるフルベン系化合物及びその製造方法。該フルベン化合物とシクロペンタジエニル基を有するアニオン基との反応によって得られ、シクロペンタジエニル基のブリッジのα−位置炭素にだけ置換基を有しているメタロセン触媒、及びこれを用いたポリオレフィン共重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】短波長の露光において、最適なｎ値、ｋ値を有し、かつ基板エッチング条件でのエッチング耐性と段差基板上での埋めこみ特性にも優れている、３層レジストプロセス用レジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる３層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する高分子化合物と、有機溶剤を含み、酸発生剤及び架橋剤を含有しないことを特徴とするレジスト下層膜材料。
【化２６】
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【課題】短波長の露光において、最適なｎ値、ｋ値を有し、かつ基板エッチング条件でのエッチング耐性にも優れ、例えば、珪素含有２層レジストプロセス、あるいは珪素含有中間層膜による３層レジストプロセスといった多層レジストプロセス用レジスト下層膜として有望なレジスト下層膜材料を提供する。
【解決手段】リソグラフィーで用いられる多層レジスト膜のレジスト下層膜材料であって、少なくとも、下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有することを特徴とするレジスト下層膜材料。
【化３７】
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【課題】半導体デバイスの製造において、コンタクトホールの解像において優れた感度を有するとともに、固形分を溶剤に溶かす時や経時保存時のパーティクルの発生を防止でき、経時保存による感度の変動を防止できるポジ型フォトレジスト組成物を提供する。
【解決手段】活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定構造の酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び特定の混合溶剤を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】半導体デバイスの製造において、コンタクトホールの解像において優れ
た感度を有するとともに、固形分を溶剤に溶かす時や経時保存時のパーティクル
の発生を防止でき、経時保存による感度の変動を防止できるポジ型フォトレジス
ト組成物を提供する。
【解決手段】活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、特定構造の
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び特定の混
合溶剤を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
。 （もっと読む）

【課題】微細パターン（特に線幅１００ｎｍ以下）の形成においても、ラインエッジラフネスが改良されたレジスト組成物を調製することができる、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂の製造方法、該製造方法によって製造された樹脂、該樹脂を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂を重合によって製造する方法であって、溶媒として、特定の、スルホン構造を有する化合物を用いる樹脂の製造方法、該製造方法によって製造された樹脂、該樹脂を含有するレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】本発明は、狭い分子量分布を有しつつも均一な共単量体分布を有するエチレンα−オレフィン共重合体に関する。本発明に係るエチレンα−オレフィン共重合体は、ランダムな形態またはブロック構造の共単量体分布を有する従来のエチレン共重合体とは異なって均一な共単量体分布を有し、同一の共単量体含量においてより低い密度を示す。 （もっと読む）