【課題】機能性材料、医薬・農薬等の原料として、中でも感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための含フッ素単量体、及び、該含フッ素単量体を極めて容易にかつ安価に製造可能な製造方法を提供する。
【解決手段】相当するフッ素アルコール化合物をエステル化して得られる一般式（５）で示される含フッ素単量体。


（Ｒ^１はＨ、又は炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状又は環状の一価炭化水素基を示し、この時、−ＣＨ_２−は−Ｏ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−に置換されていてもよい。Ｒ^３、Ｒ^４はそれぞれＨ、又は炭素数１〜８の直鎖状、分岐状又は環状の一価炭化水素基を示し、Ｒ^５はＨ、Ｆ、−ＣＨ_３又は−ＣＦ_３を示す。） （もっと読む）

【解決手段】（１）スルホニウム構造を有する構成単位、（２）フェノール性水酸基を有する構成単位、（３）酸不安定基を有する構成単位、（４）アセナフチレン化合物またはインデン化合物において、（１）〜（３）又は（１）〜（４）で示される繰り返し単位を有し、かつ（１）の単位がポリマーを構成する全単位中に占める割合が１０モル％以下であるポリマーを含有する化学増幅ポジ型フォトレジスト材料。
【効果】ベース樹脂のポリマーが一般的に用いられる重合溶剤、精製溶剤やレジスト溶剤に対する溶解性に問題がなく、また、クロム系材料のような、パターン形成に際してのパターン剥がれやパターン崩壊を起こし易い材料を表面に持つ被加工基板上でも、安定したパターン形成ができる。 （もっと読む）

【課題】シクロオレフィンポリマーを含むミクロファイバウェブを製造するための経済的且つ環境に優しいプロセスを提供することを目的とする。
【解決手段】シクロオレフィンポリマーを押出機内で溶融し、押出オリフィス列を通して高速熱気流中に押出すことを含むメルトブロー法によって、少なくとも１種のシクロオレフィンポリマーを含むミクロファイバウェブを製造する。 （もっと読む）

【課題】微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、エッチング耐性及び解像性に優れ、基板界面において良好なパターン形状を与えるポジ型レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）酸不安定基で保護された酸性官能基を有するアルカリ不溶性又は難溶性の樹脂であって、該酸不安定基が脱離したときにアルカリ可溶性となるベース樹脂、（Ｂ）酸発生剤、（Ｃ）塩基性成分として窒素を含有する化合物、を含有するレジスト組成物であって、ベース樹脂は、一般式（１）で表される繰り返し単位を含有すると共に、一般式（２）及び／又は（３）で表される繰り返し単位を１種あるいは２種以上含有し、更に、前記ベース樹脂を構成する全繰り返し単位中、一般式（１）、（２）及び（３）で表される繰り返し単位を７０モル％以上含有する。
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【課題】空孔特性に優れ、表面にナノ〜ミクロンレベルの微細孔を有し、柔軟性と耐熱性に優れる非対称膜を提供する。
【解決手段】式（１）で示されるシロキサン官能性環状オレフィンを含む単量体組成物を付加重合することで得られる環状オレフィン重合体からなる非対称膜。


（式中、Ｒ^１は、互いに独立に、炭素数１〜１２のアルキル基及び／又は炭素数６〜１０のアリール基であり、Ｘは所定のシロキシ基であり、ａは１〜３の整数であり、ｂは０〜２の整数である。） （もっと読む）

【課題】本発明は溶解速度調整剤を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、多環式オレフィンモノマー、及び所望によりアリル的又はオレフィン的モノマーのオリゴマー、並びに多環式オレフィンモノマーを、Ｎｉ又はＰｄを含有していてもよい触媒の存在中で、或いはアリル的モノマーの場合、フリーラジカル開始剤の存在中で反応させることを含むこのようなオリゴマーを製造する方法に関する。オリゴマーは、フォトレジスト組成物中に溶解速度調整剤として含めることができる。フォトレジスト組成物は、更にポリマーの結合樹脂、光酸発生剤、及び溶媒を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、優れた解像性とエッチング耐性を有するネガ型レジスト組成物。
【解決手段】（Ａ）アルカリ可溶性であり、酸の作用によりアルカリ不溶性となるベースポリマー、及び／又は、アルカリ可溶性であり、酸の作用により架橋剤と反応してアルカリ不溶性になるベースポリマーと架橋剤の組み合わせ、（Ｂ）酸発生剤、（Ｃ）塩基性成分として窒素を含有する化合物を含有するレジスト組成物であって、上記ベースポリマーとして用いるポリマーは、アセナフチレン系共重合体、あるいは該ポリマーの有する官能基を更に化学変換して得たポリマーであり、前記得られたポリマーを構成する全繰り返し単位に対して、アセナフチレンモノマー由来の繰り返し単位の合計が５０モル％以上であることを特徴とするネガ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【解決手段】ラクトンを密着性基として有する繰り返し単位と、酸不安定基含有繰り返し単位とを共重合した高分子化合物を含む第１ポジ型レジスト材料で基板上に第１レジスト膜を形成する工程、第１レジスト膜を露光後、加熱処理し、現像して第１レジストパターンを形成する工程、第１レジストパターンにアミン化合物又はオキサゾリン化合物を適用し、C3〜8のアルコール、又はC3〜8のアルコール及びC6〜12のエーテルを含み、前記第１のレジストパターンを溶解しない溶剤を溶媒とする第２ポジ型レジスト材料を塗布し、第２レジスト膜を形成する工程、第２レジスト膜を露光、ＰＥＢ後、現像して第２レジストパターンを形成する工程を含むパターン形成方法。
【効果】本発明によれば、第１レジストパターンのパターンが未形成の部分に第２パターンを形成し、パターン間のピッチを半分にするダブルパターニングを行い、一度のドライエッチングで基板を加工できる。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置の視野角特性改善に有用であり、またリワーク性に優れ、かつ、粘着剤を介して偏光板やガラスセルなど他の部材と積層し液晶表示装置として使用したときの耐久性に優れる位相差フィルムを提供する。
【解決手段】２層の外層の間に内層を有する位相差フィルムであって、両外層はそれぞれ非スチレン系重合材料からなり、内層は負の固有複屈折値を有する重合材料からなり、該位相差フィルムの固有複屈折値が負であり、かつＨａｚｅが０〜１％である位相差フィルムであって、内層を構成する重合材料が、下記の群（Ａ）から選択された化合物、群（Ｂ）から選択された化合物、および群（Ｃ）から選択された化合物を共重合して得られた共重合体を含む重合体を含有する位相差フィルム。
群（Ａ）：炭素原子数２以上のα−オレフィン
群（Ｂ）：芳香族ビニル化合物
群（Ｃ）：環状オレフィン （もっと読む）

【課題】超微細領域での、特に、電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光リソグラフィーにおける、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス及びアウトガス低減を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】繰り返し単位（Ａ）〜（Ｃ）を含有する樹脂（Ｐ）及び沸点１５０℃以下の溶媒を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、及びそれを用いたパターン形成方法。
（Ａ）活性光線又は放射線の照射により分解して酸を生成する基を含有する繰り返し単位
（Ｂ）酸の作用により分解してカルボン酸を生成する基を含有する繰り返し単位
（Ｃ）炭素−炭素不飽和結合を含有する繰り返し単位 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であり、ウォーターマーク欠陥、バブル欠陥、現像残渣欠陥の各々が少ないパターンを形成することが可能、且つ、被覆率依存性が良好な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】フッ素原子を含有する疎水性樹脂（ＨＲ）を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物であって、疎水性樹脂（ＨＲ）が下記一般式（Ｉ）又は（II）で表される繰り返し単位（ａ）を有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。（式中の符号は、特許請求の範囲に記載の定義を有する。）
【化１】
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【課題】多量の重合触媒や多量の分子量調節剤を使用することなく、比較的に低分子量の環状オレフィン付加重合体を与えることができる環状オレフィン付加重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）周期律表第１０族の金属原子を含有してなる有機金属化合物と、（Ｂ）イオン性ホウ素化合物または有機アルミニウム化合物とからなる重合触媒により、環状オレフィン化合物を付加重合させる環状オレフィン付加重合体の製造方法であって、分子量調節剤として特定の不飽和環状（チオ）エーテル化合物を用い、当該分子量調節剤の使用量が、環状オレフィン化合物１モル当り、０．１モル以下であることを特徴とする環状オレフィン付加重合体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】撥水性と滑水性に優れ、現像欠陥が少なく、現像後のレジストパターン形状が良好な液浸リソグラフィー用レジスト材料の添加剤を用いたレジスト材料、この材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）で表される繰り返し単位を有する高分子化合物、（Ｂ）ベース樹脂として酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる高分子化合物、（Ｃ）高エネルギー線の露光により酸を発生する化合物、（Ｄ）有機溶剤を含有するレジスト材料。
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【課題】焦点深度マージン（ＤＯＦ）、表面荒れ、及び現像欠陥が改良された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】−Ｃ(Ｘ₁)(Ｘ₂)(ＯＲ₁)で表される基（Ｘ₁及びＸ₂は、各々独立に、水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素化されたアルキル基を表し、Ｘ₁及びＸ₂のどちらか一方又は両方に少なくとも１個以上のフッ素原子を含む。Ｒ₁は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又は酸分解性基を表す。）を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、及び、少なくとも１つの極性変換基を有する繰り返し単位を含有し、かつ、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】パターンの現像欠陥及びディスタンス依存性が改善された感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）側鎖にノルボルナン構造を有する特定の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかと、アルカリ現像液の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基を有する樹脂を含有することを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】高屈折率・低アッベ数のオレフィン共重合体およびその製造方法、この共重合体からなる光学部品の提供。
【解決手段】炭素原子数２〜３０のα−オレフィン単位と、下記一般式（Ｉ）で表される環状オレフィン単位とからなる、α−オレフィン・環状オレフィン共重合体。


（ｘは０または１以上の整数。Ｒ⁸¹〜Ｒ⁸⁸は水素原子、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基から選ばれ、Ｒ⁹¹〜Ｒ⁹⁴は水素原子、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基から選ばれ、隣接する２つの基は互いに結合し単環または複環の芳香族環を形成していてもよい） （もっと読む）

【課題】高屈折率・低アッベ数のオレフィン共重合体およびその製造方法、この共重合体からなる光学部品の提供。
【解決手段】炭素数２〜３０のα−オレフィン構成単位と、下記一般式（Ｉ）で表される環状オレフィン構成単位からなるα−オレフィン・環状オレフィン共重合体。


（ｘは０または１以上の整数。Ｒ⁸¹〜Ｒ⁸⁸は水素原子、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基から選ばれ、Ｒ⁹¹〜Ｒ⁹⁴は水素原子、ハロゲン原子、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基から選ばれ、隣接する２つの基は互いに結合し単環または複環の芳香族環を形成していてもよい。芳香族環上の置換基のうち少なくとも１つはハロゲン原子） （もっと読む）

【課題】水残り欠陥、バブル欠陥、現像残渣欠陥の少ないパターンを形成することが可能であり、さらにＬＷＲの優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】主鎖に多環構造を有し、かつ該多環構造が酸の作用により分解しアルカリ現像液に対する溶解性が増大する部位を有する繰り返し単位（a）を含む樹脂（ＨＲ）を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】融点が比較的低く、かつ溶液状態からの単離が困難なポリオレフィンをハロゲン化する反応において、反応器壁や撹拌翼への付着を抑制して、反応後のポリマーの回収を容易にする方法を提供する。
【解決手段】特定のα−オレフィン系（共）重合体のうち、融点が２０℃以上７０℃未満であり、かつ数平均分子量が５×１０^３〜１×１０^６の範囲であるオレフィン系重合体ペレットを、該ペレットが溶融しない条件下で（つまり、２０℃以上５０℃以下の水中に分散させて）、ハロゲン化剤と反応させてハロゲン変性オレフィン系重合体ペレットを製造する。 （もっと読む）

【課題】
臨床検査用自動分析装置で用いられる試薬収容容器において、容器の成形がし易く、凍結乾燥処理を行うことが可能であり、安価な、試薬を収容可能な臨床検査用試薬収容容器を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明は、臨床検査用試薬を収容し、臨床検査用自動分析装置に用いられる臨床検査用試薬収容容器であって、シクロオレフィンコポリマーを一体成形することにより得られ、凍結乾燥処理に適用可能であることを特徴とする臨床検査用試薬収容容器を提供する。 （もっと読む）